JPH0249250B2

JPH0249250B2 -

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Publication number: JPH0249250B2
Application number: JP57056493A
Authority: JP
Inventors: Kyoshi Inoe
Original assignee: Inoue Japax Research Inc
Current assignee: Inoue Japax Research Inc
Priority date: 1982-04-07
Filing date: 1982-04-07
Publication date: 1990-10-29
Also published as: JPS58176126A

Description

【発明の詳細な説明】本発明は、Ce、Nd、Pr、La、Gd、Sm或いは
Ｙ等の希土類金属の精錬における処理方法に関す
る。

希土類金属の原鉱しては、希土類元素のリン酸
塩鉱物（RPO₄、但しＲは希土類元素。以下同
様。）である塊状モナズ石またはモナズ砂
（Monajate、本明細書中において『モナザイト』
という。）やフツ化炭酸塩鉱物（RFCO₃）である
バストネサイト（Bastnaesite、本明細書中にお
いて〓バストネサイト〓という。）、或いはゼノタ
イム（Xenotime、主としてリン酸イツトリウム
鉱、YPO₄、本明細書中において〓ゼノタイム〓
という。）、ガドリナイト（Gadolinite、Be₂−
FeY₂Si₂O₁₀、本明細書中において〓ガドリナイ
ト〓という。）等が用いられており、従来これら
を精錬するに当つては、まず第一段階としてそれ
らのうちの一種若しくは一種以上のものから成る
鉱石粉末を化学処理して水酸化希土Ｒ（OH）₃、
塩化希土RCl₃若しくは硫酸希土R₂（SO₄）₃等を得
る作業を行つていた。然るのち、上記水酸化希
土、硫酸希土等の場合には塩酸等を加え、最終的
にはいずれも塩化希土とした上、これを溶融塩電
解法、水素還元法、金属還元法等の手段により精
錬して粗ミツシユメタルを得るものである。場合
によつては、上記水酸化希土、塩化希土若しくは
希土の複塩や錯塩を得た段階で、イオン交換法に
より予め希土類元素を分離する工程を加えること
もある。

而して、上記の第一段階の化学的処理方法とし
ては、アーク炉法や塩化処理法のような乾式法も
考えられてはいるが、一般的には硫酸処理法やア
ルカリ（苛性ソーダ）処理法等の湿式法が広く採
用されている。

然しながら、上記の硫酸処理法やアルカリ処理
法においては、93％硫酸の如き濃硫酸若しくは45
％苛性ソーダの如き強アルカリの使用が不可欠で
あるだけでなく、この処理を、前者においては
200〜250℃、また後者においては150℃前後の高
温を数時間維持して行う必要があり、このため
種々の問題があつた。

即ち、例えば、モナザイトを硫酸処理法で処理
する際には大量のSOxの発生が避けられない。こ
のため近時アルカリ法が多用されているようであ
るが、その場合には大量のアルカリミストの発生
という問題を生じる。他方、バストネサイトには
前述の如きアルカリ法は適用できず、このため硫
酸処理法に依存することになるが、大量のSOx及
びHFが発生するため、大型廃ガス処理装置の設
置が必須となり、省エネルギ及び省資源的にも問
題があるだけでなく、希土類金属を高価格のもの
とする要因となつていた。

また、希土類元素の原鉱としては、モナザイト
とバストネサイトとがそれぞれ別個に産出採取さ
れる場合もない訳ではないが、例えば中国白雲鉱
山より産出する希土含有鉱石の如く、モナザイト
系とバストネサイト系の混合精鉱（モナザイト約
40％、バストネサイト約60％）として得られる場
合も少なくない。このような混合精鉱の場合に、
廃ガス処理が大層なものとなる硫酸処理法を避け
て、アルカリ法を適用したとすると、該アルカリ
法はバストネサイトに対して殆ど無効であるか
ら、バストネサイト系の精鉱は無駄となり、希土
類元素の収率が悪くなる。そこで混合精鉱の場合
には、大型高価な公害対策設備等が必要となつて
も結局硫酸処理法を採用せざるを得ない状況にあ
つた。

本発明は叙上の観点に立つてなされたものであ
り、その目的とするところは、従来の如き高濃度
の酸やアルカリを用いることなく、従つて、大型
の廃ガス処理装置を必要とせず、しかもモナザイ
ト系とバストネサイト系の両方の精鉱に適用可能
な処理方法を提供することにある。

而して、本発明の要旨とするところは、上記の
如きモナザイト、バストネサイト等の希土含有鉱
石粉末自体、またはこれらの鉱石粉末に精錬のた
め用いられる各種化学物質を添加した混合物をプ
ラズマ雰囲気下に置き、然るのち化学的溶解によ
る精錬操作を行なうことにある。然るときは、こ
のプラズマ処理によつて鉱石内部に含まれる希土
類元素化合物とそれ以外の化合物との結合が緩め
られ、精鉱粉の表面が活性化されて、或いは鉱石
の一部以上のものに於て、希土類元素化合物の分
解による希土類金属の遊離や分解希土類金属と混
合化学物質またはその分解物との化合物を生成
し、それ以降の精錬処理反応が極めて円滑に行わ
れ、これにより低濃度且つ低温度の処理液でも従
来と略同等の金属回収率が得られるようになるの
である。従つて、本発明方法によるときは、従来
の如く多量の各種有害ガスを発生することがな
く、またモナザイト系若しくはバストネサイト系
の如何を問わず適用でき、またこれにより従来高
価であつた希土類金属を比較的安価に供給できる
ようになると共に、公害防止の点での有意義な処
理方法が提供されるものである。

以下、図面をも参照しつつ、本発明の構成の詳
細を説明する。

第１図は本発明方法を高周波誘導型プラズマ発
生装置を用いて実施する場合のその装置の一実施
例の概略を示す断面説明図、第２図は本発明方法
をプラズマジエツトトーチを用いて実施する場合
のその装置の一実施例の概略を示す断面説明図で
ある。

而して、第１図中、１は処理すべき希土類精鉱
粉２を収納するための密閉可能なホツパ、３はそ
の内部にスクリユウコンベア４が設けられた輸送
管、５はスクリユウコンベア４を駆動するための
モータ、６は輸送管３の出口端に接続して取り付
けられた耐熱ガラス管、７は耐熱ガラス管内にプ
ラズマを発生させるため耐熱ガラス管の周囲に巻
かれた高周波誘導コイル、８は上記コイルに高周
波電流を供給する高周波電源装置、９はプラズマ
処理済みの精鉱粉を収納する密閉可能な貯留タン
ク、１０は処理済みの精鉱粉を酸溶解処理するた
めの例えば塩酸（HCl）溶液１１等を満たした溶
解槽、１２はホツパ１内にAr（アルゴン）等のプ
ラズマ作動ガスを供給するためのガス源、１３は
バルブ、１４は耐熱ガラス管６、輸送管３、ホツ
パ１、貯留タンク９等の処理系内全体を減圧する
ための真空ポンプ、１５は真空ポンプの排気中に
含まれるプラズマ処理よつて発生したガスを吸収
するための例えば苛性ソーダ（NaOH）溶液１
６を満たした排ガス処理槽である。

処理すべきモナザイト、バストネサイト等の希
土類含有鉱石は予め粉砕して粒度−100〜−300メ
ツシユ程度またはそれ以下の微粉末精鉱としてお
く。また、場合によつては、硅砂等を除去するた
めに比重選鉱すると共に、鉄鉱石粉除去のための
電磁選鉱を行つて、希土含有量が約60％程度とな
るようにしておくことが推奨される。これは、プ
ラズマ処理において消費される電力をなるべく無
駄なく利用するための前処理であるが、本発明方
法は希土含有量が少ない場合（50％以下）でも適
用可能であるから、もし上記比重選鉱と電磁選鉱
に要する費用の方が希土含有量が少ないため幾分
無駄にされる電力の費用よりも高くつくようであ
れば、この比重選鉱と電磁選鉱は省略しても差支
えない。精鉱粉の粒度もかなり粗いものでも適用
可能であるが、照射処理後になされる各種公知の
化学的物理的精錬処理は通常−100〜−300メツシ
ユ程度でなされるのが普通であるから、本発明照
射処理を行う場合にもその程度に粉砕しておくこ
とが推奨されるものである。

而して、上記精鉱粉２をホツパ１内に充填し、
ホツパ１の蓋１ａ及び貯留タンク９の精鉱粉取出
し口の蓋９ａを密閉して処理系内全体を密封状態
とした上、バルブ１３を開いてホツパ１内にガス
源１２からArガスを導入しつつ真空ポンプ１４
を作動させて処理系内全体をArガスで満たし、
その後バルブ１３を大幅に絞ると共に真空ポンプ
１４を続けて作動させることにより、処理系内全
体をAr雰囲気下3Torr前後に減圧する。然るの
ち、スクリユウコンベア４を駆動し精鉱粉を耐熱
ガラス管６内に連続的に送り込みつつ、電源装置
８から高周波誘導コイル７に高周波電流を供給す
ると、耐熱ガラス管内にプラズマが発生し、そこ
を通過する精鉱粉はその粉末粒子の表面がイオン
化すると共に、精鉱粉中の希土類化合物と他の化
合物との結合が緩められ、或いはまた希土類化合
物の一部は分解するなどして、精鉱粉自体が大い
に活性化する。更にまた、精鉱粉はスクリユウコ
ンベアで耐熱ガラス管内に送り込まれる力で加圧
状態にあるため、粉末粒子同士の表面が擦り合せ
られ、これも精鉱粉を活性化する一要因となつて
いる。上記処理期間中に精鉱粉から一部遊離して
生じたガスは、真空ポンプ１４によつて排出さ
れ、苛性ソーダ溶液等を満たした排ガス処理槽内
に導入されて吸収、処理される。また、この排ガ
ス中に含まれるArガスは、上記溶液に吸収され
ることなく排ガス処理槽内の上部空間に溜るので
再び回収し、適宜浄化処理した上、ホツパ１内へ
還流させる。

高周波誘導コイル７に供給する電流の周波数と
しては、通常10〜3000MHz程度の範囲内のものが
使用される。

以上の如くしてプラズマ処理を終えた精鉱粉
は、貯溜タンク９内に一時貯えられ、取出し口の
蓋９ａを定期的に開くことにより溶解槽１０内に
取り入れられて、塩酸等で溶解処理される。溶解
槽内に用意される処理液は、通常は塩酸、硫酸或
いは苛性ソーダ等であり、これが例えば塩酸であ
る場合には精鉱粉中の希土類元素は酸溶解して塩
化希土（RCl₃）を生成し、硫酸である場合には
硫酸希土R₂（SO₄）₃を生成し、また苛性ソーダで
ある場合には水酸化希土Ｒ（OH）₃を生成する。

而して、本発明者が、上記の如き処理方法によ
り、バストネサイト70％、モナザイト30％の精鉱
粉（粒度−100メツシユ）を、3Torrに減圧した
Arガス中で誘導コイルに2560MHzの高周波電流
を供給してプラズマ処理し、処理済みの精鉱粉を
30％塩酸溶液60℃で溶解処理したところ、82％の
収率で塩化希土を得ることができた。一方、上記
プラズマ処理を行わない精鉱粉を上記同様の塩酸
溶液で処理しても希土類元素は殆ど回収されなか
つた。

また、バストネサイト50％、モナザイト50％の
精鉱粉（粒度−100メツシユ）を、3Torrに減圧
した窒素N₂及びアルゴンAr混合気中（分圧比
N₂：Ar＝４：１）で誘導コイルに2560MHzの高
周波電流を供給してプラズマ処理し、処理済みの
精鉱粉を、60℃、５％の苛性ソーダ溶液で５分間
分解、還元処理したところ、精鉱粉中の希土類元
素の82％が水酸化希土として回収された。これに
対し、上記プラズマ処理を行わない精鉱粉を上記
同様の苛性ソーダ溶液で処理しても希土類元素は
殆ど回収されなかつた。

以上の如く、本発明処理方法を適用した精鉱粉
は、従来に比べて遥かに低濃度且つ低温度の化学
液で処理され得ることが判る。

而して、上記実施例においては、プラズマ処理
を3Torrというような減圧下で行うものであつた
ため、被処理物とては、電解液等の液体を含まな
い精鉱粉のみを処理する例を示したが、このよう
な減圧下で処理を行う場合であつても被処理物は
必ずしも精鉱粉のみに限定される訳ではなく、精
鉱粉に他の化学品粉末等を混合したものであつて
もよい。即ち、例えば紛本願出願人が別途出願、
開示した希土類精鉱粉の処理方法においては、希
土類精鉱粉に炭素粉末を添加し、この混合物を加
熱、焼成して希土類炭化物（La₂C₃、LaC₂、
Ce₂C₃、CeC₂、Pr₂O₃、PrC₂、YC、Y₂C₃、YC₂、
ThC₂、Sm₂C、Gd₃C、Dy₃C、Er₃C等々）を得、
然る後この炭化物を塩酸、苛性ソーダ、水等で化
学処理して塩化希土や水酸化希土を得るものであ
つたが、そのような処理方法を採用する場合にお
いても、上記希土類精鉱粉と炭素粉末との混合物
を加熱、焼成するに先立ち、その混合物を被処理
物として本発明によるプラズマ処理を施すように
することも大いに推奨される。そのようにすれ
ば、その後の加熱、焼成時間が少なくて済み、ま
た、一部はプラズマ放電処理により既に炭化物と
している等、混合化学物質またはその分解物との
化合物を生成して処理が進行しているものもあ
り、しかも希土類元素の炭化物としての回収率が
一層向上するものである。従つて、上記実施例の
如く減圧下でプラズマ処理する場合、その被処理
物は精鉱粉のみに限らずこれに他の化学物質粉末
（上記炭素粉末のほか、苛性ソーダ粉末等も含
む。）等を混合したものをも包含するものである。

次に、本発明処理方法の別の実施例について第
２図を用いて説明する。

第２図中、２１は処理すべき希土類精鉱粉２２
を収納するためのホツパ、２３はその内部にスク
リユウコンベア２４が設けられた輸送管、２５は
スクリユウコンベア４を駆動するためのモータ、
２６は耐熱材料で作製された処理筒、２７，２７
は処理筒２６の壁面に取り付けられたプラズマジ
エツトトーチ、２８，２８は各プラズマジエツト
トーチ間に処理筒壁面から突出して設けられた邪
魔板、２９はその内部に塩酸その他の溶解液を満
たした溶解槽である。

この装置においては、処理すべき精鉱粉２２は
ホツパ２１から輸送管２３を経て処理筒２６内へ
送られ、プラズマジエツトトーチ２７，２７から
噴出されるプラズマ炎中を通過して溶解槽２９内
へ流下する。プラズマジエツトトーチ２７は、公
知の所謂電極型プラズマ装置の一種で、Ar、
N₂、H₂等のプラズマ作動ガス雰囲気中でタング
ステン、鋼等の電極間に生じるアーク放電を水冷
等の手段で集束させ、ノズルから炎状のプラズマ
を大気中に噴出させるものである。従つて、精鉱
粉自体は大気中でプラズマ処理されるものであ
り、処理系全体を減圧する必要がない点で有利で
ある。邪魔板２８，２８は、精鉱粉を各プラズマ
ジエツトトーチのプラズマ炎の所望の位置に流下
させる役割を有すると共に、精鉱粉の落下速度を
緩和して精鉱粉に対するプラズマ処理を充分なら
しめる役割を果している。プラズマ処理中に生じ
たガスは処理筒２６の頂部に設けた排気筒２６ａ
を通じて排出され、図では省略された排ガス処理
槽内に導入されて処理される。

第２図に示した装置の場合には、被処理物を減
圧下に置く必要がないところから、前記の如く精
鉱粉に炭素粉末を添加したもののみならず、精鉱
粉に塩酸、硫酸、苛性ソーダ等の電解質溶液を混
合、混練し、必要に応じて顆粒状若しくはペレツ
ト状に形成したもの等、水分を含有するものも処
理可能である。

而して、本発明処理方法を実施する場合に使用
するプラズマ発生装置としては、上記実施例に示
した如き高周波誘導型プラズマ発生装置やプラズ
マジエツトトーチの外に、従来公知の例えばプラ
ズマアーク装置やマイクロ波プラズマ発生装置を
用いることも勿論可能である。プラズマアーク装
置は、プラズマジエツトトーチと同様に電極型プ
ラズマ装置の一種であるが、被処理物自体を一方
の電極とする点がプラズマジエツトトーチの場合
と異なつている。従つて、プラズマアーク装置を
用いて本発明方法を実施する場合には、通常平板
状の陽極上に精鉱粉を載せ若しくは接触させつ
つ、両極間に生じるプラズマ雰囲気下にこれを曝
すという形態をとればよい。また、マイクロ波プ
ラズマ発生装置は、高周波誘導型プラズマ発生装
置と同様に無電極型プラズマ装置の一種であり、
減圧されたプラズマ作動ガス中に導波管を通じて
1000MHz以上のマイクロ波を放射することにより
プラズマを発生させるものであるので、例えば第
１図に示した実施例の如く、減圧した処理系の中
で被処理物がプラズマ中を通過、移動するように
すればよい。更にまた、公知のプラズマ炉の中に
精鉱粉等の被処理物を封入してプラズマ処理する
ようにしてもよい。

次に、プラズマ処理期間中に生じるガス、特に
精鉱粉に各種精錬用の化学物質を混合した場合に
生じるガスを可能な限り少なく若しくは害の少な
いものとするための対策について述べる。

本発明方法においては、高温、高濃度の化学薬
品を必要としないところから、従来の如く多量の
有害ガスは発生しないものではあるが、プラズマ
処理期間中、精鉱粉中に含有された希土類化合物
が分解したり、添加した他の化学物質と反応した
りすることによつて、何んらかの形でガスが発生
することは避けられない。

発生するガスは、処理すべき精鉱粉の種類や添
加した化学物質等によつて異なるが、例えば、モ
ナザイトとバストネサイトの混合粉から成る精鉱
粉のみをプラズマ処理する場合には、弗素ガス
（F₂）、燐ガス（P₄）、酸化燐ガス（P₂O₃、P₂O₅）
等が発生する。また、前述の如く、被処理物がモ
ナザイトとバストネサイトから成る精鉱粉に炭素
粉末を混合したものである場合には、リン酸塩鉱
粉や弗化炭酸塩鉱物である精鉱粉が一旦分解し
て、その中の希土類金属が炭素と炭化反応をする
訳であるから、プラズマ処理を大気中で行い且つ
精鉱粉及び炭素粉中に通常含まれている各種不純
物の外には格別の介在物がないものとすると、発
生有害ガスとしては、弗素ガス（F₂）、弗化水素
ガス（HF）、塩素ガス（Cl₂）、PCl₃及びPOCl等、
場合によつては燐酸（H₃PO₃）を生成すること
になる。従つて、これらのガス発生は、仮に比較
的小量であつたとしても、絶対的な完全処理が必
要となるものであるが、本発明プラズマ処理を施
すに当り、精鉱粉自体或いは精鉱粉と炭素粉末の
混合粉に予め炭酸ソーダ（NaCO₃）や苛性ソー
ダ（NaOH）等のソース類、特に好ましくは苛
性ソーダを所定量混合しておくことにより、上記
の如き有害ガスの大部分についてその発生を防止
できるか、または発生したとしてもその量を微量
とすることができ、産業上実施可能となる。

処理粉末に対する苛性ソーダの添加混合は、苛
性ソーダ結晶粉でも良いが、精鉱粉に充分な着き
まわりとなるように、適宜の濃度、例えば、５〜
80％の水溶液として混合すると良い。然しなが
ら、苛性ソーダ溶液を添加混合すると、苛性ソー
ダのミスト、蒸気が発生する可能性があること、
また後述化合物生成に要するエネルギは、仮りに
小さいものであつたとしても、少なくとも水溶液
中の水の大部分は加熱、蒸化させることになる訳
であるから、そのためのエネルギをロスする可能
性がある点でも注意を要する。このためには、必
要最小限の苛性ソーダを混合することと、水の蒸
発を、混合粉末が或る程度高温となる迄押さえる
ことが好ましく、例えば或る程度密閉状態で、且
つ加圧圧縮下に於てプラズマ処理するようにする
ことが推奨される。例えば、50％NaOH水溶液
を約300メツシユの希土精鉱粉に体積比で約1/5〜
１／７添加混合する。このようにすると、燐酸ソー
ダ（Na₃PO₄）、弗化ナトリウム（NaF）、炭酸ソ
ーダ（Na₂CO₃）、NaCl等またはそれらのミス
ト、蒸気が生成し、前述有害ガスの発生を著減さ
せることができる。但し、第１図に示す如く減圧
下でプラズマ処理する場合には、混合する苛性ソ
ーダ溶液の水分を可能な限り少なめにしておくこ
とが望ましい。また、耐熱ガラス管６に超音波振
動を付与して、分解及び反応の均一化を計るよう
にすることも推奨される。

また、精鉱粉に炭素粉以外の化学粉質、即ち塩
酸、硫酸、苛性ソーダ等々の電解質を混合してプ
ラズマ処理する場合においても、電解質として苛
性ソーダを採用すると、目的物である水酸化希土
Ｒ（OH）₃以外の生成物は上記同様燐酸ソーダ
（Na₃PO₄）、弗化ナトリウム（NaF）、炭酸ソー
ダ（Na₂CO₃）、NaCl等またはそれらのミスト、
蒸気であつて、有害ガスを殆ど発生しないので、
最も有用である。

本発明は叙上の如く構成されるから、本発明に
よるときは、従来の如き高濃度且つ高温度の酸や
アルカリで処理する必要がなく、従つて各種多量
の有害ガスを発生しないので大型の廃ガス処理装
置を必要とせず、またモナザイト系若しくはバス
トネサイト系、またはその混合系その他のいずれ
の鉱石にも適用でき、従つて精錬コストも低廉で
済む優れた処理方法が提供されるものである。

なお、本発明の構成は叙上の実施例に限定され
るものでなく、プラズマ発生装置としては従来公
知のもの或いは将来開発されるであろう各種プラ
ズマ装置を広く利用でき、被処理物としてもプラ
ズマ処理後の精錬方法に応じて上記以外の種々の
化学物質（個体粉末、液体を含む。）を配合した
精鉱粉に適用可能であつて、本発明はその目的の
範囲内におけるそれら総ての変更実施例を包摂す
るものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明方法を高周波誘導型プラズマ発
生装置を用いて実施する場合のその装置の一実施
例の概略を示す断面説明図、第２図は本発明方法
をプラズマジエツトトーチを用いて実施する場合
のその装置の一実施例の概略を示す断面説明図で
ある。１……ホツパ、２……精鉱粉、３……輸送管、
４……スクリユウコンベア、６……耐熱ガラス
管、７……高周波誘導コイル、８……高周波電源
装置、９……貯留タンク、１０……溶解槽、１２
……ガス源、１４……真空ポンプ、１５……排ガ
ス処理槽、２６……処理筒、２７……プラズマジ
エツトトーチ、２８……邪魔板、２９……溶解
槽。

Claims

【特許請求の範囲】１所望の粒度に粉砕した希土類精鉱粉自体また
はこれに精錬のため用いられる化学物質を添加し
た混合物（以下、両者を含めて「被処理物」とい
う。）をプラズマ雰囲気下に置いたのち、化学的
溶解による精錬処理を行なうことを特徴とする希
土類精鉱の処理方法。２上記希土類精鉱粉がモナザイトである特許請
求の範囲第１項記載の希土類精鉱の処理方法。３上記希土類精鉱粉がバストネサイトである特
許請求の範囲第１項記載の希土類精鉱の処理方
法。４上記希土類精鉱粉がゼノタイムである特許請
求の範囲第１項記載の希土類精鉱の処理方法。５上記希土類精鉱粉がガドリナイトである特許
請求の範囲第１項記載の希土類精鉱の処理方法。６上記希土類精鉱粉がモナザイト、バストネサ
イト、ゼノタイム及びガドリナイトのうちから選
ばれた少なくとも２種以上の混合物である特許請
求の範囲第１項記載の希土類精鉱の処理方法。７上記希土類精鉱粉がモナザイトとバストネサ
イトの混合物である特許請求の範囲第６項記載の
希土類精鉱の処理方法。８上記希土類精鉱粉の粒度が−100〜−300メツ
シユである特許請求の範囲第１項ないし第７項の
うちいずれか１に記載の希土類精鉱の処理方法。９上記希土類精鉱粉が比重選鉱及び／又は電磁
選鉱されてその希土含有量が60％程度のものであ
る特許請求の範囲第１項ないし第８項のうちいず
れか１に記載の希土類精鉱の処理方法。１０上記希土類精鉱粉が原鉱石を粉砕したまま
のものでその希土含有量が50％未満のものである
特許請求の範囲第１項ないし第８項のうちいずれ
か１に記載の希土類精鉱の処理方法。１１上記精錬のため用いられる化学物質が、電
解質溶液である特許請求の範囲第１項ないし第１
０項のうちいずれか１に記載の希土類精鉱の処理
方法。１２上記精錬のため用いられる化学物質が、炭
素粉末である特許請求の範囲第１項ないし第１０
項のうちいずれか１に記載の希土類精鉱の処理方
法。１３上記被処理物に苛性ソーダを添加した上で
プラズマ雰囲気下に置く特許請求の範囲第１項な
いし第１２項のうちいずれか１に記載の希土類精
鉱の処理方法。１４上記プラズマを発生させるための装置とし
て高周波誘導型プラズマ発生装置を用いる特許請
求の範囲第１項ないし第１３項のうちいずれか１
に記載の希土類精鉱の処理方法。１５上記プラズマを発生させるための装置とし
てプラズマジエツトトーチを用いる特許請求の範
囲第１項ないし第１３項のうちいずれか１に記載
の希土類精鉱の処理方法。１６上記プラズマを発生させるための装置とし
てプラズマアーク装置を用いる特許請求の範囲第
１項ないし第１３項のうちいずれか１に記載の希
土類精鉱の処理方法。１７上記プラズマを発生させるための装置とし
てマイクロ波プラズマ発生装置を用いる特許請求
の範囲第１項ないし第１３項のうちいずれか１に
記載の希土類精鉱の処理方法。１８上記プラズマ処理を減圧気中で行う特許請
求の範囲第１項ないし第１７項のうちいずれか１
に記載の希土類精鉱の処理方法。１９上記プラズマ処理を大気中で行う特許請求
の範囲第１項ないし第１７項のうちいずれか１に
記載の希土類精鉱の処理方法。２０上記プラズマ処理期間中、上記被処理物を
加圧する特許請求の範囲第１項ないし第１９項の
うちいずれか１に記載の希土類精鉱の処理方法。