JPH025273A - 大径光デイスク用カートリツジケース - Google Patents
大径光デイスク用カートリツジケースInfo
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- JPH025273A JPH025273A JP15492288A JP15492288A JPH025273A JP H025273 A JPH025273 A JP H025273A JP 15492288 A JP15492288 A JP 15492288A JP 15492288 A JP15492288 A JP 15492288A JP H025273 A JPH025273 A JP H025273A
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- resin
- resin composition
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- polyphenylene ether
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
（産業上の利用分野）
本発明は、ポリフェニレンエーテル系樹脂とスチレン系
樹脂とからなる樹脂組成物から形成された大径光ディス
ク用カートリッジケースに関するものでアシ、特に大径
光ディスク用カートリッジケースの平面度の改良に関す
るものである。 （従来の技術） 現在、光ディスクは、基材としてポリメチルメタアクリ
レート（ＰＭＭ人）、ポリカーゼネート（ＰＯ）などの
光透過性シラスナックやガラスなどが用いられ、３．５
インチ、５．２５インチ、８インチ及び１２インチの４
種類が開発され販売されている。この光ディスクは、表
面からレーザー光を透過させて、記録、読み取シを行う
ものである。従って表面のゴミ、油、傷などが場合によ
っては記録や再生時のエラーの原因となることがある。 その為、一般に表面を保護する為に保護ケースに収納さ
れた形で使用されている。 この光ディスクの保護ケースは、通常「カートリッジケ
ース」と呼ばれており、軽量、成形性、取シ扱い易さ等
の点から、ＡＢ８樹脂やｐｃ樹脂などのプラスチックを
用い、射出成形によシ成形した成形品が使用されている
。 （発明が解決しようとする問題点） しかし、５．２５インチ以下の光ディスクに用いるカー
トリッジケースは、小径サイズであるが故にケースの平
面性が良く、実用環境下においても変形の度合いが小さ
いが、８インチ以上の大径光ディスクに用いるカートリ
ッジケースは、サイズが太きいためにケース全体の平面
性を良好に維持することか難しく、かつ実用環境下にお
いてもクリープその他の変形の度合いが大きくなるため
、収納している光ディスクとカートリッジケース内面が
接触して光ディスクの表面を傷つけたり、光ディスクド
ライブの内部とカートリッジケース外面が接触して正常
な動作ができないという問題が発生し易かった。それ故
、カートリッジケースの構造設計上大きな制約を受け、
特にカートリッジケース組立時の初期精度を向上させる
と同時に、高温、高湿下で長期に寸法精度を維持するこ
とが大きな課題となっている。 （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、大径光ディスクカートリッジケースの上
記の如き問題点を解決すべく鋭意検討を行った結果、メ
ルトフローレートが１０以上、熱変形温度が１００℃以
上、最大反シ量が±０．８■以下である、ポリフェニレ
ンエーテル系樹脂とスチレン系樹脂とからなる樹脂組成
物を用いることによシ、構造設計上の自由度が大きく、
製品組立時の平面度が良好で、かつ、製品間の／セラツ
キも小さく、更に、高温高湿下においても変形度が小さ
いカートリッジケースが得られることを見出し、本発明
を完成した。 即ち、本発明は、ポリフェニレンエーテル系樹脂とスチ
レン系樹脂とからなシ、かつ、メルトフローレートが１
０以上、熱変形温度が１００℃以上、最太反シ量が±０
．８ｗ以下である樹脂組成物を用いることを特徴とする
大径光ディスク用カートリッジケースである。 本発明に用いるポリフェニレンエーテル系樹脂とは、一
般式 （式中、ａｍ、 ｕ、、 Ｒｌｓ Ｒ４１Ｒｆ！ａ Ｒ
６は炭素数１〜４のアルキル基、アリール基、ハロゲン
、水２等の一価の残基であシ、Ｒ，、Ｒ，は同時に水素
ではない。）を繰返し単位とし、構成単位が〔Ｃ〕又は
、
樹脂とからなる樹脂組成物から形成された大径光ディス
ク用カートリッジケースに関するものでアシ、特に大径
光ディスク用カートリッジケースの平面度の改良に関す
るものである。 （従来の技術） 現在、光ディスクは、基材としてポリメチルメタアクリ
レート（ＰＭＭ人）、ポリカーゼネート（ＰＯ）などの
光透過性シラスナックやガラスなどが用いられ、３．５
インチ、５．２５インチ、８インチ及び１２インチの４
種類が開発され販売されている。この光ディスクは、表
面からレーザー光を透過させて、記録、読み取シを行う
ものである。従って表面のゴミ、油、傷などが場合によ
っては記録や再生時のエラーの原因となることがある。 その為、一般に表面を保護する為に保護ケースに収納さ
れた形で使用されている。 この光ディスクの保護ケースは、通常「カートリッジケ
ース」と呼ばれており、軽量、成形性、取シ扱い易さ等
の点から、ＡＢ８樹脂やｐｃ樹脂などのプラスチックを
用い、射出成形によシ成形した成形品が使用されている
。 （発明が解決しようとする問題点） しかし、５．２５インチ以下の光ディスクに用いるカー
トリッジケースは、小径サイズであるが故にケースの平
面性が良く、実用環境下においても変形の度合いが小さ
いが、８インチ以上の大径光ディスクに用いるカートリ
ッジケースは、サイズが太きいためにケース全体の平面
性を良好に維持することか難しく、かつ実用環境下にお
いてもクリープその他の変形の度合いが大きくなるため
、収納している光ディスクとカートリッジケース内面が
接触して光ディスクの表面を傷つけたり、光ディスクド
ライブの内部とカートリッジケース外面が接触して正常
な動作ができないという問題が発生し易かった。それ故
、カートリッジケースの構造設計上大きな制約を受け、
特にカートリッジケース組立時の初期精度を向上させる
と同時に、高温、高湿下で長期に寸法精度を維持するこ
とが大きな課題となっている。 （問題点を解決するための手段） 本発明者らは、大径光ディスクカートリッジケースの上
記の如き問題点を解決すべく鋭意検討を行った結果、メ
ルトフローレートが１０以上、熱変形温度が１００℃以
上、最大反シ量が±０．８■以下である、ポリフェニレ
ンエーテル系樹脂とスチレン系樹脂とからなる樹脂組成
物を用いることによシ、構造設計上の自由度が大きく、
製品組立時の平面度が良好で、かつ、製品間の／セラツ
キも小さく、更に、高温高湿下においても変形度が小さ
いカートリッジケースが得られることを見出し、本発明
を完成した。 即ち、本発明は、ポリフェニレンエーテル系樹脂とスチ
レン系樹脂とからなシ、かつ、メルトフローレートが１
０以上、熱変形温度が１００℃以上、最太反シ量が±０
．８ｗ以下である樹脂組成物を用いることを特徴とする
大径光ディスク用カートリッジケースである。 本発明に用いるポリフェニレンエーテル系樹脂とは、一
般式 （式中、ａｍ、 ｕ、、 Ｒｌｓ Ｒ４１Ｒｆ！ａ Ｒ
６は炭素数１〜４のアルキル基、アリール基、ハロゲン
、水２等の一価の残基であシ、Ｒ，、Ｒ，は同時に水素
ではない。）を繰返し単位とし、構成単位が〔Ｃ〕又は
、
〔０〕およびＣＤ〕からなる単独重合体、あるいは共
重合体が使用できる。 ポリフェニレンエーテル樹脂の単独重合体の代表例とし
ては、ポリ（２，６−シメチルー１，４−フェニレン）
エーテル、ｙｔｅす（２−メｆルー６−ニチルー１．４
−７二二レン）エーテル、ポリ（２，６−、ｊｚチル−
１，４−）ユニしン）エーテル、ポリ（２−エチル−６
−ｎプロピル−１，４−）ユニしン）エーテル、ポリ（
２，６−ジ−ｎプロピル−１゜４−）ユニしン）エーテ
ル％ ｙｔｅす（２’−メｆルー６− ｎジチル−１，
４−フェニレン）エーテル、−リ（２−エチル−６−イ
ンブロビルー１．４−７二二レン）エーテル、ｙｔｅ１
Ｊ（２−，７１チル−６−クロ＃−１，４−フェニレン
）エーテル、ポリ（２−メチル−６−ヒドロキシエチル
−１，４−フェニレン）エーテル、ｙｔｔ’１Ｊ（２−
メチル−６−クロロエチル−１，４−フェニン／）エー
テル等のホモポリマーが挙げられる。 ポリフェニレンエーテル共重合体は、一般式（ここにＲ
３＋几４．ＲＩ＋Ｒ−は前記と同一の意味を有する。）
で表わされる２、３．６−ドリメチルフエノール等のア
ルキル置換フェノールと１例えば、〇−クレゾール等と
を共重合して得られるポリフェニレンエーテル構造を主
体としてなるポリフェニレンエーテル共重合体を包含す
る。 本発明に使用し得るスチレン系樹脂は、具体的には、次
式： （式中、Ｒは水素、低級アルキルまたはハロゲンを示し
、２はビニル、水素、塩素および低級アルキルよりなる
群から選択され、ｐはθ〜５の整数である）で表わされ
る化合物から誘導されるポリマー単位を少なくとも２５
重量％有するものである。例えばポリスチレンおよびポ
リクロロスチレン、変性ポリスチレン、例えばゴム変性
ポリスチレンならびにスチレン含有コポリマー、例えば
メチレン−アクリロニトリルコポリマー（８ＡＮ）、ス
チレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−アクリロニ
トリル−ブタジェンコポリマー（人ＢＳ）、ポリα−メ
チルスチレン、エチルビニルベンゼントシビニルベンゼ
ンのコポリマーなどを包含する。 本発明に好適なスチレン系樹脂は、ビム変性耐衝撃性ス
チレン樹脂、例えば天然または合成ゴムで変性されたポ
リスチレンである。尚、ここで言うザム変性耐衝撃性ス
チレン樹脂とは、ゴムにスチレンをグラフト重合したも
の及び単にゴムと、ポリスチレンを機械的に混練したも
のを包含する。 変性用合成ゴムは、例えばポリブタジエ／、ポリイソプ
レン、ジエンと他のコモノマー、例えばスチレン、アク
リロニトリル、アクリル酸エステルなどとよシなシ、Ａ
−Ｂ−ＡおよびＡ−Ｂ型（Ａはビニル芳香族、例えばス
チレン、Ｂはジエン、例えばブタジェン）のブロックコ
ポリマーを含むｔム状コポリマーならびにエチレンープ
四ピレンージェンターポリマー（ＢＰＤＭ）ゴムなどで
ある。ポリスチレンをブタジェンゴムで変性するのがも
つとも好適である。 本発明でいうメルトフローレートとは％ＪＩＳＫ−７２
１０に従う試験法によるもので、試験条件は２５０℃／
１０Ｋｆでの値である。本発明においては、樹脂組成物
のメルトフローレートが１０以上であることが必要であ
り、１２〜３５が好ましい。メルトフローレートが１０
未満の場合、成形後の残留歪が大きく、初期のケースの
反シ量を０．８−以下に抑えることが困難である。 本発明でいう熱変形温度とは、Ａ８ＴＭ −Ｄ ６４８
に従う試験法によるもので、条件は１８．６ｈ／−での
値である。本発明においては、樹脂組成物の熱変形温度
が１００℃以上であることが必要であシ、１１０℃以上
が好ましい。熱変形温度が１００℃未満では、クリープ
歪が大きく、高温高湿下で使用中に反り量が０．８ ｍ
をこえてしまい、実用に耐えなく力ってしまう。 本発明のカートリッジケースの成形は、ポリスエニレン
系樹脂７５〜１５重量％、スチレン系樹脂２５〜８５重
量％を用い、一般の射出成形機を用いて、一般の成形条
件の範囲内で、ケースの最大反り量の範囲内で実現でき
る。最大及多量が±０．８１以上では、収納ディスクが
カートリッジケースに接触し、効果を発揮することがで
きない。 本発明でいうカートリッジケースの平面度とは、第１図
のように、カートリッジケース２を測定支持台３上（４
点支持）にのせ、定盤４上を電子式マイクロメータ１を
すべらせることによって測定する。１２インチ光ディス
クカートリッジケースは、一般的に第２図のように開口
部５，６及び検出部７を有しておシ、第１図の測定を行
う場合は、第３図に示すように、ア点を基準として、イ
、つ、二点を主に測定する。カートリッジケース全面の
内、イ、つ、二点の反シが大きく、中でもつ点の反シが
大きい。光ディスク用カートリッジケースの反υが問題
となるのは、光ディスク用カートリッジがドライブにロ
ーディングされている時で、通常、第１図と同様に、カ
ートリッジケースは横置き状態となる。この状態で動作
する時、ケースの例えばつ部が大きく変形していると、
ケース内面と光ディスクが接触したシ、ケースとドライ
ブの機械部が接触してしまいトラブルが発生する。 更に、ローディング当初はケースの反シが小さくても、
ドライブ中で連続作動している間に、ドライブ内部の温
度が上昇し、ケースの変形を大きくしてしまう。カート
リッジケースの反シの許容範囲は、使用するドライブ装
置との組み合せＫよって多少異なるが、一般的に±１ｍ
程度である。更に、光ディスクを使用する環境は、１２
インチ元ディスクの場合、特に通常の空調された部屋、
即ち２５℃、５０〜６０％ＲＨ下で使用される為、ドラ
イブ装置の連続動作中の温度は高々４０℃程度である。 従って、本発明者らは、１２インチ光ディスクの平面度
の評価法として、長期寸法安定性を評価する条４オは、
４０℃、８０％Ｒ）Ｉの環境を用いた。 （発明の効果） 本発明の大径光ディスク用カートリッジケースは、構造
設計上の自由度が大きく、組立時の平面度が良好で、か
つ、製品のバラツキも小さく、さらに、高温高湿下にお
いても変形度が小さい等の効果を有する。 （実施例） 以下、実施例によシ本発明を詳述する。 実施例 第１表に示す物性値を有する樹脂組成物ＡＣ（旭化成工
業■製、ザイロン■Ｘ０６１０ （３００Ｈの変性グレ
ード））％Ｂ（旭化成工業■製、ザイロン×０６１３
（３００Ｈの変性グレード）〕を用いて、１２インチ光
ディスクカートリッジケースを成形し、１２インチ光デ
ィスクを収納して各々５ケースずつ組み込み、第３図に
示すつ部の反シ量を、初期値並びに、４０％、８０％Ｒ
Ｈ条件下に横置き放置して随時２５℃環境下に取シ出し
て測定した値を第４図及び第５図に示す（ケースは各々
横置き状態比較例 メルトフローレート１００ （２５℃、ｘｏＫｙ）、熱
変形温度９０℃のＡＢＳ樹脂（脂化成製、商品名；スタ
イラックＩＭ−１０）及び、熱変形温度１３０℃のＰＣ
樹脂（三菱化成製、商品名； Ｎ０ＶＡＲＢＸ ７０２
０Ａ ）のｚｍ類を用いる以外は実施例と同様に１２イ
ンチ光ディスク用カートリッジケースを成形し、各々５
ケースずつ測定を行った。その結果を第６図及び第７図
に示す。これらの図よυ、ＡＢＳ樹脂はクリープが大き
く、又、ＰＣ樹脂は反シ量の・々ラツキが大きいことが
わかる。 第 １ 表 カートリッジは非常に良好な平面性を有することがわか
る。
重合体が使用できる。 ポリフェニレンエーテル樹脂の単独重合体の代表例とし
ては、ポリ（２，６−シメチルー１，４−フェニレン）
エーテル、ｙｔｅす（２−メｆルー６−ニチルー１．４
−７二二レン）エーテル、ポリ（２，６−、ｊｚチル−
１，４−）ユニしン）エーテル、ポリ（２−エチル−６
−ｎプロピル−１，４−）ユニしン）エーテル、ポリ（
２，６−ジ−ｎプロピル−１゜４−）ユニしン）エーテ
ル％ ｙｔｅす（２’−メｆルー６− ｎジチル−１，
４−フェニレン）エーテル、−リ（２−エチル−６−イ
ンブロビルー１．４−７二二レン）エーテル、ｙｔｅ１
Ｊ（２−，７１チル−６−クロ＃−１，４−フェニレン
）エーテル、ポリ（２−メチル−６−ヒドロキシエチル
−１，４−フェニレン）エーテル、ｙｔｔ’１Ｊ（２−
メチル−６−クロロエチル−１，４−フェニン／）エー
テル等のホモポリマーが挙げられる。 ポリフェニレンエーテル共重合体は、一般式（ここにＲ
３＋几４．ＲＩ＋Ｒ−は前記と同一の意味を有する。）
で表わされる２、３．６−ドリメチルフエノール等のア
ルキル置換フェノールと１例えば、〇−クレゾール等と
を共重合して得られるポリフェニレンエーテル構造を主
体としてなるポリフェニレンエーテル共重合体を包含す
る。 本発明に使用し得るスチレン系樹脂は、具体的には、次
式： （式中、Ｒは水素、低級アルキルまたはハロゲンを示し
、２はビニル、水素、塩素および低級アルキルよりなる
群から選択され、ｐはθ〜５の整数である）で表わされ
る化合物から誘導されるポリマー単位を少なくとも２５
重量％有するものである。例えばポリスチレンおよびポ
リクロロスチレン、変性ポリスチレン、例えばゴム変性
ポリスチレンならびにスチレン含有コポリマー、例えば
メチレン−アクリロニトリルコポリマー（８ＡＮ）、ス
チレン−ブタジェンコポリマー、スチレン−アクリロニ
トリル−ブタジェンコポリマー（人ＢＳ）、ポリα−メ
チルスチレン、エチルビニルベンゼントシビニルベンゼ
ンのコポリマーなどを包含する。 本発明に好適なスチレン系樹脂は、ビム変性耐衝撃性ス
チレン樹脂、例えば天然または合成ゴムで変性されたポ
リスチレンである。尚、ここで言うザム変性耐衝撃性ス
チレン樹脂とは、ゴムにスチレンをグラフト重合したも
の及び単にゴムと、ポリスチレンを機械的に混練したも
のを包含する。 変性用合成ゴムは、例えばポリブタジエ／、ポリイソプ
レン、ジエンと他のコモノマー、例えばスチレン、アク
リロニトリル、アクリル酸エステルなどとよシなシ、Ａ
−Ｂ−ＡおよびＡ−Ｂ型（Ａはビニル芳香族、例えばス
チレン、Ｂはジエン、例えばブタジェン）のブロックコ
ポリマーを含むｔム状コポリマーならびにエチレンープ
四ピレンージェンターポリマー（ＢＰＤＭ）ゴムなどで
ある。ポリスチレンをブタジェンゴムで変性するのがも
つとも好適である。 本発明でいうメルトフローレートとは％ＪＩＳＫ−７２
１０に従う試験法によるもので、試験条件は２５０℃／
１０Ｋｆでの値である。本発明においては、樹脂組成物
のメルトフローレートが１０以上であることが必要であ
り、１２〜３５が好ましい。メルトフローレートが１０
未満の場合、成形後の残留歪が大きく、初期のケースの
反シ量を０．８−以下に抑えることが困難である。 本発明でいう熱変形温度とは、Ａ８ＴＭ −Ｄ ６４８
に従う試験法によるもので、条件は１８．６ｈ／−での
値である。本発明においては、樹脂組成物の熱変形温度
が１００℃以上であることが必要であシ、１１０℃以上
が好ましい。熱変形温度が１００℃未満では、クリープ
歪が大きく、高温高湿下で使用中に反り量が０．８ ｍ
をこえてしまい、実用に耐えなく力ってしまう。 本発明のカートリッジケースの成形は、ポリスエニレン
系樹脂７５〜１５重量％、スチレン系樹脂２５〜８５重
量％を用い、一般の射出成形機を用いて、一般の成形条
件の範囲内で、ケースの最大反り量の範囲内で実現でき
る。最大及多量が±０．８１以上では、収納ディスクが
カートリッジケースに接触し、効果を発揮することがで
きない。 本発明でいうカートリッジケースの平面度とは、第１図
のように、カートリッジケース２を測定支持台３上（４
点支持）にのせ、定盤４上を電子式マイクロメータ１を
すべらせることによって測定する。１２インチ光ディス
クカートリッジケースは、一般的に第２図のように開口
部５，６及び検出部７を有しておシ、第１図の測定を行
う場合は、第３図に示すように、ア点を基準として、イ
、つ、二点を主に測定する。カートリッジケース全面の
内、イ、つ、二点の反シが大きく、中でもつ点の反シが
大きい。光ディスク用カートリッジケースの反υが問題
となるのは、光ディスク用カートリッジがドライブにロ
ーディングされている時で、通常、第１図と同様に、カ
ートリッジケースは横置き状態となる。この状態で動作
する時、ケースの例えばつ部が大きく変形していると、
ケース内面と光ディスクが接触したシ、ケースとドライ
ブの機械部が接触してしまいトラブルが発生する。 更に、ローディング当初はケースの反シが小さくても、
ドライブ中で連続作動している間に、ドライブ内部の温
度が上昇し、ケースの変形を大きくしてしまう。カート
リッジケースの反シの許容範囲は、使用するドライブ装
置との組み合せＫよって多少異なるが、一般的に±１ｍ
程度である。更に、光ディスクを使用する環境は、１２
インチ元ディスクの場合、特に通常の空調された部屋、
即ち２５℃、５０〜６０％ＲＨ下で使用される為、ドラ
イブ装置の連続動作中の温度は高々４０℃程度である。 従って、本発明者らは、１２インチ光ディスクの平面度
の評価法として、長期寸法安定性を評価する条４オは、
４０℃、８０％Ｒ）Ｉの環境を用いた。 （発明の効果） 本発明の大径光ディスク用カートリッジケースは、構造
設計上の自由度が大きく、組立時の平面度が良好で、か
つ、製品のバラツキも小さく、さらに、高温高湿下にお
いても変形度が小さい等の効果を有する。 （実施例） 以下、実施例によシ本発明を詳述する。 実施例 第１表に示す物性値を有する樹脂組成物ＡＣ（旭化成工
業■製、ザイロン■Ｘ０６１０ （３００Ｈの変性グレ
ード））％Ｂ（旭化成工業■製、ザイロン×０６１３
（３００Ｈの変性グレード）〕を用いて、１２インチ光
ディスクカートリッジケースを成形し、１２インチ光デ
ィスクを収納して各々５ケースずつ組み込み、第３図に
示すつ部の反シ量を、初期値並びに、４０％、８０％Ｒ
Ｈ条件下に横置き放置して随時２５℃環境下に取シ出し
て測定した値を第４図及び第５図に示す（ケースは各々
横置き状態比較例 メルトフローレート１００ （２５℃、ｘｏＫｙ）、熱
変形温度９０℃のＡＢＳ樹脂（脂化成製、商品名；スタ
イラックＩＭ−１０）及び、熱変形温度１３０℃のＰＣ
樹脂（三菱化成製、商品名； Ｎ０ＶＡＲＢＸ ７０２
０Ａ ）のｚｍ類を用いる以外は実施例と同様に１２イ
ンチ光ディスク用カートリッジケースを成形し、各々５
ケースずつ測定を行った。その結果を第６図及び第７図
に示す。これらの図よυ、ＡＢＳ樹脂はクリープが大き
く、又、ＰＣ樹脂は反シ量の・々ラツキが大きいことが
わかる。 第 １ 表 カートリッジは非常に良好な平面性を有することがわか
る。
第１図は光ディスク用カートリッジケースの平面度測定
法を説明するだめの正面図、第２図は１２インチ光ディ
スク用カートリッジケースの平面図、第３図は第２図に
示すカートリッジケースの平面度の測定点を説明するた
めの平面図、第４図及び第５図は本発明実施例に用いた
カートリッジケースの平面度の測定結果を示すグラフ
第６図及び第７図は比較例に用いたカー） ＩＪツジケ
ースの平面度の測定結果を示すグラフである。 図中；１は電子式マイクロメータ、２はカートリッジケ
ース、３はカートリッジケースの支持台（４点支持）、
４は定盤、５はレーザーヘッドのだめの開口部、６は光
ディスクチャッキングのための開口部、７はインデック
ス検出部、アは平面度測定のための基準点、イ、つ、工
は測定点を示す。 第１図 第 ２ 図 特許出願人 旭化成工業株式会社 第 図 （Ｗ ＜ｈ−Ｑ）
法を説明するだめの正面図、第２図は１２インチ光ディ
スク用カートリッジケースの平面図、第３図は第２図に
示すカートリッジケースの平面度の測定点を説明するた
めの平面図、第４図及び第５図は本発明実施例に用いた
カートリッジケースの平面度の測定結果を示すグラフ
第６図及び第７図は比較例に用いたカー） ＩＪツジケ
ースの平面度の測定結果を示すグラフである。 図中；１は電子式マイクロメータ、２はカートリッジケ
ース、３はカートリッジケースの支持台（４点支持）、
４は定盤、５はレーザーヘッドのだめの開口部、６は光
ディスクチャッキングのための開口部、７はインデック
ス検出部、アは平面度測定のための基準点、イ、つ、工
は測定点を示す。 第１図 第 ２ 図 特許出願人 旭化成工業株式会社 第 図 （Ｗ ＜ｈ−Ｑ）
Claims (1)
- ポリフエニレンエーテル系樹脂とスチレン系樹脂とから
なり、かつ、メルトフローレートが１０以上、熱変形温
度が１００℃以上、最大反り量が±０．８ｍｍ以下であ
る樹脂組成物を用いることを特徴とする大径光ディスク
用カートリッジケース
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15492288A JPH025273A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 大径光デイスク用カートリツジケース |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15492288A JPH025273A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 大径光デイスク用カートリツジケース |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH025273A true JPH025273A (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=15594883
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15492288A Pending JPH025273A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 大径光デイスク用カートリツジケース |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH025273A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0458558A2 (en) * | 1990-05-21 | 1991-11-27 | Hitachi Maxell Ltd. | A data recording cartridge and a flexible magnetic recording medium and a method of manufacturing the same |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6213901A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-22 | 三菱重工業株式会社 | 高速流動床ボイラの主蒸気圧力制御方法 |
| JPS6273475A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-04 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光デイスク装置 |
| JPS6254577B2 (ja) * | 1984-08-13 | 1987-11-16 | Nippon Steel Corp |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP15492288A patent/JPH025273A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6254577B2 (ja) * | 1984-08-13 | 1987-11-16 | Nippon Steel Corp | |
| JPS6213901A (ja) * | 1985-07-10 | 1987-01-22 | 三菱重工業株式会社 | 高速流動床ボイラの主蒸気圧力制御方法 |
| JPS6273475A (ja) * | 1985-09-25 | 1987-04-04 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光デイスク装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0458558A2 (en) * | 1990-05-21 | 1991-11-27 | Hitachi Maxell Ltd. | A data recording cartridge and a flexible magnetic recording medium and a method of manufacturing the same |
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