JPH0248584A - トリアルキルシリルオキシ‐１，１‐ジフエニルエチレン及びそれを用いて製造された重合体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下記−形成Ｉに対応するトリアルキルシリルオ
キシ−１，１−ジフェニルエチレンに関し、及びそれを
用いて製造されたアリールトリアルキルシリルエーテル
末端基又はフェノール性ヒドロキシル末端基を有する新
規重合体に関し、及びこれらの重合体の陰イオン重合法
による製造方法に関する。

０３ｉ（Ｒ’）ｓ 但し　Ｒ’、Ｒ２＝　Ｈ，Ｃ、−Ｃ、アルキル、ＯＣＨ
。

Ｒ’　　　＝　Ｈ、Ｃ１Ｃ：　４アルキル、０−０１Ｃ
，アルキル Ｒ’　　　＝Ｈ，Ｃ，−Ｃ，アルキル、Ｒ’　　　＝Ｃ
，−Ｃ，アルキル、 Ｒ’　　　−Ｈ，Ｃ，−Ｃ４アルキル、を意味する。

本発明を要約すれば、本発明は下記−形成■０Ｓｉ（Ｒ
５）。

但し　Ｒ’、Ｒ”＝　Ｈ，Ｃ＋　　Ｃ４アルキル、ＯＣ
Ｈ。

Ｒ３−ＨｌＣ，−Ｃ，アルキル、０−Ｃ１Ｃ４アルキル Ｒ’　　　＝Ｈ，Ｃ，−Ｃ，アルキル、Ｒ’　　　”　
ＣＩＣ４アルキル、 Ｒ’　　　＝Ｈ，Ｃ，−Ｃ４アルキル、に対応するトリ
アルキルシリルオキシ−１，１−ジフェニルエチレン、
及びそれを用いて製造されるアリールトリアルキルシリ
ルエーテル末端基又はフェノール性ヒドロキシル末端基
を有する新規重合体、及びこれらの重合体の陰イオン重
合法による製造方法を提供することである。

ドイツ国特許公開公報第３．７２５．８４８号は、随時
１．１−ジフェニルエチレンによるポリアニオン（ｐｏ
ｌｙａｎｉｏｎ）の反応性の減少、２，５−ジメトキシ
ベンジルプロミドとの反応、及び引き続くトリメチルヨ
ードシラン、トリメチルりロロンラン又は沃化ナトリウ
ム又は酸によるエーテル開裂による保護基の除去を含む
、適当な化合物の陰イオン重合によるジヒドロキシ化合
物重合体の製造を記載している。

本化合物は重合体、特に重合体主鎖中に不飽和結合を含
む重合体の、熱分解、照射により誘発された分解及び酸
化的分解に対す安定剤として適当である。

所謂“リビング（ｌｉｖｉｎｇ）”ポリマー（ポリスチ
リル　リチウムのような）と他の官能基を有するハロゲ
ン化合物との反応は官能性重合体を与えるが、多数の二
次反応を伴う（Ｊ、Ｐｏｌｙｍ、Ｓｃｉ、Ａ　３、４１
３１　　（１９６５）　　；Ｐｏｌｙｍｅｒ１７、　ｌ
　０２０（１９７６）　　；　Ｊ、Ｐｏｌｙｍ、Ｓｃｉ
、Ｂ　ｌ　　４．４７１（１９７６）　　；　Ａｄｖ、
Ｐｏｌｙｍ、Ｓｃｉ、５６．７２（１９８４）を参照の
こと）。そのため官能性重合体の収率は充分とはいい難
いことが多い。従ってこの反応は工業規模の製造には適
していない。

本発明は式（Ｉ）に対応するトリアルキルシリルオキシ
−１，１−ジフェニルエチレン、そレヲ用いて製造され
た式（ＩＩＸＩＩＩ）に対応するアリールトリアルキル
シリルエーテル末端基又はフェノール性ヒドロキシル末
端基を有する新規重合体、及び対応する製造方法に関す
る。

０３ｉ（Ｒ５）＋ 但し　Ａ　　　＝陰イオン重合可能なビニルイヒ金物の
重合体、 Ｒ’、Ｒ”＝Ｈ，Ｃ，−Ｃ４ア　ル　キ　ル、ＯＣＨ３
Ｒ３−Ｈ，Ｃ，−Ｃ，ア　ル　キ　ル、ｏ−Ｃ。

Ｃ，アルキル Ｒ’　　　　　　＝Ｈ，Ｃ，−Ｃ４ア　ル　キ　ル、Ｒ
’　　　−Ｃ＋　　Ｃｉアルキル、 Ｒ＠　　　　　　−Ｈ、ｃ　　、−Ｃｔア　ル　キ　ル
、Ｒ’　　　　＝Ｈ％　５ｉ（Ｒ’）ｓ である。

本発明による式（Ｉ）のトリアルキルシリルオキンジフ
ェニルエチレンはそれ自体既知の方法で得ることができ
る。式（Ｖ）に対応するヒドロキシジフェニルエチレン
は、式（■）に対応するｌ−アルキル−１−フェニル−
ヒス−（ヒドロキシフェニル）メタンのアルカリ接触熱
分解により得ることができる（ドイツ国特許公告公報第
１，２３５．８９４号）： は上記に定義した通りである。

トリアルキルシリルオキシ−１，１−ジフェニルエチレ
ン（Ｉ）は、酸受容体の存在下に式（Ｖ）に対応するヒ
ドロキシジフェニルエチレント式（ＶＩ）に対応するハ
ロシランとの反応により形成される。

Ｒ・　　　Ｒ。

（Ｖ） 式■及びｖにおいて、Ｒ１、Ｒ１、Ｒ３、Ｒ３及びＲ６
但し　Ｈａｌ＝ＣＩＳ　Ｂｒである。

従って本発明による式（Ｉ）の化合物の製造のための出
発生成物は式（ＩＶ）に対応する１−アルキルＩ−フェ
ニルービス−（ヒドロキシフェニル）−メタンであり、
置換基Ｒ１ないしＲ６は上記に定義した通りである。

式（ＩＶ）に対応する化合物の例を挙げれば下記のよう
である： ｌ−メチル−゛ｌ−フェニルービスー（４−ヒドロキシ
フェニル）−メタン、 ｌ−エチル−１−フェニル−ビス−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−メタン、 ■−プロピルー１−フェニルービス−（４−ヒドロキン
フェニル）−メタン、 ｌ−ペンチル−１−フェニＪレービス＝（４−ヒドロキ
シフェニル）−メタン、 ｌ−メチル−１−（４−メチルフェニル）−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）−メタン、１−メチル＝１−（４
−メトキシフェニル）−ビス（４−ヒドロキシフェニル
）−メタン、■−メチルー１−（３，５−ジメチルフェ
ニル）ヒス−（４−ヒドロキシフェニル）−メタン、■
−メチルー１−フェニルービスー（２−ヒドロキンフェ
ニル）−メタン、 １−メチル−１−２ェニルービス−［（４−ヒドロキシ
フェニル）−（２″−ヒドロキシフェニル）］−メタン
、 ｌ−メチル−１−フェニル−ビス−（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）−メタン、ｌ−メチル−１−フェ
ニル−ビス−（３−メトキン−４−ヒドロキシフェニル
）−メタン、１−メチル−１−フェニル−ビス−（３，
５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−メタン、Ｉ
−メチル−１−フェニル−ビス−（３，５−ジメチル−
２−ヒドロキンフェニル）−メタン。

式（ＩＶ）に対応する好適な化合物は下記の置換基を含
む化合物である： Ｒ’＝　Ｈ。

Ｒ２＝Ｈ％ＣＨ，、○ＣＨ３ Ｒ”＝Ｈ，ＣＨ，，０ＣＨ３ Ｒ’＝Ｈ％ＣＨ，、 Ｒ’＝Ｈ，ＣＨ，。

より好適には、ＲＩＲ２、Ｒ３、Ｒ４及びＲ６は水素で
ある。

式（ｒＶ）に対応する化合物はドイツ国特許公告公報第
１．２３５．８９４号に記載された条件下で開裂するこ
とができる。式（Ｖ）に対応する化合物と反応して本発
明による式（１）のトリアルキルンリルオキシー１．１
−ジフェニルエチレンとするのに適当なハロシランは式
（Ｖｌ）に対応している。

式（Ｖｌ）に対応するハロシランの例はトリメチルクロ
ロシラン、トリエチルブロモシラン、トリプロピルクロ
ロシラン、ジエチルメチルクロロシランである。トリメ
チルクロロシラン及びトリエチルクロロンランが好適で
あり、トリメチルクロロシランが最も好適である。

式（ｖ）に対応する化合物は、炭化水素（ガソリン、リ
フロイン、ヘプタン、ペンタン、シクロヘキサン、ベン
ゼン、トルエン、キシレン）、ハロゲン化炭化水素（ク
ロロホルム、塩化メチレン、ジクロロエタン、クロロベ
ンゼン）又はエーテル（ジエチルエーテル、ジイソプロ
ピルエーテル、ジブチルエーテル）のような不活性溶剤
中で、式（Ｖｌ）の化合物と、ｌ：１のそル比で（又は
（Ｖｌ）を僅か過剰にして）反応させることができる；
反応は好適にはアンモニア、トリエチルアミン、トリブ
チルアミン、ピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、キノ
リンのような塩基の存在において炭化水素中で行われる
。しかし式（Ｖ）の化合物は又塩に転化され、塩が乾燥
状態でハロシランと反応する二とができる。上記のアミ
ン塩以外に、リチウム、ナトリウム及びカリウムの塩も
適当な塩である。

反応温度は０ないし１２０°Ｃの範囲及び好適にはＩＯ
ないし１００°Ｃの範囲にある。

塩基は（Ｖ）に対し少なくとも化学量論的な量で使用し
なければならないが、僅かに過剰に使用することが最良
である。

反応の際に生成した塩を、例えば濾過ｌこよって分離し
た後、式（１）に対応する化合物は直接そのまま使用す
ることができるが、蒸留によって更に精製することも可
能である。

新規重合体の製造に適当な式ＣＩ）の化合物の例を挙げ
れば下記のようである： ４−メチル−４′−トリメチルシリルオキシ−１゜１−
ジフェニルエチレン、 ４−エチル−４′−トリエチルシリルオキシ−１゜ｌ−
ジフェニルエチレン、 ３−メトキシ−４′−トリメチルシリルオキシ１．１−
ジフェニルエチレン、 ４−インプロビル−４′−トリエチルシリルオキシ−１
，１−ジフェニルエチレン、 ４−メチル−２′−トリメチルシリルオキシ−５′−メ
チル−１，１−ジフェニルエチレン、３−メチル−４−
トリメチルシリルオキシ−１゜■−ジフェニルエチレン
、 ４−メトキシ−２′−トリメチルシリルオキシ−３°、
５′−ジメチル−１，１−ジフェニルエチレン、３−メ
トキシ−４−トリメチルシリルオキシ−１゜ｌ−ジフェ
ニルエチレン、 ４−トリメチルシリルオキソ−β−メチル−１゜■−ジ
フェニルエチレン、 ４−トリメチルシリルオキシ−β−プロピル−１゜１−
ジフェニルエチレン、 ４−トリメチルシリルオキシ−１，１−ジフェニルエチ
レンが特に好適である。

式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）に対応するアリールトリ、メ
チルシリルエーテル末端基を有する重合体化合物又はフ
ェノール性ヒドロキシル末端基を有する重合体化合物の
製造のための本発明の方法は下記の工程を含んでいる二 ■、適当なビニル化合物の陰イオン重合によるポリアニ
オンの製造。

２、式（Ｉ） Ｏ５ｉ（Ｒ５）ｘ 但し　Ｒ１ないしＲ６は上記で定義した通りである、に
対応する化合物とポリアニオンとの反応。

３、反応生成物（それ自体ポリアニオンである）とプロ
トン性（ｐｒｏｔ　ｉｃ）化合物との中和による、Ｒ’
−３ｉ（Ｒ５：ｈである式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）に対
応するアリールトリシリルオキシエーテル末端基を有す
る重合体化合物の生成。

４、随時Ｒ’−Ｈである式（Ｉ［）及び（Ｉ）に対応す
るフェノール性ヒドロキシル末端基を有する重合体化合
物の生成のためのシリルエーテルの開裂。

工程ｌにおいては、陰イオン重合可能なビニル化合物が
芳香族又は脂肪族炭化水素又はエーテル中で、アルキル
アルカリ金属化合物、アリールアルカリ金属化合物又は
オリゴマー状α−メチルスチレン／アルカリ金属化合物
と、゛リビングポリアニオン又はポリ−ジ−アニオンの
形成を伴って重合し、この反応は単量体が完全に転化す
るまで継続する。工程２においては、ポリアニオン又は
ポリ−ジ−アニオンは式（Ｉ）に対応する化合物と反応
し、新しいポリアニオン又はポリ−ジ−アニオンの形成
をもたらす。工程３においては、ポリアニオン又はポリ
−ジ−アニオンはプロトン性化合物で中和されて、アリ
ールトリシリルオキシエーテル末端基（Ｒ’＝　Ｓ　ｉ
　（Ｒ’）ｚ）を有する（Ｉ［）又は（ＩＩＩ）に対応
する重合体化合物が単離される。

フェノール性ヒドロキシル末端基（Ｒ’＝Ｈ）を有する
（ｎ）又は（ＩＩ［）に対応する重合体を製造するため
には、工程ｌ及び２の後で、工程３においてポリアニオ
ン又はジ−アニオンを中和し、随時生成物を単離し、シ
リルエーテルを開裂する。

本発明の意味において適当な陰イオン的に重合可能な化
合物は、例えばスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニル
ピリジン、ビニルナフタレン、インプロペニルナフタレ
ン、ｌ、３−ブタジェン、イソプレン又はそれらの混合
物である。スチレン、１．３−ブタジェン、イソプレン
又はスチレン／１．３−ブタジェン及びスチレン／イソ
プレンの混合物が好適である。

本発明の意味において適当な芳香族及び脂肪族炭化水素
は、例えばトルエン、ベンゼン、キシレン、ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサンである。

本発明の意味におけるエーテルは、例えばテトラヒドロ
７ラン及びジオキサンである。芳香族又は脂肪族炭化水
素及びエーテルの混合物も又反応速度を成程度調節する
ために使用できる。

式（ｎ）に対応する重合体を製造するためには、アルキ
ルアルカリ金属化合物、特にｎ−プチルリチウム又は第
ニブチルリチウムが開始剤として好適に使用される。

式（Ｉ［［）に対応する重合体を製造するためには、ア
リールアルカリ金属化合物、特にナフタレンナトリウム
、ナフタレンカリウム、オリゴ−α−メチルスチリルナ
トリウム、オリゴ−α−メチルスチリルカリウム又は１
．３−−ｙｘニレンービス（３メチル−１−フェニル−
ペンチリデン）−ビス（リチウム）が開始剤として好適
に使用される。

陰イオン的に重合可能な化合物は−１００°Ｃないし＋
ｇｏ’ｃ、好適には一７８°Ｃないし５０°Ｃで重合す
ることができる。

“リビング″ポリマー陰イオンは一７８℃ないし＋１０
０°Ｃ及び好適には０°Ｃないし＋５０℃で化合物（Ｉ
）と反応することかできる。化合物（Ｉ）は開始剤に対
し過剰に使用されることが好ましい。

゛リビングパボリマー陰イオンに対する適当な中和剤は
、例えば弱い無機又は有機酸、特にメタノール又は酢酸
である。

本発明による方法は“リビングカルボアニオン（ｃａｒ
ｂａｎ　１ｏｎ）が使用されるので、当然カルボアニオ
ンが安定な条件、例えば不活性雰囲気、大気中の酸素及
び湿気の不在等の条件を保持することが必要である。

式（ｎ）又は（ＩＩ［）に対応するシリルエーテル（Ｒ
５−Ｓ　ｉ　（Ｒ’）３）は無機酸（例えば塩酸）又は
有機酸（例えばｐ−トルエンスルホン酸）でそれらの溶
液を酸性化することにより都合良く開裂することができ
る。開裂は室温ないし溶剤の沸点温度までの範囲の温度
で行われる。

本発明による式（ＩＩ）又は（Ｉ［［）の重合体（Ｒ’
−Ｈ）は溶液から、好適にはメタノールを用いて重合体
を沈澱させること、又は既知の蒸発装置中で重合体溶液
を蒸発することにより単離することができる。

本発明による式（ｎ）又は（Ｉ）の重合体は５００ｇ１
モルないし５００，０００ｇ１モル、好適には１０００
ｇ１モルないし２５０．０００ｇ１モル、及び−層好適
にはｌ０００ｇ１モルないし１００．０００ｇ１モルの
分子量（単量体濃度対開始剤濃度の比により調節可能）
を有している。

本発明による式（ＩＩ）又は（Ｉ［＋）の重合体は合成
重合体の安定剤及び／又は潤滑剤として適当であり、更
にそれら（Ｒ’＝Ｈ）は重縮合体の増成（ｂｕｉｌｄ−
ｕｐ）に使用できる。

実施例　１ １．１　１−メチル−１−フェニル−ビス−（４２ヒド
ロキシフエニル）−メタンの製造 ２４０ｇ　（２モル）のアセトフェノン、９４０ｇ　（
１０モル）のフェノール及び３０ｇのメルカプトプロピ
オン酸の混合物をＨＣＩガスで飽和し、同時に徐々に５
０°Ｃに加熱する。次いで混合物をこれらの条件下に５
時間保ち、−夜装置し、次いで水流ポンプの真空中でま
ずＭＣＩ及び水を留去し、引き続き塔底（ｓｕｍｐ）温
度を１２０°Ｃまで上げて過剰の７エノールを留去する
。残留する５１０９の残渣を還流下に１２５０＋ｎＱの
トルエンに再溶解し、冷却後再沈澱させて吸引濾過し、
そして乾燥する：収′Ｉｋ４１２ｇ、融点１８５−７°
Ｃ１即ち理論量の７２％である（分子量５８０）。

１．２　４−ヒドロキシ−１，１〜ジフエニルエチレン
の製造： 上記のようにして得られた４００ｇのトリフェニルメタ
ン誘導体を４９のＮａＯＨと共に１８０２２０°Ｃに加
熱する。分解生成物を温度１３０１６０°Ｃで、及び約
１５ｍｂａｒで蒸留する。

合計３４０ｇの留出物と約５６ｇの褐色の樹脂状残渣が
得られる。

この留出物から再蒸留によって１２０ｇの画分か単離さ
れ、これは標題化合物に相当する（理論量の４５％；分
子量［９６）。

１．３４−トリメチルシリルオキシ−１，１−ジフェニ
ルエチレンの製造： 開裂により得られた１００ｇ　（０，５１モル）の４−
ヒドロキシ−１，１−ジフェニルエチレンを２００ｍ＋
２のシクロヘキサンに溶解し、得られる溶液に５６！？
　　（０，５６モル）のトリエチルアミンを添加し、室
温ないし５０°Ｃにおいて約１時間に互って５６ｇ　（
０，５６モル）のトリメチルクロロンランを滴下しつつ
加える。５０°Ｃで２時間後、沈澱した塩を加圧下に濾
別し、濾過ケークをシクロヘキサンで充分に洗浄し、濾
液全体を蒸留する。沸点、、、１４３−８°Ｃの主留分
を再蒸留するとｌｌｏｇの無色の液体（ｎＶ＝１．５５
５８）が得られ、これはＮＭＲによれば標題化合物に相
当し、少なくとも純度９５％である（理論量の６７％）
。

１．４　　゛リビングポリスチレン陰イオンと４−トリ
メチルシリルオキシ−１，１−ジフェニルエチレンとの
反応（Ｒ７＝Ｓｉ（Ｒ５）である式（ｎ）の重合体の製
造）： ８００ｍＱのトルエン及び１００．２ｇのスチレンの混
合物中に窒素雰囲気下で室温において迅速に撹拌しなが
ら２．５モルのｎ−ブチルリチウム溶液（ヘキサン中）
の６．５ｍＱを注射器によって導入すると、溶液は橙赤
色に着色した。次いで温度を４０°Ｃに上げた。重合時
間３時間の後、溶液を室温とし、ｌｏｇの４−トリメチ
ルシリルオキシ−１，１−ジフェニルエチレン及び６０
ｇのトルエンから成る溶液４５＋ＩＩＱを注射器を用い
て添加すると、溶液の色は暗赤色に変化した。反応時間
は室温で１時間であった。次いで重合体を２ｍＱのメタ
ノール（窒素で飽和した）で中和し、メタノール中で沈
澱させることにより単離した。

１．５　　シリルエーテルの開裂（式（Ｉ［）の重合体
（Ｒ’−Ｈ）の製造）： ８００ｍ１２のテトラヒドロフランに溶解した上記実施
例で記載した重合体１００ｇの溶液に、２０ｍＱの１０
％塩酸水溶液を添加した。反応時間は１時間であった。

次いで重合体をメタノール中で沈澱し、中性になるまで
洗浄し、且つ乾燥した。

ＧＰＣ分析（較正物質：ポリスチレン）二Ｍ、＝６，５
００ｇ１モル Ｍ、−７，９００ｇ１モル ２．１　　“リビング″ポリスチレンージーアニオンと
４−トリメチルシリルオキシ−１，１−ジフェニルエチ
レン、！：　（１）反応（Ｒ’−Ｓ　ｉ　（Ｒ”）ｓで
ある式（ＩＩＩ）の重合体の製造）：２５０ｍ（２のテ
トラヒドロフラン中の０．５５ｇ（０，０２４モル）の
ナトリウムに、窒素気流下で４ｇ（０，０３１モル）の
ナフタレンを添加する。

溶液の色は鮮緑色に変わった。室温で２時間後、ナトリ
ウムは完全に反応してす７タレンーナトリウムとなった
。次いで５０ｇのスチレンを２時間に互って注射器で滴
下しつつ添加すると、色は赤色に変わった。更に３０分
後、８ｇ（０，０３モル）の４−トリメチルシリルオキ
シ−１，１−ジフェニルエチレン及び１５ｍＱのトルエ
ンから成る溶液を注射器により添加した。室温で２時間
反応後、重合体をメタノール（窒素で飽和した）で中和
し、メタノール中で沈澱させることにより単離した。

２．２　シリルエーテルの開裂（（Ｒ’＝Ｈ）を有する
式（Ｉ［［）の重合体の製造）： ３５０ｍ（２のテトラヒドロフランに溶解した上記実施
例で記載した重合体４５ｇの溶液に、３５ｍｆｆの１０
％塩酸水溶液を添加した。１時間の反応時間後、重合体
をメタノール中で沈澱し、中性になるまで洗浄し、且つ
乾燥した。

本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。

１９式（Ｉ） Ｏ５ｉ（Ｒ’）ｚ 但し　Ｒ’、Ｒ”＝　Ｈ，Ｃ、−Ｃ、アルキル、０ＣＨ
３Ｒ３＝Ｈ，Ｃ，−Ｃ４アルキル、Ｏ−Ｃ。

Ｃ４アルキル Ｒ’　　　＝Ｈ，Ｃ，−Ｃ，アルキル、Ｒ’　　　＝Ｃ
，−Ｃ，アルキル、 Ｒ’　　　”　Ｈ１Ｃｒ　　Ｃａアルキル、に対応する
トリアルキルシリルオキシ−１，１−ジフェニルエチレ
ン。

２、式（ｎ）及び（Ｉｎ） 但し　Ａは陰イオン重合可能なビニル化合物の重合体で
あり、及び Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６及びＲ６は上記１に定義
されｔ；意味を有し、Ｒ７は水素又は−３ｉ（Ｒ’）ｓ
である、 に対応するアリールトリアルキルシリルエーテル末端基
又はフェノール性ヒドロキシル末端基を有する重合体化
合物。

３、Ｒ’＝Ｈ、Ｒ”＝Ｈ，ＣＨ３，０ＣＨ１；Ｒ””Ｈ
−ＣＨｓ；　Ｒ’−ＣＩ　Ｃ４アルキル及び、Ｒ’＝Ｈ
，ＣＨ，である、上記ｌに記載のトリアルキルシリルオ
キシ−１，１−ジフェニルエチレン、上記２に記載のア
リールトリアルキルシリルエーテル末端基又はフェノー
ル性ヒドロキシル末端基を有する重合体化合物。

４、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ′、Ｒ４及びＲ６が水素であり、Ｒ
′がＣＨ，である、上記１に記載のトリアルキルシリル
オキシ−１，１−ジフェニルエチレン、上記２に記載の
アリールトリアルキルシリルエーテル末端基又はフェノ
ール性ヒドロキシル末端基を有する重合体化合物。

５、Ａがスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタ
レン、イングロペニルナフタレン、ビニルピリジン、■
、３−ブタジェン、イソプレン又はそれらの混合物から
合成された重合体である、上記２に記載のアリールトリ
アルキルシリルエーテル末端基又はフェノール性ヒドロ
キシル末端基を有する重合体化合物。

６、下記工程 ｌ）単量体を陰イオン重合すること、 ２）工程Ｉで形成された“リビング′°ポリマー陰イオ
ンを式（Ｉ）に対応する化合物と反応させること、 ３）工程２で形成されｊ：ポリマー陰イオンを中和し、
重合体を単離すること から成ることを特徴とする上記２に記載のアリールトリ
アルキルシリルエーテル末端基を有する重合体化合物の
製造方法。

７、下記工程 ｌ）単量体を陰イオン重合すること、 ２）工程ｌで形成された゛リビング″ポリマー陰イオン
を式（Ｉ）に対応する化合物と反応させること、 ３）工程２で形成されたポリマー陰イオンを中和し、随
時重合体を単離し、且つシリルエーテルを開裂すること から成ることを特徴とする上記２に記載のフェノール性
ヒドロキシル末端基を有する重合体化合物の製造方法。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 但しＲ＾１、Ｒ＾２＝Ｈ、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、Ｏ
   ＣＨ＿３Ｒ＾３＝Ｈ、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、Ｏ−Ｃ
   ＿１−Ｃ＿４アルキル Ｒ＾４＝Ｈ、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、 Ｒ＾５＝Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、 Ｒ＾６＝Ｈ、Ｃ＿１−Ｃ＿４アルキル、 に対応するトリアルキルシリルオキシ−１，１−ジフェ
   ニルエチレン。 ２、式（II）及び（III） ▲数式、化学式、表等があります▼（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 但しＡは陰イオン重合可能なビニル化合物の重合体であ
   り、及び Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５及びＲ＾６は
   特許請求の範囲第１項に定義された意味を有し、 Ｒ＾７は水素又は−Ｓｉ（Ｒ＾８）＿３である、に対応
   するアリールトリアルキルシリルエーテル末端基又はフ
   ェノール性ヒドロキシル末端基を有する重合体化合物。 ３、下記工程 １）単量体を陰イオン重合すること、 ２）工程１で形成された“リビング”ポリマー陰イオン
   を式（ I ）に対応する化合物と反応させること、 ３）工程２で形成されたポリマー陰イオンを中和し、重
   合体を単離すること から成ることを特徴とする特許請求の範囲２項に記載の
   アリールトリアルキルシリルエーテル末端基を有する重
   合体化合物の製造方法。 ４、下記工程 １）単量体を陰イオン重合すること、 ２）工程１で形成された“リビング”ポリマー陰イオン
   を式（ I ）に対応する化合物と反応させること、 ３）工程２で形成されたポリマー陰イオンを中和し、随
   時重合体を単離し、且つシリルエーテルを開裂すること から成ることを特徴とする特許請求の範囲２項に記載の
   フェノール性ヒドロキシル末端基を有する重合体化合物
   の製造方法。