JPH0250134B2 - - Google Patents
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- JPH0250134B2 JPH0250134B2 JP13152885A JP13152885A JPH0250134B2 JP H0250134 B2 JPH0250134 B2 JP H0250134B2 JP 13152885 A JP13152885 A JP 13152885A JP 13152885 A JP13152885 A JP 13152885A JP H0250134 B2 JPH0250134 B2 JP H0250134B2
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- JP
- Japan
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- vacuum
- processing chamber
- vacuum processing
- chamber
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Links
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
- H01J37/185—Means for transferring objects between different enclosures of different pressure or atmosphere
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
Ａ 発明の目的
(1) 産業上の利用分野
本発明は、真空処理方法および装置に関する。
(2) 従来の技術
従来、合成樹脂製品の塗装前処理方法として、
0.1〜5Torrという高真空雰囲気で酸素ガスを用
いた低温プラズマ処理を行なうものが、たとえば
特開昭54−141340号などで知られている。
0.1〜5Torrという高真空雰囲気で酸素ガスを用
いた低温プラズマ処理を行なうものが、たとえば
特開昭54−141340号などで知られている。
(3) 発明が解決しようとする問題点
上記従来技術では、第１排気室、真空室および
第２排気室を順に配置し、第１排気室から真空室
に被処理物を移動させるときには、第１排気室を
大気圧から処理真空度まで減圧し、第１排気室お
よび真空室の真空度を一致させてから、第１排気
室および真空室を連通させて被処理物を移動させ
ている。このため、被処理物が、たとえば自動車
用バンパなどのように大型のものである場合に
は、第１排気室および真空室の容積が大きくなる
のに伴つて、所定の真空度を得るための吸引装置
の大型化、操業費の増大化を招き、処理までの準
備時間の長大化等により生産性が低下する等の不
具合が生じていた。
第２排気室を順に配置し、第１排気室から真空室
に被処理物を移動させるときには、第１排気室を
大気圧から処理真空度まで減圧し、第１排気室お
よび真空室の真空度を一致させてから、第１排気
室および真空室を連通させて被処理物を移動させ
ている。このため、被処理物が、たとえば自動車
用バンパなどのように大型のものである場合に
は、第１排気室および真空室の容積が大きくなる
のに伴つて、所定の真空度を得るための吸引装置
の大型化、操業費の増大化を招き、処理までの準
備時間の長大化等により生産性が低下する等の不
具合が生じていた。
本発明は、かかる従来の問題点を解決すべくな
されたものであり、吸引装置の大型化を避けて高
真空を得ることができるとともに、生産性の向上
および操業費の低減を図つた真空処理方法および
装置を提供することを目的とする。
されたものであり、吸引装置の大型化を避けて高
真空を得ることができるとともに、生産性の向上
および操業費の低減を図つた真空処理方法および
装置を提供することを目的とする。
Ｂ 発明の構成
(1) 問題点を解決するための手段
本発明方法によれば、真空処理室の両側に、被
処理物の投入、払出しが可能な予備真空室を、真
空処理室との連通、遮断を切換可能にしてそれぞ
れ配置し、両予備真空室および真空処理室間で被
処理物を交互に移動させて真空処理室で被処理物
を所定時間だけ真空処理するようにし、一方の予
備真空室から被処理物を真空処理室に移動させる
とともに真空処理室から処理済みの被処理物を他
方の予備真空室に移動させたときには、真空処理
室および両予備真空室間を相互に遮断した後、真
空処理室では必要な真空度までの減圧を行ない、
前記一方の予備真空室では真空処理に必要な真空
度よりもさらに減圧し、前記他方の予備真空室で
は被処理物の払出しおよび新たな投入を行なつた
後に大気圧状態からの減圧を開始し、真空処理室
での真空処理後に真空処理室および両予備真空室
を連通させて被処理物の移動を行なうようにし
た。
処理物の投入、払出しが可能な予備真空室を、真
空処理室との連通、遮断を切換可能にしてそれぞ
れ配置し、両予備真空室および真空処理室間で被
処理物を交互に移動させて真空処理室で被処理物
を所定時間だけ真空処理するようにし、一方の予
備真空室から被処理物を真空処理室に移動させる
とともに真空処理室から処理済みの被処理物を他
方の予備真空室に移動させたときには、真空処理
室および両予備真空室間を相互に遮断した後、真
空処理室では必要な真空度までの減圧を行ない、
前記一方の予備真空室では真空処理に必要な真空
度よりもさらに減圧し、前記他方の予備真空室で
は被処理物の払出しおよび新たな投入を行なつた
後に大気圧状態からの減圧を開始し、真空処理室
での真空処理後に真空処理室および両予備真空室
を連通させて被処理物の移動を行なうようにし
た。
また本発明装置は、真空処理室と；被処理物の
投入、払出しを可能として真空処理室の両側にそ
れぞれ配置される一対の予備真空室と；真空処理
室および両予備真空室間の連通、遮断を切換える
べく真空処理室および両予備真空室間に配設され
る一対のシヤツタと；両予備真空室および真空処
理室間で被処理物を交互に移動させるべく両予備
真空室および真空処理室間にそれぞれ配設される
一対の搬送手段と；真空処理室および両予備真空
室に切換弁を介して共通に接続される吸引手段
と；前記シヤツタ、搬送手段、吸引手段および切
換弁の作動を制御する制御手段と；を備え、該制
御手段は、真空処理室で被処理物を真空処理して
るときに、該被処理物を受入れるべく空の状態で
待機している一方の予備真空室を、真空処理に必
要な真空度よりもさらに減圧し、新たな被処理物
を投入後の他方の予備真空室を大気圧から減圧
し、真空処理終了後に真空処理室および両予備真
空室を連通して被処理物の移動を行なわしめるべ
く前記シヤツタ、搬送手段、吸引手段および切換
弁を制御する機能を有する。
投入、払出しを可能として真空処理室の両側にそ
れぞれ配置される一対の予備真空室と；真空処理
室および両予備真空室間の連通、遮断を切換える
べく真空処理室および両予備真空室間に配設され
る一対のシヤツタと；両予備真空室および真空処
理室間で被処理物を交互に移動させるべく両予備
真空室および真空処理室間にそれぞれ配設される
一対の搬送手段と；真空処理室および両予備真空
室に切換弁を介して共通に接続される吸引手段
と；前記シヤツタ、搬送手段、吸引手段および切
換弁の作動を制御する制御手段と；を備え、該制
御手段は、真空処理室で被処理物を真空処理して
るときに、該被処理物を受入れるべく空の状態で
待機している一方の予備真空室を、真空処理に必
要な真空度よりもさらに減圧し、新たな被処理物
を投入後の他方の予備真空室を大気圧から減圧
し、真空処理終了後に真空処理室および両予備真
空室を連通して被処理物の移動を行なわしめるべ
く前記シヤツタ、搬送手段、吸引手段および切換
弁を制御する機能を有する。
(2) 作 用
本発明方法によれば、真空処理室内で真空処理
が行なわれている間に、真空処理室内に被処理物
を移動させて空いたままの予備真空室内は、真空
処理に必要な真空度よりも減圧されており、新た
に被処理物を投入した予備真空室では大気圧から
の減圧が行なわれているが、真空処理後に、真空
処理室および両予備真空室を連通することによ
り、各室の真空度は同一となる。したがつて、新
たに被処理物を投入した予備真空室内を真空処理
に必要な真空度まで減圧する必要はなく、吸引装
置を大型化せずに所要の真空度を得ることが可能
となるとともに生産性の向上、操業費の低減が可
能となる。
が行なわれている間に、真空処理室内に被処理物
を移動させて空いたままの予備真空室内は、真空
処理に必要な真空度よりも減圧されており、新た
に被処理物を投入した予備真空室では大気圧から
の減圧が行なわれているが、真空処理後に、真空
処理室および両予備真空室を連通することによ
り、各室の真空度は同一となる。したがつて、新
たに被処理物を投入した予備真空室内を真空処理
に必要な真空度まで減圧する必要はなく、吸引装
置を大型化せずに所要の真空度を得ることが可能
となるとともに生産性の向上、操業費の低減が可
能となる。
また本発明は装置では、制御手段で切換弁を切
換えることにより、吸引手段を連続的に稼動させ
ながら、各室の減圧を切換えて行なうので、吸引
手段の効率的な運転が可能となり、またシヤツタ
および搬送手段の作動も制御手段により制御され
るので、被処理物を自動的にかつ効率良く真空処
理することができる。
換えることにより、吸引手段を連続的に稼動させ
ながら、各室の減圧を切換えて行なうので、吸引
手段の効率的な運転が可能となり、またシヤツタ
および搬送手段の作動も制御手段により制御され
るので、被処理物を自動的にかつ効率良く真空処
理することができる。
(3) 実施例
以下、図面により本発明を合成樹脂製品の塗装
前処理に適用したときの一実施例について説明す
ると、先ず第１図において、真空処理室１の両側
には、第１予備真空室２および第２予備真空室３
が一直線状に配置されており、真空処理室１およ
び両予備真空室２，３間で被処理物として塗装前
処理を施すべく合成樹脂製を交互に移動させて、
塗装前処理が行なわれる。
前処理に適用したときの一実施例について説明す
ると、先ず第１図において、真空処理室１の両側
には、第１予備真空室２および第２予備真空室３
が一直線状に配置されており、真空処理室１およ
び両予備真空室２，３間で被処理物として塗装前
処理を施すべく合成樹脂製を交互に移動させて、
塗装前処理が行なわれる。
真空処理室１および両予備真空室２，３間に
は、相互の連通、遮断状態を切換えるためのシヤ
ツタ４，５が設けられており、これらのシヤツタ
４，５は、開閉駆動手段６，７によつて開閉駆動
される。しかも各シヤツタ４，５は、閉じたとき
にその両側間の充分な気密性を維持し得るように
構成される。
は、相互の連通、遮断状態を切換えるためのシヤ
ツタ４，５が設けられており、これらのシヤツタ
４，５は、開閉駆動手段６，７によつて開閉駆動
される。しかも各シヤツタ４，５は、閉じたとき
にその両側間の充分な気密性を維持し得るように
構成される。
第１予備真空室２および真空処理室１間、なら
びに第２予備真空室３および真空処理室１間に
は、合成樹脂製品を往復移動させるための搬送手
段８，９が設けられる。また両予備真空室２，３
には、合成樹脂製品の投入、払出しを行なうべ
く、開閉自在の扉１０，１１が設けられており、
これらの扉１０，１１も、その閉鎖時に、両予備
真空室２，３の気密性を充分維持し得るように構
成される。さらに、両予備真空室２，３と外部と
の間には、合成樹脂製品の投入、払出しを自動的
に行なうための、投入、払出し用搬送手段１２，
１３が配設される。
びに第２予備真空室３および真空処理室１間に
は、合成樹脂製品を往復移動させるための搬送手
段８，９が設けられる。また両予備真空室２，３
には、合成樹脂製品の投入、払出しを行なうべ
く、開閉自在の扉１０，１１が設けられており、
これらの扉１０，１１も、その閉鎖時に、両予備
真空室２，３の気密性を充分維持し得るように構
成される。さらに、両予備真空室２，３と外部と
の間には、合成樹脂製品の投入、払出しを自動的
に行なうための、投入、払出し用搬送手段１２，
１３が配設される。
第２図を併せて参照して、真空処理室１には、
プラズマ発生手段１４が接続される。このプラズ
マ発生手段１４は、O2ガス供給源１５と、N2ガ
ス供給源１６と、両供給源１５，１６に一端が共
通に接続され他端が真空処理室１内に突入される
プラズマ導入管１７と、プラズマ導入管１７の他
端に設けられるシヤワー管１８と、プラズマ導入
管１７の途中を覆つて設けられるプラズマ発生手
段１９と、プラズマ発生器１９にマイクロ波を供
給するためのマイクロ波発振器２０とを備える。
このようなプラズマ発生手段１４は、処理量に応
じた数の系列で真空処理室１に接続される。
プラズマ発生手段１４が接続される。このプラズ
マ発生手段１４は、O2ガス供給源１５と、N2ガ
ス供給源１６と、両供給源１５，１６に一端が共
通に接続され他端が真空処理室１内に突入される
プラズマ導入管１７と、プラズマ導入管１７の他
端に設けられるシヤワー管１８と、プラズマ導入
管１７の途中を覆つて設けられるプラズマ発生手
段１９と、プラズマ発生器１９にマイクロ波を供
給するためのマイクロ波発振器２０とを備える。
このようなプラズマ発生手段１４は、処理量に応
じた数の系列で真空処理室１に接続される。
真空処理室１および両予備真空室２，３は、個
別の切換弁２１，２２，２３を介して吸引手段２
４に共通に接続され、真空処理室１にはさらに補
助吸引手段２５としてロータリーポンプが接続さ
れる。吸引手段２４は、ロータリポンプ２６とメ
カニカルブースタ２７とを組合わせて構成される
ものであり、0.1Torr程度までの真空度を速やか
に得ることができる。すなわち、ロータリーポン
プ２６は、始動時間が比較的短く、その到達真空
度が10-1〜10-2Torrであるが、10Torr程度に達
した後にはその排気速度が低下する。一方、メカ
ニカルブースタ２７は、10-3Torr程度の真空度
に到達し得るものであるが、20Torr程度に達す
るまでの速度が遅い。そこで、ロータリポンプ２
６とメカニカルブースタ２７とを組合わせること
により、相互の欠点を補完して、0.1Torr程度ま
での真空度を速やかに得ることができるものであ
る。
別の切換弁２１，２２，２３を介して吸引手段２
４に共通に接続され、真空処理室１にはさらに補
助吸引手段２５としてロータリーポンプが接続さ
れる。吸引手段２４は、ロータリポンプ２６とメ
カニカルブースタ２７とを組合わせて構成される
ものであり、0.1Torr程度までの真空度を速やか
に得ることができる。すなわち、ロータリーポン
プ２６は、始動時間が比較的短く、その到達真空
度が10-1〜10-2Torrであるが、10Torr程度に達
した後にはその排気速度が低下する。一方、メカ
ニカルブースタ２７は、10-3Torr程度の真空度
に到達し得るものであるが、20Torr程度に達す
るまでの速度が遅い。そこで、ロータリポンプ２
６とメカニカルブースタ２７とを組合わせること
により、相互の欠点を補完して、0.1Torr程度ま
での真空度を速やかに得ることができるものであ
る。
補助吸引手段２５は、真空処理室１内を、ほぼ
一定に保つためのものであり、真空処理室１内で
のプラズマ処理時に、真空処理室１内は0.8〜
1Torrに保持される。
一定に保つためのものであり、真空処理室１内で
のプラズマ処理時に、真空処理室１内は0.8〜
1Torrに保持される。
前記シヤツタ４，５、搬送手段８，９，１２，
１３、扉１０，１１、プラズマ発生手段１４、各
切換弁２１，２２，２３、吸引手段２４および補
助吸引手段２５の作動は、制御手段２８によつて
制御され、これにより合成樹脂の塗装前処理が自
動的に行なわれる。
１３、扉１０，１１、プラズマ発生手段１４、各
切換弁２１，２２，２３、吸引手段２４および補
助吸引手段２５の作動は、制御手段２８によつて
制御され、これにより合成樹脂の塗装前処理が自
動的に行なわれる。
次に、この実施例の作用について、第３図を参
照しながら説明すると、先ず時刻t0で、第１予備
真空室２に合成樹脂製品が投入されており、真空
処理室１にもプラズマ処理後の合成樹脂製品があ
るときを想定する。この状態で、扉１０，１１を
閉じておき、真空処理室１および両予備真空室
２，３を相互に連通させると、各室１，２，３の
真空度は20Torrとなつており、シヤツタ４，５
を開き、時刻t1までの間に、第１予備真空室２か
ら合成樹脂製品を真空処理室１に移動させるとと
もに、プラズマ処理済みの合成樹脂製品を真空処
理室１から第２予備真空室３へと移動させる。
照しながら説明すると、先ず時刻t0で、第１予備
真空室２に合成樹脂製品が投入されており、真空
処理室１にもプラズマ処理後の合成樹脂製品があ
るときを想定する。この状態で、扉１０，１１を
閉じておき、真空処理室１および両予備真空室
２，３を相互に連通させると、各室１，２，３の
真空度は20Torrとなつており、シヤツタ４，５
を開き、時刻t1までの間に、第１予備真空室２か
ら合成樹脂製品を真空処理室１に移動させるとと
もに、プラズマ処理済みの合成樹脂製品を真空処
理室１から第２予備真空室３へと移動させる。
合成樹脂製品の移動が完了した時刻t1では、シ
ヤツタ４，５が閉鎖されるとともに、第２予備真
空室３の扉１１が開放される。これにより第２予
備真空室３内は急速に大気圧（760Torr）とな
り、プラズマ処理後の合成樹脂製品の払出しと、
プラズマ処理すべき新たな合成樹脂製品の投入と
が行なわれ、その後、扉１１が閉鎖される。
ヤツタ４，５が閉鎖されるとともに、第２予備真
空室３の扉１１が開放される。これにより第２予
備真空室３内は急速に大気圧（760Torr）とな
り、プラズマ処理後の合成樹脂製品の払出しと、
プラズマ処理すべき新たな合成樹脂製品の投入と
が行なわれ、その後、扉１１が閉鎖される。
一方、真空処理室１では、時刻t1から吸引手段
２４による減圧が開始され、時刻t2で0.8Torrの
真空度に達すると、プラズマ発生手段１４が作動
して合成樹脂製品のプラズマ処理が行なわれる。
また時刻t2では、吸引手段２４による減圧は第１
予備真空室２に切換えられ、真空処理室１内は補
助吸引手段２５により0.8〜1.0Torrに保持され
る。
２４による減圧が開始され、時刻t2で0.8Torrの
真空度に達すると、プラズマ発生手段１４が作動
して合成樹脂製品のプラズマ処理が行なわれる。
また時刻t2では、吸引手段２４による減圧は第１
予備真空室２に切換えられ、真空処理室１内は補
助吸引手段２５により0.8〜1.0Torrに保持され
る。
吸引手段２４による第１予備真空室２の減圧
は、時刻t3で0.1Torrに達するまで持続され、そ
の間、真空処理室ではプラズマ処理が持続して行
なわれている。
は、時刻t3で0.1Torrに達するまで持続され、そ
の間、真空処理室ではプラズマ処理が持続して行
なわれている。
プラズマ処理が進行している途中の時刻t4にお
いて、吸引手段２４のロータリーポンプ２６のみ
を用いて第２予備真空室３の減圧が行なわれ、こ
の第２予備真空室３の減圧は、真空処理室１での
プラズマ処理が終了する時刻t5まで続けられる。
いて、吸引手段２４のロータリーポンプ２６のみ
を用いて第２予備真空室３の減圧が行なわれ、こ
の第２予備真空室３の減圧は、真空処理室１での
プラズマ処理が終了する時刻t5まで続けられる。
時刻t5では、第２予備真空室３の真空度はたと
えば80Torr程度に達しており、この時刻t5で、
真空処理室１および両予備真空室２，３を連通す
る。この際、真空処理室１の真空度は1Torr、第
１予備真空室２の真空度は0.1Torrであるので、
全体の真空度は、時刻t6で20Torr程度になる。
えば80Torr程度に達しており、この時刻t5で、
真空処理室１および両予備真空室２，３を連通す
る。この際、真空処理室１の真空度は1Torr、第
１予備真空室２の真空度は0.1Torrであるので、
全体の真空度は、時刻t6で20Torr程度になる。
この時刻t0から時刻t6までが１サイクルであ
り、たとえば38秒である。この後、第１および第
２予備真空室２，３上述とは逆の作用が行なわれ
ると、そのようなサイクルを繰返すことにより、
合成樹脂製品のプラズマ処理が次々に行なわれ
る。
り、たとえば38秒である。この後、第１および第
２予備真空室２，３上述とは逆の作用が行なわれ
ると、そのようなサイクルを繰返すことにより、
合成樹脂製品のプラズマ処理が次々に行なわれ
る。
このようにして、真空処理室１で処理が行なわ
れている間に、処理済みの合成樹脂製品を受ける
べく空のまま待機している一方の予備真空室を、
真空処理に要する真空度よりもさらに減圧してお
くことにより、合成樹脂製品の移動時に各室１，
２，３を連通させて20Torr程度にすることがで
きる。したがつてプラズマ処理を開始するまでの
時間（時刻t0から時刻t2まで）を短縮することが
できる。しかも吸引手段２４を連続的に稼動する
ことにより、特に大型でなくとも高真空度を得る
ことができ、生産性の向上および操業費の低減を
図ることがでる。
れている間に、処理済みの合成樹脂製品を受ける
べく空のまま待機している一方の予備真空室を、
真空処理に要する真空度よりもさらに減圧してお
くことにより、合成樹脂製品の移動時に各室１，
２，３を連通させて20Torr程度にすることがで
きる。したがつてプラズマ処理を開始するまでの
時間（時刻t0から時刻t2まで）を短縮することが
できる。しかも吸引手段２４を連続的に稼動する
ことにより、特に大型でなくとも高真空度を得る
ことができ、生産性の向上および操業費の低減を
図ることがでる。
以上は、本発明を合成樹脂製品の塗装前処理に
適用したときの実施例であるが、本発明は、真空
処理方法おび装置として広く実施され得るもので
ある。
適用したときの実施例であるが、本発明は、真空
処理方法おび装置として広く実施され得るもので
ある。
Ｃ 発明の効果
以上のように本発明方法によれば、真空処理室
で真空処理を行なつている間に、空で待機してい
る側の予備真空室を、真空処理に必要な真空度よ
りもさらに減圧し、真空処理後に各室を連通する
ようにしたもので、比較的短時間で、被処理物の
真空処理に入ることができ、生産性の向上を図る
ことが可能となる。
で真空処理を行なつている間に、空で待機してい
る側の予備真空室を、真空処理に必要な真空度よ
りもさらに減圧し、真空処理後に各室を連通する
ようにしたもので、比較的短時間で、被処理物の
真空処理に入ることができ、生産性の向上を図る
ことが可能となる。
また本発明装置では、真空処理室および両予備
真空室を、制御手段の働きにより切換弁を切換え
て単一の吸引手段で減圧するので、吸引手段を連
続的に稼動して効率的に使用することができると
ともに小型化を図ることができ、操業費の低減を
図ることができる。
真空室を、制御手段の働きにより切換弁を切換え
て単一の吸引手段で減圧するので、吸引手段を連
続的に稼動して効率的に使用することができると
ともに小型化を図ることができ、操業費の低減を
図ることができる。
図面は本発明の一実施例を示すものであり、第
１図は、塗装前処理装置の構成を示す簡略図、第
２図はプラズマ発生手段の構成を示す簡略図、第
３図は運転時の各室の圧力変化を示す作用図であ
る。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、
４，５……シヤツタ、８，９……搬送手段、２
１，２２，２３……切換弁、２８……制御手段。
１図は、塗装前処理装置の構成を示す簡略図、第
２図はプラズマ発生手段の構成を示す簡略図、第
３図は運転時の各室の圧力変化を示す作用図であ
る。 １……真空処理室、２，３……予備真空室、
４，５……シヤツタ、８，９……搬送手段、２
１，２２，２３……切換弁、２８……制御手段。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 真空処理室の両側に、被処理物の投入、払出
しが可能な予備真空室を、真空処理室との連通、
遮断を切換可能にしてそれぞれ配置し、両予備真
空室および真空処理室間で被処理物を交互に移動
させて真空処理室で被処理物を所定時間だけ真空
処理するようにし、一方の予備真空室から被処理
物を真空処理室に移動させるとともに真空処理室
から処理済みの被処理物を他方の予備真空室に移
動させたときには、真空処理室および両予備真空
室間を相互に遮断した後、真空処理室では必要な
真空度までの減圧を行ない、前記一方の予備真空
室では真空処理に必要な真空度よりもさらに減圧
し、前記他方の予備真空室では被処理物の払出し
および新たな投入を行なつた後に大気圧状態から
の減圧を開始し、真空処理室での真空処理後に真
空処理室および両予備真空室を連通させて被処理
物の移動を行なうようにしたことを特徴とする真
空処理方法。 ２ 真空処理室と；被処理物の投入、払出しを可
能として真空処理室の両側にそれぞれ配置される
一対の予備真空室と；真空処理室および両予備真
空室間の連通、遮断を切換えるべく真空処理室お
よび両予備真空室間に配設される一対のシヤツタ
と；両予備真空室および真空処理室間で被処理物
を交互に移動させるべく両予備真空室および真空
処理室間にそれぞれ配設される一対の搬送手段
と；真空処理室および両予備真空室に切換弁を介
して共通に接続される吸引手段と；前記シヤツ
タ、搬送手段、吸引手段および切換弁の作動を制
御する制御手段と；を備え、該制御手段は、真空
処理室で被処理物を真空処理しているときに、該
被処理物を受入れるべく空の状態で待機している
一方の予備真空室を、真空処理に必要な真空度よ
りもさらに減圧し、新たな被処理物を投入後の他
方の予備真空室を大気圧から減圧し、真空処理終
了後に真空処理室および両予備真空室を連通して
被処理物の移動を行なわしめるべく前記シヤツ
タ、搬送手段、吸引手段および切換弁を制御する
機能を有することを特徴とする真空処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13152885A JPS61291630A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 真空処理方法および装置 |
| GB8614578A GB2178227B (en) | 1985-06-17 | 1986-06-16 | Vacuum treating method and apparatus |
| US06/874,934 US4733746A (en) | 1985-06-17 | 1986-06-16 | Vacuum treating method and apparatus |
| CA000511762A CA1283369C (en) | 1985-06-17 | 1986-06-17 | Vacuum treating method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13152885A JPS61291630A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 真空処理方法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61291630A JPS61291630A (ja) | 1986-12-22 |
| JPH0250134B2 true JPH0250134B2 (ja) | 1990-11-01 |
Family
ID=15060174
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13152885A Granted JPS61291630A (ja) | 1985-06-17 | 1985-06-17 | 真空処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61291630A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6469205A (en) * | 1987-09-08 | 1989-03-15 | Sumitomo Electric Industries | Levitation type transfer device |
| CN113443617B (zh) * | 2021-08-19 | 2022-11-04 | 陕西六元碳晶股份有限公司 | 一种连续式碳纳米管的纯化装置及工艺 |
-
1985
- 1985-06-17 JP JP13152885A patent/JPS61291630A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61291630A (ja) | 1986-12-22 |
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