JPH02500615A - 真直度干渉計システムおよび光学部品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 真直度干渉計システム 技術分野 本発明は機械部品のような移動物体の名目的な直線路からの横方向のずれを測定 するのに用いる真直度干渉計システムに関する。

背景技術 真直度干渉計システムは、例えば英国特許第１，４０９゜３３９号により知うわ ており、その中で主光軸に沿フて進むレーザビームがウォラストンプリズムによ って２つの２次ビームに分けられる。この２つの２次ビームは等しい小角度で主 光軸からずれ、２つの分離した平坦な反射面に向けられる。この２つの反射面は 互いに主光軸で２等分される一定の角度で相互に固定された関係で据え付けられ ている。主光軸からの２次ビームのずれ角度と平坦な反射面間の角度は、２次ビ ームが各々の元の光路に沿ってプリズムに向って反射され、プリズム内で再結合 されるような角度である。この結合光線は主光軸に沿りて戻る。

このようなシステムはある欠点を有している。その第１は再結合された光線が出 射レーザ光線の安定性に逆効果となるおそれのあるところのレーザ（レーザ発生 器）へ向ってプリズムから戻ることである。その第２は２次ビームの主光軸から の角度のずれ（偏向）が非常に小さいので、干渉計が分析し信号が失われる前に ・ウォラストンプリズムに対して配設可能な平面反射器をいかに接近させるかに ついて限界があることである。この点において、このウォラストンプリズムと平 面反射器との間の距離を、以下デッドバス（北路）と称す。

さらに加えて、上記システムの部品、特にウォラストンプリズムにあっては、高 価となるが非−常に精密に作らねばならないことである０例えば、ウォラストン プリズムの製造において、ずれの合計、すなわち２つのビーム間の角度が正確に 調整されなければならないのみならず、主光軸からの各々のビームのずれ角が木 システムの非対称性を避けるために実質的に等しくなるようにしなければならな い。さらにまた、平面反射器は相対的に互いに、またウォラストンプリズムに対 して正確に位置決めされ、反射ビームが、測定に用いられる干渉縞を生じさせる ようにプリズム内において再結合するのを確実にしなければならない。このよう に、上述の干渉計の部品の整列は容易なものではない。

発明の開示 添付の請求項に請求されているように、本発明は２つの出射２次ビームを発生す るビームスプリッタを具え、そのうちの第１の２次ビームを光線の主軸に対して 平行に指向させ、他方のビームを主軸に対して小さい角をなすようにすることに よって、上記の欠点の１またはそれ以上を解消する。

本発明の一実施例において、第１の２次ビームは上記主軸と共通な直線上に指向 される。

このように生成された２次ビームの非対称配列は、１つのずれ角度のみを調整す ればよいので、使・用されるビームスプリッタは製造が容易で、高価とならない という利点を有する。さらにまた、この整列の問題は１本の光線がずれないよう にすることにより軽減される。

ロションプリズムは所望の非対称の２次ビームを作ることができ、最も安上りな 解決手段であるが、上述の先行技術と同様のデッドバスの限界を有している。

デッドッパスの限界は一対の角形偏向器（ｓｑｕａｒｅｄｅｆｌｅｃｔｏｒ）、 例えば中空ペンタキューブ（ｐｅｎｔａｃｕｂｅ）　。

あるいはべりスコープ（溜望鏡）効果が得られる他の光学装置を用いることによ り、より高価な具体例では直すことができる。一対の中空ペンタキューブを用い るとまた、それらが取り付けられた機械部品の縦揺れ（ピッチング）に不感とな り、横揺れ（ヨーイング）に鈍感となるという利点がある。

添付の請求項に請求されたように本発明は出射２吹ビームをビームスプリッタへ 戻すため、ルーフトッププリズムの形の戻し反射器を他の実施例として提供して いる。この手段によって、戻り光ビームは出射２次ビーム路から転置されるので 、戻りの結合されたビームが主軸から転置されて元の光ビームと干渉しないとい うことを確実にする。

従って、真直度干渉システムを構成する部品の適切な還択によって、各問題点を 除去するにあたり加えられた原価に見合うか否かに依存して、上述の欠点のいく つか、または全てを解消し、または少なくとも減らすことができる。

図面の簡単な説明 本発明の実施例を添付図面を参照して一層詳細に説明する。

第１図は本発明の真直度干渉計システムの位置関係と光路を示した機械の概略側 面図である。

第２図は第１図の機械の平面図である。

第３図は本発明の一実施例のビームスプリッタと反射手段、およびそれらの間の 光路を示す拡大斜視図である。

第４図は第３図に示す装置の平面図である。

第５図は本発明の他の実施例におけるビームスプリッタと反射手段およびそれら の間の光路を示す拡大平面図、 第６図は第５図に示した装置の倒立面図、および第７図は別のビームスブリット 装置とそれを通る光路を示す平面図である。

発明を英施するための最良の形態 図面を参照して、第１図は測定機あるいは工作機械として可能な機械を概略的に 示し、この機械は運転中にワークピースを搬送可能な構造部材１２が固定された ベースｌＯを有している。キャリッジ１４はその機械上に移動可能に搭載され、 機械の運転中に測定プローブあるいは切削工具を担持する。

キャリッジ１４は矢印Ａで示すように軸Ｘに沿って移動可能であり、このキャリ ッジの移動の真直度をチェックする位置、すなわち軸Ｘに対して直角の方向Ｙ（ 第２図参照）における横方向の移動をチェックする位置に、本発明の真直度干渉 計システムが搭載されて示されている。

本発明の真直度干渉計システムは単一周波数レーザ２０を包含し、そのレーザ２ ０は干渉計の主軸Ｐに沿って光ビーム′２２を供給する。だが、デュアル周波数 レーザを用いてもよいことは注意されたい。

この光ビームは２つの直交する偏光成分を有しており、補正されたロションプリ ズム２４によって２つの成分に分離され、２つの出射２次ビーム２６および２８ を形成する。２次ビームの１つ２６は偏向されずに主軸Ｐ上に残り、他方、他の ビーム２８は主軸Ｐから小さい角度θ（例えば、約１度）偏向される。この１度 の偏向は・例えば、４ｍまでの距離を測定する短距離干渉計に対して用いること ができる６例えば、４０ｍまでの長距離測定には、偏向角は０．１度まで縮小さ れる。

結合されたプリズムおよび戻し反射器３０は２つの２吹ビームの光路上に配置さ れ、それらのビームをプリズム２４へ反射し戻す。戻し反射器によって反射し戻 された２つのビーム３２．３４　＜第３図参照）は、出射２次ビーム路が含まれ る面であるｘ−７面から外れ転置された光路に沿って戻る。この２つの戻りビー ムはプリズム２４内で再結合されて、第３の直交軸（２軸）に沿って主軸Ｐから 転置された結合ビーム３６を生成する。フォトダイオード検出器システム３８は 転置された結合ビームの光路内に配置される。この検出器システムはビームの２ つの偏光成分からもたらされる干渉縞から、既知の方法で、キャリッジ１４のど のような横方向の移動をも示す信号を発生する。

この干渉縞は、相対的な横移動が発生したときにプリズム２４と戻し反射器３０ との間の２つの２次ビームの光路長が相対的に増減することにより生ずる。光路 長の変化は、２つの直交する偏光ビームから成る波動に相対的位相変位を引き起 す、ビームはプリズム内で再結合される時には干渉しないが、結合ビームは検出 器システムにおいてそれらの偏光を変化させ、干渉を起こし、干渉縞を発生させ る光学装置を通過する。必要な情報はビームスプリッタ、ポラロイドおよびフォ トエレクトリックダイオード検出器の適切な組合せを用いた検出装置内で、従来 の方法によって結合ビームから抽出される。

第３図と第４図は、ロションプリズムと戻り反射器を、これらの間の光路ととも に詳細に示したものである。両方の２次ビームにまたがる戻り反射器３０は一般 的なルーフトップ反射器であるが、その前面に偏向されたビーム２８を主軸Ｐと 平行な方向に向けて偏向するプリズム４０を有している。両ビームはプリズムに 戻る前に戻り反射器によって垂直方向に転置される。プリズム４０とルーフトッ プ反射器は１個の集合部品として図示されているが、別々に形成し、かつ、使用 してもかまわないのは勿論である。

上記のような真直度干渉計システムの利点は、戻り結合ビームが戻り反射器によ って転置されて、もとのレーザビーム２２と干渉しないことである。その上、戻 り反射器は方向誤差、例えばピッチ誤差に対して前述した先行技術の平面鏡に比 べ、より鈍感である。

他の実施例（図示しない）として、ウォラストンプリズムを配置することができ 、標準的なウォラストンプリズムの前方または後方のいずれかに、適切な屈折率 の１つまたはそれ以上のプリズムを追加して置くことにより、１つの偏向されな いビームと１つの偏向されたビームとを生じさせることができる。この追加のプ リズムはウォラストンプリズムと一体に形成してもよい。

戻り反射器は両２次ビームにまたがる単一のルーフトップ反射器として図示され ているが、一対のルーフトップ反射器、またはビームスプリッタに向フて２次ビ ームを戻すように適切に角度付けられ、かつ、好ましくはいりしよに堅く結合さ れた一対のコーナキューブ（ｃｏｒｎｅｒ　ｃｕｂｅ）戻り反射器をそれの代り に用いてもよい。

しかしながら、既述の干渉計システムはデッドバスの問題を解決していない。こ れは、へりスコープ効果を提供するビームスブリット装置の別の形態を必要とし 、その２つの形態を第５図、第６図および第７図に関して以下に述べる。だが、 デッドパス効果を除去するベリスコープ効果の利点は、偏向されないビームを用 いないシステムに用いることができる点に注目しなければならない。

第５図および第６図には、４個の反射面５１．５２．５３および５４を有するビ ームスブリット装置が図示されており、その中の１つである５１はビームスプリ ッタであり、特に木笑施例では偏光板ビームスプリッタである。これらの反射面 の全ては、分り島くするために第５図には図示しない頭部ガラス５６と底部ガラ ス５７（第６図参照）に取付けられることにより、互いに固定関係で具合よく保 持されている。

この装置を用いると、レーザからの主光ビーム２２は偏光板ビームスプリッタ５ １上に指向される。ビームスプリッタ５１は主光軸Ｐに沿って纂１面で偏光され るビームの纂１部分を透過させ１つの偏向されない出射２次ビーム５５を生じさ せる。ビーム２２の第２の部分は第１面と直角な第２面で偏光され、かつビーム を反射面５３の方向に偏向する平らな反射面５２の方に向って反射される。２つ の反射面５３および５４は相対的に方向付けられているので、反射面５２から反 射されたビームは反射面５３および５４によフて実質的に直角に偏向される。

その反射ビームはビームスブリット装置から出て、第１の出射２次ビーム５５の 方向に対して小さな角度θで、かつ距ｌｉｄだけ横方向に転置された他の出射２ 次ビーム５８を形成する。

第３図および第４図を参照して説明した実施例と同様に、２つの２次ビームはル ーフトップ反射器５９の方向に向けられ、その反射器はその前面に２次ビーム５ ５と平行な方向に２次ビーム５８を折り曲げるプリズム６０を有して°いる。ル ーフトップ反射器は出射２次ビームと平行ではあるが、それらから転置された光 路に沿って戻るビーム６１および６２として、両２次ビームをビームスブリット 装置へ向けて反射する。戻りの２次ビーム６１と６２はビームスブリット装置で 再結合されて、主軸Ｐと平行であるが主軸Ｐから転置された方向に沿う単一ビー ム６３として戻る。

ベリスコープ効果を備えることによってデッドパスの問題が解消され、真直度測 定装置で戻り反射器とビームスブリット装置間を；距離にまで下げることができ る。しかしながら、この実施例で述べた１つまたは２つ以上の平面鏡の角度を調 整することにより、ベリスコープ効果を用いた利点を維持しながら、両２次ビー ムを主軸、または主軸と平行な線に対しである角度で傾けるようにすることは容 易に可能であろう。

４つの反射面を用いるなお一層の利点は、ビームスブリット装置が横揺れ誤差（ すなわち、第５図の紙面に垂直方向の軸まわりのビームスブリット装置の回転） に対して影響を受けにくいことである。また、この解決策の４つの反射面の相対 位置はさほど重要ではない。なぜなら、整列上のいかなる誤差もマウントされた 最後の反射面の位置合わせによって補正できるからである。従って、反射面の中 の１つの反射面のみは高精度に整列させなければならない。この実施例の変形例 として、出射２次ビーム５５が偏向されたビームの１つであり、ビーム５８が主 軸Ｐに対し平行に向けられるのであってもよい。

第７図は別のタイプのビームスブリット装置７０を使用した本発明のさらに他の 実施例を示し、この装置もまたデッドパスの問題を解消するベリスコープ効果を 備えている。

この実施例において、主光ビーム２２はビーム２２の主＠Ｐに垂直で、平坦な透 過面７１を通って装置内に向う。偏光ビームスブリット面７２は第１の面で偏光 されたビーム２２の第１の部分７３を偏向することなしにそのまま透過させる。

この偏向されなかった部分は、主軸Ｐに対して垂直でありて平坦な透過面７４を 通って装置から圧て、第１の出射２次ビーム７５を生じさせる。ビーム２２の第 ２の部分７６はビームスブリット面７２で反射され、かつ第１面と直交する第２ 面で偏光される。反射ビーム７６は主＠Ｐに対して角度αで戻り、ビーム７６の 光路に対して垂直に配置されて光の偏光を９０°回転するタイプの鏡７７に向う 。従フて、ビーム７６はビームスプリッタ７２に向って反射して戻り、偏光の変 化のためにビームスプリッタ７２を透過して装置の平坦な透過面７８へ向う。ビ ームはこの面７８を通って屈折され、装置から圧で、主軸に対し小さい角度θを なし、かつ、横方向に距Ｍｄだけ転置されて進む第２の出射２次ビーム８０を形 成する。

この装置の変形例として、出射ビーム７５が主軸Ｐから偏向され、出射ビーム８ ０が主軸Ｐと平行となるように、反射面および透過面を配置してもよい。

第５図と第６図について述べたと同様に、２つの出射２次ビーム７５．８０はル ーフトップ反射器５９に指向され、その反射器で主軸から転置された光路に沿っ てビームスブリット装置７０へ向う戻り２次ビーム８１および８２として反射し て戻される。ビームスブリット装置７０において、それら８１．８２は再結合さ れて１つの戻りビーム８３となり、主ビームの軸Ｐと平行であって横方向行く。

さらにまた、本装置のいくつかの反射面または透過面の角度を変えることによっ て、主軸または主軸と平行な線に対して傾けられた両２次ビームを生じさせなが ら、この装置によって生み出されるベリスコープ効果は維持される。

第５図、第６図および第７図に関して述べた両方の装置を用いて、ビームスブリ ット装置とルーフトップ反射器間の相対的横方向の動きは、２次ビームの相対的 光路長を変化させる。この光路長の変化は適切な検出器の配設により、戻り結合 ビームから生じた干渉縞として検出することができる。

第５図、第６図および第７図に図示された両方の実施例を用いて、いわゆる偏向 されない出射２次ビームのいずれもが主軸と同一線上になく（すなわち、正確に 偏向されてなく）、偏向された２次ビームと偏向されていな゛い２次ビームの両 方ともが、わずかに横方向に偏位した主軸の方向（すなわち、主軸と平行）に向 けられるということは可能である。

戻り反射器を用いることにより得られる利点は、偏向されない２次ビームを生じ させるビームスプリッタと反射器との組合せに限定されないことである。この利 点は、またウォラストンプリズム、あるいは入射ビームの主軸に対して同一の発 散角度を有する発散２次ビームを生じさせる他の装置を、ビームスプリッタとし て用いる干渉計システムにおいても得ることができる。

同様に、２次ビームの光路内に配置された反射器の前方にプリズムを配置するこ とによって得られる利点は、ルーフトップ反射器の使用に限定されないことであ る。プリズムは一対の平面鏡、またはいかなる他のタイプの戻り反射器といっし ょに用いてもよい。

主な利点は、反射器を両方の２次ビームにまたがる単一の要素として作ることが できることであり、かくて、２つの分離された要素を正確に整列しなけレハナら ないこと、および両者を結合しなければならないという問題が解消される。また 、二〇阜−の要素は、必要に応じ、主軸に対して種々の角度に配置させることが できる。プリズムは２次ビームが再結合されるべくビームスブリット装置へ戻る のを確実にするために２次ビームに必要な偏向を生じさせるよう設計される。

国際調査報告

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）主軸（Ｐ）に沿う光ビーム（２２）を発生するための光源（２０）、 光ビームから２つの出射２次ビーム（２６，２８），（５５，５８），（７５， ８０）を生成するためのビームスプリット手段（２４）、 ビームスプリット手段（２４）から主軸（Ｐ）の方向に離間し、２つの２次ビー ム（２６，２８）の光路中に配置され、２つの２次ビームをビームスプリット手 段へ戻すための反射手段（３０，５９）を有し、前記２つの戻り２次ビーム（３ ２，３４），（６１，６２），（８１，８２）は結合ビーム（３６），（６３） ，（８３）を形成するようビームスプリット手段で再結合され、および前記結合 ビームを受け取り、前記ビームスプリット手段と前記反射手段間において主軸に 対し横方向の相対移動を示す信号を発生するための検知システム（３８）を包含 し、 ２次ビームのうち第１の１つ（２６），（５５），（７５）が前記主軸と平行な 方向に向けられ、２次ビームの他の１つ（２８），（５８），（８０）が主軸に 対し小さな角度をなして向けられていることを特徴とする真直度干渉計システム 。 ２）２次ビームのうち第１の１つ（２６），（５５），（７５）が前記主軸と共 通線上に向けられており、前記他の１つ（５８），（８０）が前記主軸から小さ い角度で偏向ざれていることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の真直度干渉 計システム。 ３）ビームスプリット手段（２４）はロションプリズムを包含することを特徴と する請求の範囲第１項に記載の真直度干渉計システム。 ４）反射手段（３０），（５９）は少なくとも１つの戻し反射器を包含すること を特徴とする請求の範囲第１項に記載の真直度干渉計システム。 ５）それぞれの戻し反射器はルーフトップ反射器（３０）であることを特徴とす る請求の範囲第４項に記載の真直度干渉計システム。 ６）ビームスプリット手段は２次光ビームの１つ（５８），（８０）を主軸に対 して横方向に転置するように配置された反射面（５１，５２，５３，５４），（ ７２，７７）を包含することを特徴とする請求の範囲第１項に記載の真直度干渉 計システム。 ７）２次ビームのうちの前記第１の１つ（５５），（７５）は主軸と共通線上に 向けられており、前記他のビーム（５８），（８０）はそれらから横方向に転置 されていることを特徴とする請求の範囲第６項に記載の真直度干渉計システム。 ８）ビームスプリット手段は、 主軸Ｐに対して斜めの角度に配置され、主軸と共通線上に第１の偏光状態で入射 光ビームから光線の第１部分（７３）を透過して、前記第１の２次ビーム（７５ ）を形成し、また入射ビームから光線の第２部分（７６）を第２の直交偏光状態 で反射する化偏光ビームスプリッタ（７２）、 反射光線（７６）の光路と垂直な面に配置され、変化した偏光状態で該光線をビ ームスプリッタ（７２）へ戻し、それによりその光線がビームスプリッタを透過 し、主軸に対して小さい角度で、そこから横方向に転置された状態でビームスプ リット手段から出て、２次ビームのうちの前記他の１つ（８０）を形成する偏光 平面鏡（７７）、 を包含することを特徴とする請求の範囲第６項に記載の真直度干渉計システム。 ９）前記他の２次ビーム（８０）は平らな透過面（７８）を通ってビームスプリ ット手段から出射し、かつ該面で屈折することを特徴とする請求の範囲第６項に 記載の真直度干渉計システム。 １０）反射手段は少なくとも１つの戻し反射器（５９）であることを特徴とする 請求の範囲第６項に記載の真直度干渉計システム。 １１）それぞれの戻し反射器はルーフトップ反射器（５９）であることを特徴と する請求の範囲第１０項に記載の真直度干渉計システム。 １２）単一の反射手段（３０），（５９）が主軸と垂直な面に配置され、かつ両 方の２次ビーム（２６，２８），（５５，５８），（７５，６０）の光路内に延 びて設けられており、またプリズム（４０），（６０）がビームスプリット手段 と反射手段間であって２次ビームの前記他の１つ（２６），（５８），（８０） の光路内で、主軸と平行な方向に２次ビームの前記他の１つを偏向するように設 けられていることを特徴とする請求の範囲第１項に記載の真直度干渉計システム 。 １３）反射手段は戻し反射器（３０），（５９）を包含していることを特徴とす る請求の範囲第１２項に記載の真直度干渉計システム。 １４）戻し反射器はルーフトップ反射器（３０），（５０）であることを特徴と する請求の範囲第１３項に記載の真直度干渉計システム。 １５）ルーフトップ反射器（３０），（５９）とプリズム（４０），（６０）は 単一の集合部品に形成されていることを特徴とする請求の範囲第１４項に記載の 真直度干渉計システム。 １６）ビームスプリット手段は前記２次ビームの１つ（５８），（８０）を主軸 から横方向に転置するように配設された反射面（５１，５２，５３，５４），（ ７２，７７）を包含することを特徴とする請求の範囲第１２項に記載の真直度干 渉計システム。 １７）反射手段は戻し反射器（３０），（５９）を包含することを特徴とする請 求の範囲第１６項に記載の真直度干渉計システム。 １８）戻り反射器はルーフトップ反射器（３０），（５９）であることを特徴と する請求の範囲第１７項に記載の真直度干渉計システム。 １９）主軸（Ｐ）に沿う光ビーム（２２）を発生するための光源（２０）、 光ビームから２つの出射２次ビーム（２６，２８），（５５，５８），（７５， ８０）を生成するためのビームスプリット手段（２４）、 ビームスプリット手段（２４）から主軸（Ｐ）の方向に離間して、２つの２次ビ ーム（２６，２８）の光路中に配置され、２つの２次ビームをビームスプリット 手段へ戻すための反射手段（３０，５９）、 前記２つの戻り２次ビーム（３２，３４），（６１，６２），（８１，８２）は 結合ビーム（３６），１６３），（８３）を形成するようビームスプリット手段 で再結合され、 前記結合ビームを受け取り、前記ビームスプリット手段と前記反射手段間におい て主軸に対し横方向の相対移動を示す信号を発生するための検知システム（３８ ）を包含し、 ビームスプリット手段は主軸から横方向に前記２次ビームのうちの１つ（２６， ２８），（５５，５８），（７５，８０）を転置するように配置された反射面（ ５１，５２，５３，５４），（７２，７７）を包含することを特徴とする真直度 干渉計システム。 ２０）ビームスプリット手段は、 主軸Ｐに対して斜めの角度に配置され、主軸と共通線上に第１の偏光状態で入射 光ビームから光線の第１部分（７３）を透過して、前記第１の２次ビーム（７５ ）を形成し、また入射ビームから光線の第２部分（７６）を第２の直交偏光状態 で反射する偏光ビームスプリッタ（７２）、 反射光線（７６）の光路と垂直な面に配置され、変化した偏光状態で該光線をビ ームスプリッタ（７２）へ戻し、それによりその光線がビームスプリッタを透過 し、主軸に対して小さい角度で、そこから横方向に転置された状態でビームスプ リット手段から出て、２次ビームのうちの前記他の１つ１（８０）を形成する偏 光平面鏡（７７）、 を包含することを特徴とする請求の範囲第１９項に記載の真直度干渉計システム 。 ２１）前記他の２次ビーム（８０）は平らな透過面（７８）を通ってビームスプ リット手段から出射し、かつ該面で屈折することを特徴とする請求の範囲第２０ 項に記載の真直度干渉計システム。 ２２）反射手段は少なくとも１つの戻し反射器（３０），（５９）であることを 特徴とする請求の範囲第１９項に記載の真直度干渉計システム。 ２３）それぞれの戻し反射器はルーフトップ反射器（３０）であることを特徴と する請求の範囲第２２項に記載の真直度干渉計システム。 ２４）単一の反射手段（３０），（５９）が主軸と垂直な面に配置され、かつ両 方の２次ビーム（２６，２８），（５５，５８），（７５，８０）の光路内に延 びて設けられており、またプリズム（４０），（６０）がビームスプリット手段 と反射手段間であって２次ビームの前記他の１つ（２８），（５８），（８０） の光路内で、主軸と平行な方向に２次ビームの前記他の１つを偏向するように設 けられていることを特徴とする請求の範囲第１９項に記載の真直度干渉計システ ム。 ２５）反射手段（３０），（５９）は戻し反射器を包含していることを特徴とす る請求の範囲第２４項に記載の真直度干渉計システム。 ２６）戻し反射器はルーフトップ反射器（３０）であることを特徴とする請求の 範囲第２５項に記載の真直度干渉計システム。 ２７）ルーフトップ反射器（３０），（５９）とプリズム（４０），（６０）は 単一の集合部品に形成されていることを特徴とする請求の範囲第２６項に記載の 真直度干渉計システム。 ２８）主軸（Ｐ）に沿う光ビーム（２２）を発生するための光源（２０）、 光ビームから２つの出射２次ビーム（２６，２８），（５５，５８），（７５， ８０）を生成するためのビームスプリット手段（２４）、 ビームスプリット手段（２４）から主軸（Ｐ）の方向に離間し、２つの２次ビー ム（２６，２８）の光路中に配置され、２つの２次ビームをビームスプリット手 段へ戻すための反射手段（３０，５９）を有し、前記２つの戻り２次ビーム（３ ２，３４），（６１，６２），（８１，８２）は結合ビーム（３６），（６３） ，（８３）を形成するようビームスプリット手段で再結合され、 前記結合ビームを受け取り、前記ビームスプリット手段と前記反射手段間におい て主軸に対し横方向の相対移動を示す信号を発生するための検知システム（３８ ）を包含し、 単一の反射手段（３０），（５９）が主軸と垂直な面に配置され、かつ両方の２ 次ビーム（２６，２８），（５５，５８），（７５，８０）の光路内に延びて設 けられており、また、プリズム（４０），（６０）がビームスプリット手段と反 射手段間であって２次ビームの前記他の１つ（２８），（５８），（８０）の光 路内で、主軸と平行な方向に２次ビームの前記他の１つを偏向するように設けら れていることを特徴とする真直度干渉計システム。 ２９）反射手段（３０），（５９）は戻し反射器を包含することを特徴とする請 求の範囲第２８項に記載の真直度干渉計システム。 ３０）戻し反射器はルーフトップ反射器（３０）であることを特徴とする請求の 範囲第２９項に記載の真直度干渉計システム。