JPH0245512A - 感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント - Google Patents

感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメント

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JPH0245512A
JPH0245512A JP63196383A JP19638388A JPH0245512A JP H0245512 A JPH0245512 A JP H0245512A JP 63196383 A JP63196383 A JP 63196383A JP 19638388 A JP19638388 A JP 19638388A JP H0245512 A JPH0245512 A JP H0245512A
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JP
Japan
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equivalent
unsaturated compound
acid
resin composition
photosensitive resin
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Application number
JP63196383A
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English (en)
Inventor
Katsushige Tsukada
塚田 勝重
Kenji Hattori
健治 服部
Katsunori Tsuchiya
勝則 土屋
Tadashi Fujii
正 藤井
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エ
レメントに関し、さらに詳しくは印刷配線板製造、金属
精密加工等の保護膜形成に好適な感光性樹脂組成物およ
びこれを用いた感光性エレメントに関する。
〔従来の技術〕
従来、印刷配線板業界において、ソルダマスク、化学め
っき用レジスト等には優れた特性を有する感光性樹脂組
成物が用いられている。ソルダマスクの主な目的は、は
んだ付は時のはんだ付は領域を限定し、はんだブリッジ
等を防ぎ、裸の銅導体の腐食を防止し、長期にわたる導
体間の電気絶縁性を保持することにある。ソルダマスク
としては、通常、エポキシ樹脂、アミノブラスト樹脂等
の熱硬化性樹脂を主成分とする印刷マスクが用いられる
しかし、近年、印刷配線板の配線密度が高まり、また導
体間の電気絶縁性の要求が強くなり、厚膜で寸法精度の
優れたソルダマスクが要求され、従来のスクリーン印刷
等による方法では対処できなくなっており、像状露光を
した後、現像によって画像を形成する写真法によって、
例えば導体上25μm程度の厚膜で、寸法精度に優れた
高倍転性のソルダマスクが形成できる感光性樹脂組成物
の出現が望まれている。
従来、I、1.1−)リクロルエタン等の難燃性有機溶
剤で現像可能なソルダマスク形成用感光性樹脂組成物と
しては、(1)アクリル系ポリマおよび光重合性モノマ
を主成分とする感光性樹脂組成物(特開昭53−560
18号公報、特開昭5.4−1018号公報等)(2)
ノボラック型エポキシ樹脂と不飽和カルボン酸とを、酸
当量/エポキシ当量の比を0.1〜0.98の範囲とし
て付加反応させて得られる不飽和化合物の2級水酸基に
、イソシアナートエチルメタクリレートをイソシアナー
ト当量/水酸基当量の比を0.1〜1.2の範囲として
反応させて得られる光重合性化合物を生成分とする感光
性樹脂組成物(特開昭61−132947号公報)等が
知られている。
しかしながら、前記(1)の感光性樹脂組成物はフィル
ム性付与のためアクリル系ポリマを多量に使用しており
、硬化被膜の耐熱性が充分でないという欠点がある。ま
た前記(2)の感光性樹脂組成物は、エポキシ樹脂をベ
ースとしており、硬化被膜の耐熱性には優れているが可
撓性に乏しく、打抜き加工時にクランクが生じ易いとい
う欠点がある。
〔発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、前記従来技術の欠点を除去し、1.1
.1−)リクロルエタン等の難燃性現像液で現像でき、
厚膜でも解像度に優れ、かつ耐熱性および可撓性に優れ
た高信頼性ソルダマスクを形成することができる感光性
樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレメントを提供
することにある。
〔課題を解決するための手段] 本発明は、(a)ノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和
モノカルボン酸と、末端に少なくとも1個のカルボキシ
ル基を存するジエン系オリゴマーとを、不飽和モノカル
ボン酸の酸当量/ジエン系オリゴマーの酸当量の比を3
〜30かつ全酸当量/エポキシ当量の比を0.1〜0.
98の範囲として付加反応させて得られる不飽和化合物
に、イソシアナートエチルメタクリレートを、インシア
ナート当量/水酸基当量比を0.1〜1.2の範囲とし
て反応させて得られる光重合性不飽和化合物ならびに(
b)活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤および
/または増感剤系を含有してなる感光性樹脂組成物に関
する。
また本発明は、前記感光性樹脂組成物の溶液をフィルム
上に塗布、乾燥して得られる感光性エレメントに関する
本発明の感光性樹脂組成物は、必須成分(a)として、
ノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和モノカルボン酸と
、末端に少なくとも1個のカルボキシル基を有するジエ
ン系オリゴマーとを、一定の割合で付加反応させて得ら
れる不飽和化合物に、イソシアナートエチルメタクリレ
ートを、一定の割合で反応させて得られる光重合性不飽
和化合物を含有する。
本発明に用いられるノボラック型エポキシ樹脂としては
、例えばオルソクレゾール、フェノール、ハロゲン化フ
ェノール等とアルデヒドとを酸触媒の存在下に反応させ
て得られるノボラック型樹脂のフェノール性水酸基に、
アルカリの存在下にエピクロルヒドリンを反応させて得
られるオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂およびハロゲン化フ
ェノールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく用いられ
、これらは混合して使用することもできる。
またこれらは商業的にも入手可能である。
オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、
例えばチバ・ガイギー社製アラルダイトECN1299
(軟化点99°C、エポキシ当量230)、ECN12
80 (軟化点80°C、エポキシ当量230)、EC
N1273 (軟化点73°C1エポキシ当ff123
0)、日本化薬社製EOCNI04(軟化点90〜10
0”C,エポキシ当量225〜245)、EOCN10
3 (軟化点80〜9o ”c、エポキシ当量215〜
235)、EOCN102(軟化点70〜80°C、エ
ポキシ当量215〜235)等が挙げられる。
フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、例えば
シェル社製エピコート154 (エポキシ当量176〜
181)、ダウケミカル社製DEN431 (エポキシ
当量172〜179)、DEN438(エポキシ当量1
75〜182)、東部化成社製YDPN−638(1−
;Nキシ当1117o〜190)、YDPN−601(
Iポキシ当量180〜220)、YDPN−602(x
−ポキシ当景180〜220)等が挙げられる。
ハロゲン化フェノールノボラック型エポキシ樹脂として
は、例えば日本曹達社製BREN (エポキシ当量27
0〜300、臭素含有量35〜37%、軟化点80〜9
0°C)等の臭素化フェノールノボラック型エポキシ樹
脂などが挙げられる。
本発明に用いられる不飽和モノカルボン酸としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、β−フリルアクリル酸、β−
スチリルアクリル酸、α−シアノケイ皮酸、ケイ皮酸等
が挙げられる。
本発明に用いられるジエン系オリゴマーは、末端に少な
くとも1個のカルボキシル基を有するものである。該ジ
エン系オリゴマーとしては、主鎖にブタジェン、水素添
加ブタジェン、イソプレン、水素添加イソプレン、イソ
ブチレンおよび水素添加イソブチレンからなる群から選
ばれた少なくとも1種の構成単位を少なくとも60重量
%含み、主鎖の末端に少なくとも1個のカルボキシル基
を有するオリゴマーが好ましく用いられる。前記主鎖に
はスチレン、アクリロニトリル等のビニルモノマの骨格
を含ませることができる。このようなオリゴマーには、
末端カルボキシル基含有ポリブタジェン、末端カルボキ
シル基含有ブタジェン/アクリロニトリル共重合体、末
端カルボキシル基含有水素添加ポリブタジェン等があり
、これらは商業的に入手可能である。
末端カルボキシル基含有ポリブタジェンとして、例えば
ビー・エフ・グツドリッチ(BF  Go。
drich)社製Hycar  CTB2000x16
2(カルボキシル基数2.01個1モル、分子1480
0)、Hycar  CTB2000X156(カルボ
キシル基数2.01個1モル、分子量4800)、フィ
リップス・ペトロロイム(Phillips  Pet
roleum)社製Butarez  CTL、日本合
成ゴム社製JSR−CTPB (カルボキシル基数1.
7個1モル、分子量4500)、日本曹達社製Nl5S
O−PBC−1000(カルボキシル基数1.5個1モ
ル、分子〒1400)等が挙げられる。
末端カルボキシル基含有ブタジェン/アクリロニトリル
共重合体としては、例えばビー・エフ・グツドリッチ(
BF  Goodrich)社製Hycar  CTB
N1300X15(カルボキシル基数1.9個1モル、
アクリロニトリル含有量10重量%、分子量3500)
、Hycar  CTBN1300X8 (カルボキシ
ル基数1.85個1モル、アクリロニトリル含有量17
重量%、分子量3500)、Hycar  CTBN1
300x13(カルボキシル基数1.85個1モル、ア
クリロニトリル含有量27重量%、分子量3500)、
Hycar  CTBN1300X9(カルボキシル基
数2.3個1モル、アクリロニトリル含有量17重量%
、分子量3500)、Hycar  CTBN1300
X18 (カルボキシル基数2.3個1モル、アクリロ
ニトリル含有量20.5重量%、分子量3500)等が
用いられる。
末端カルボキシル基含有水素添加ポリブタジェンとして
は、例えばゼネラル・タイヤ・アンド・ラバー(Gen
eral  Tire  and  Rubber)社
製TelogenS等が用いられる。英国特許筒957
,652号明細書(1964)に記載される末端カルボ
キシル基含有ブタジェン/イソプレン共重合体、ジャー
ナル・オプ・ボッマー・サイエンス(J、Polyme
r  Sci、)、54.89 (1961)に記載さ
れる末端カルボキシル基含有ポリイソプレン等も使用す
ることができる。
本発明に用いられる前記ノボラック型エボキシ樹脂と、
不飽和モノカルボン酸と、ジエン系オリゴマーとを付加
反応して得られる不飽和化合物は、不飽和モノカルボン
酸の酸当量/ジエン系オリゴマーの酸当量の比を3〜3
0、好ましくは6〜12、かつ全酸当量/エポキシ当量
の比を0.1〜0゜9日、好ましくは0.2〜0.5の
範囲として付加反応させて得られるものである。
不飽和モノカルボン酸の酸当量/ジエン系オリゴマーの
酸当量比が30を超えると、硬化被膜の可撓性が低下し
、3未満では付加反応時にゲル化しやすくなり、または
んだ耐熱性、耐溶荊性等の特性が低下する。また酸当量
/エポキシ当量の比が0.1未満では現像時に光硬化膜
が膨潤しやすくなり、0.98を超えるとはんだ耐熱性
が低下する。
前記不飽和化合物は、常法によって得ることができる。
例えば触媒としてトリエチルアミン、トリーn−ブチル
アミン、ジエチルシクロヘキシルアミン等の3級アミン
、塩化ベンジルトリメチルアンモニウム、塩化ベンジル
トリエチルアンモニウム等の4級アンモニウム塩、重合
禁止剤とじてハイドロキノン、p−メトキシフエ、′−
ル等を用い、70〜110°Cで不飽和モノカルボン酸
、末端カルボキシル基台をジエン系オリゴマーおよびノ
ボラック型エポキシ樹脂を撹拌反応させることにより得
られる。この反応の際の反応溶媒として、メチルエチル
ケトン、メチルセロソルブアセテート、1,1.1−ト
リクロルエタン等の有機溶剤、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、エチルカルピトールアクリレート等
の光重合性単量体を用いることができる。
本発明における光重合性不飽和化合物(a)は、前記不
飽和化合物の2級水酸基に、イソシアナートエチルメタ
クリレートを、イソシアナート当量/水酸基当量比を0
.1〜1.2の範囲として反応、させて得られる。この
比が0.1未満では1. 1. 1−トリクロルエタン
等の難燃性有機溶剤による現像が困難となり、また光硬
化性が低下する。また1、2を超えると反応時にゲル化
しやすくなり、また耐熱性が低下する。反応後は、メタ
ノール、エタノール、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート等の1級アルコールを用いて残存するイソシアナー
トエチルメタクリレートをウレタン化し、失活させるこ
とが安全上および保存安定性向上の上で好ましい。イソ
シアナートエチルメタクリレートとしては、例えばダウ
ケミカル社製のものが用いられる。
前記光重合性不飽和化合物は、例えば次のようにして得
られる。すなわち、前記ノボラック型エポキシ樹脂と不
飽和カルボン酸と末端カルボキシル基含有ジエン系オリ
ゴマーとの付加反応を行ない、次いでこの生成物にジブ
チルチンジラウレート、ジブチルチンジー2−エチルヘ
キソエート等のウレタン化触媒を添加し、上記の当量比
の範囲でイソシアナートエチルメタクリレートを50〜
110°Cで撹拌反応させる。このような反応条件下で
はウレタン結合とエポキシ基との反応、不飽和結合の熱
重合等の副反応を防止することができ、その結果ゲル状
物を生成させることなく、光重合性不飽和化合物を得る
ことができる。
本発明において好ましい光重合性不飽和化合物としでは
、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/アクリ
ル酸/カルボキシル末端ブタジェン−アクリロニトリル
共重合体/イソシアナートエチルメタクリレート系反応
物、オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/メタ
クリル酸/カルボキシル基末端ブタジェン−アクリロニ
トリル共重合体/イソシアナートエチルメタクリレート
系反応物等が挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物には、必須成分(b)として
、活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤および/
または増感剤系を含有する。
増感剤としては、2−エチルアントラキノン、2−t−
ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、
1,2−ベンズアントラキノン、2.3−ジフェニルア
ントラキノン等の置換または非置換の多核キノン類、ジ
アセチルベンジル等のケトアルドニル化合物、ベンゾイ
ン、ピバロン等のα−ケタルドニルアルコール類および
エーテル類、α−フェニル−ベンゾイン、α、α−ジェ
トキシアセトフェノン等のα−炭化水素置換芳香族アシ
ロイン類、ベンゾフェノン、4,4′−ビスジアルキル
アミノベンゾフェノン等の芳香族ケトン類、2−メチル
チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2
−クロルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサン
トン、2−エチルチオキサントン等のチオキサントン類
、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フェニル]−
2モルホリノ−プロパノン−1が用いられ、これらは単
独または組み合わせて使用することができる。
増感剤系としては、例えば2,4.5−トリアリルイミ
ダゾールニ量体と、2−メルカプトベンゾキナゾール、
ロイコクリスタルバイオレット、トリス(4−ジエチル
アミノ−2−メチルフェニル)メタン等との組み合わせ
が用いられる。またそれ自体では光開始性はないが、前
記物質と組み合わせることによって全体として光開始性
能が向上するような添加剤を用いることができる。これ
らの添加剤としては、例えばベンゾフェノンに対するト
リエタノールアミン等の3級アミン、チオキサントン類
に対するジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N−メチ
ルエチルケトン、ビスエチルアミノベンゾフェノン等が
挙げられる。
本発明の感光性樹脂組成物は、前記増感剤および/また
は増感剤系(b)を、光重合性不飽和化合物(a)に対
して、0.5〜10重量%の範囲で含有されることが好
ましい。
本発明の感光性樹脂組成物には、副次的成分として微粒
状充填剤を含有することができる。微粒状充填剤として
は、例えばタルク、シリカ、酸化チタン、クレイ、炭酸
カルシウム、含水珪酸、水酸化アルミニウム、アルミナ
、硫酸バリウム、三酸化アンチモン、炭酸マグネシウム
、マイカ粉、珪酸アルミニウム、珪酸マグネシウム等が
用いられる。また有機充填剤も使用することができる。
有機充填剤としては、例えばポリエチレンビーズ、架橋
ポリスチレンビーズ、硬化エポキシ樹脂ビーズ等が用い
られる。
微粒状充填剤の粒径は、解像度、硬化被膜の密着性等の
低下防止の点から、好ましくは0.01〜10μm1よ
り好ましくは0.01〜1.5μmである。また微粒状
充填剤は、感光性樹脂組成物中に均一に分散されている
ことが好ましい。充填剤と前記光重合性不飽和化合物と
の間の接着力を増すために、充填剤の表面を、水酸基、
アミノ基、エポキシ基、ビニル基等の官能基を有するシ
ランカップリング剤で処理することもできる。シランカ
ップリング剤としては、例えばT−アミノプロピルトリ
エトキシシラン、β−アミノエチル−γ−アミノブロビ
ルトリメトキシシラン、γ−グリシドオキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリ
メトキシシラン等が挙げられる。
さらに本発明の感光性樹脂組成物は、他の光重合性化合
物を含有してもよい。該光重合性化合物としては、例え
ばトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリアクリレート、トリメチルへキサメチ
レンジイソシアナート/2−ヒドロキシエチルアクリレ
ート(1/2モル比)反応物、イソシアナートエチルメ
タクリレ・−ト/水(2/1モル比)反応物等が用いら
れる。また特開昭53−56018号公報に示される光
重合性化合物を用いることもできる。これら光重合性化
合物の含有量は、耐熱性の点から、光重合性不飽和化合
物(a)に対して10重量%以下であることが好ましい
さらに本発明の感光性樹脂組成物には、高分子結合剤、
熱重合防止剤、染料、顔料、塗工性向上剤、消泡剤、難
燃剤、密着性向上剤、エポキシ樹脂の潜在性硬化剤等を
含有させることができる。
本発明の感光性樹脂組成物は、デイツプコート法、フロ
ーコート法、スクリーン印刷法等の常法により、加工保
護すべき基板上に直接塗工し、厚さ10〜150μmの
感光層を容易に形成することができる。塗工する際には
、必要に応じて組成物を溶剤に溶解させて行なうことも
できる。該溶剤としては、例えばメチルエチルケトン、
メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテ
ート、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、塩化メチ
レン、1,1.1−トリクロルエタン等を挙げることが
できる。またこの溶液を、例えばポリエチレンテレフタ
レートフィルム、ポリイミドフィルム等のフィルム上に
、ナイフコート法、ロールコート法等によって塗布、乾
燥して得られる感光性エレメントを熱ロールを用いて基
板上に加熱加圧積層して感光層を形成することもできる
この際、基板が導体配線ラインの形成された印刷配線板
等の10μm以上の凹凸を有する場合には、空気の巻き
込みを防ぐため、200mmHg以下の真空下で積層す
ることが好ましい。この装置としては、例えば特公昭5
5−13341号公報に記載される積層装置が用いられ
る。なお活性光に不透明な支持体フィルムを用いる場合
には、露光時に支持体フィルムを剥離する必要がある。
こうして形成された感光層の露光および現像は常法によ
り行われる。すなわち、光源として超高圧水銀灯、高圧
水銀灯等を用い、感光性樹脂組成物の層上に直接または
ポリエチレンテレフタレートフィルム等の透明フィルム
を介し、ネガマスクを通して像的に露光する。露光後透
明フィルムが残っている場合には、これを剥離した後現
像する。
現像処理に用いられる現像液には、露光部にダメージを
与えず、未露光部を選択的に溶出するものであればその
種類については特に制限はない。
現像液としては、例えば1.1 1−)リクロルエタン
等のハロゲン化炭化水素が用いられる。また1、l、1
−)リクロルエタンを主成分とする洗浄剤、例えばスリ
ーワンEX(東亜合成化学社製商品名)を使用すること
もできる。
上記の方法で得られた像的な保護被膜は、通常のエツチ
ング、めっき等のための耐食膜としての特性を持ってい
るが、現像後に活性光の露光および80〜200 ’C
での加熱処理を行なうことによって密着性、耐熱性、耐
溶剤等の特性を向上でき、ソルダマスクとしての特性を
満足する永久的な保護膜が得られる。これらの活性光の
露光および加熱処理の順序はどちらが先でもよい。
〔実施例〕
以下、本発明を実施例により詳しく説明する。
なお、実施例中の部は重量部を意味する。
実施例I (a)光重合性不飽和化合物の合成 エチルセロソルブアセテート 1095部 1500部 B アクリル酸 85部 P−メトキシフェノール 300部 3部 エチルセロソルブアセテート 300部 ジブチルチンジラウレート     0.5部エチルセ
ロソルブアセテート   100部D メタノール  
          10部温度計、撹拌装置、冷却管
および滴下器の付い加熱および冷却可能な5j2の反応
器に、前記Aを加え、撹拌しながら60°Cに昇温し、
均一に溶解させた。反応温度を60°Cに保ちながら、
これに約1時間かけてBを滴下した。Bの滴下後、2時
間かけて80°Cに昇温し、80°Cで約15時間撹拌
を続は反応系の酸価を1以下にした。
次いで温度を60°Cに低下させ、反応温度を60°C
に保ちながら約3時間かけて均一にCを滴下した。C′
m下後、約5時間かけて徐々に反応温度を80°Cまで
昇温した後、温度を60 ’Cに低下させ、Dを加え、
約1時間撹拌を続けた。こうして不揮発分46.7重量
%のオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂/アク
リル酸/ジエン系オリゴマー/イソシアナートエチルメ
タクリレート系光重合性不飽和化合物の溶液(i)を得
た。この光重合性不飽和化合物の不飽和モノカルボン酸
の酸当量/ジエン系オリゴマーの酸当量の比は7.5、
全酸当量/エポキシ当量の比はo、28、イソシアナー
ト当f/水酸基当量比は0.78であった。
(b)感光性樹脂組成物の調製 上記で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(i)10
7部(不揮発分50部)に、2.4−ジエチルチオキサ
ントン1.5部、安息香酸イソブチル2部、ミクロエー
スP−4(日本タルク社製、超微粒子タルク平均粒径1
.5μm)30部、キュアゾールCIIZ  A Z 
I N E (四国化成社製、24−ジアミノ−6−(
2’−ウンデシル−イミダゾリル(1’))−エチル−
8−トリアジン)1部、フタロシアニングリーン0.1
部およびモダフロー0.1部を配合し、ロールミルで混
合分散させ、本発明の感光性樹脂組成物(1)を調製し
た。
(C)硬化被膜の形成 上記で得られた感光性樹脂組成物(1)の溶液を、銅張
り積層板上に塗布し、室温で20分、80°Cで20分
間乾燥し、厚さ40μmの感光層を形成した。次いでネ
ガマスクを通してオーク製作所社製、フェニックス30
00型露光機を用い、500mJ/craで露光した。
露光後80°Cで5分間加熱し、常温で30分放置した
後、1,1.1トリクロルエタンを用いて20°Cで3
0秒間スプレー現像した。次いで東芝電材社製東芝紫外
線照射装置(定格電圧200■、定格消費型カフ、2K
W、適合ランプH5600L/2、ランプ本数1本)を
使用し、IJ/cfflで照射した後、150°Cで3
0分間加熱処理してネガマスクに相応する寸法精度の優
れたソルダマスクを得た。このソルダマスクは打抜き加
工性に優れ、基板端部に0.2mm以上のクラックは認
められなかった。またこのソルダマスクは耐冷熱衝撃性
に優れ、ロジン系フラックスA−226(タムラ化研社
製)を用いて260°Cで10秒間、はんだ付は処理し
、さらにトリクレンで25°Cで10分間清浄化処理し
た後、MIL−3TD−202E107D条件B(−6
5°C30分間、常温5分以内、125°C30分間)
、50サイクルの冷熱衝撃試験でクラックの発生および
被膜の剥がれは認められず、長期間の信頼性が非常に優
れていることがわかった。
実施例2 (a)光重合性不飽和化合物の合成 オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂日本化薬社
製EOCN102(エポキシ当量エチルセロソルブアセ
テート  1200部B アクリル酸        
    85部P−メトキシフェノール       
3部エチルセロソルブアセテート   300部ジブチ
ルチンジラウレート0.5部 エチルセロソルブアセテート   100部D メタノ
ール            10蔀上記A−Dを用い
た以外は実施例1(a)と同様にして不揮発分50重世
%のノボラック型エポキシ樹脂/アクリル酸/ジエン系
オリゴマー/イソシアナートエチルメタクリレート系光
重合性不飽和化合物の溶液(ii )を得た。この光重
合性不飽和化合物の不飽和モノカルボン酸の酸当量/ジ
エン系オリゴマーの酸当量の比は11.L全酸当量/エ
ポキシ当量の比は0.27、イソシアナート当量/水酸
基当量比は0.82であった。
(b)感光性樹脂組成物の調製 上記で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(ii)1
00部(不揮発分50部)、2−メチル1− (4−(
メチルチオ)フェニル〕−2−モルホリノ−プロパノン
−1,5部、ミヒラケトン0.5部、三酸化アンチモン
(平均粒径0.15μm)3部、石英粉(平均粒径1μ
m)15部、フタロシアニングリーン0.5部、キュア
ゾールCl1Z−AZINE1部およびメチルセロソル
ブ5部を配合し、三本ロールで混合分散させて本発明の
感光性樹脂組成物(II)を調製した。
(c)硬化被膜の形成 実施例1(c)において上記で得られた感光性樹脂組成
物(II)を使用した以外は実施例1(C)と同様にし
て打抜き加工性に優れた硬化被膜を得た。
また前記感光性樹脂組成物を厚さ0.8mm、UL!J
4V−0のガラスエポキシ難燃基材(日立化成工業社製
商品名、MCL−E−67)の両面に適用し、厚さ50
μmの硬化被膜を形成させた場合には、UL94V−1
の難燃性が保持された。
実施例3 (a)光重合性不飽和化合物の合成 エチルセロソルブアセテート  1500部B アクリ
ル酸 メタクリル酸 72部 86部 P−メトキシフェノール       3部エチルセロ
ソルブアセテート   300部Cイソシアナートエチ
ルメタクリレート310部 ジブチルチンジラウレート     0.5部エチルセ
ロソルブアセテート   101D メタノール   
         10部上記A−Dを用いた以外は実
施例1(a)と同様にして不揮発分51重量%のノボラ
ック型エポキシ樹脂/アクリル酸/メタクリル酸/ジエ
ン系オリゴマー/イソシアナートエチルメタクリレート
系光重合性不飽和化合物の溶液(iii )を得た。
この光重合性不飽和化合物の不飽和モノカルボン酸の酸
当量/ジエン系オリゴマーの酸当量の比は6.9、全酸
当量/エポキシ当量の比は0.47、イソシアナート当
量/水酸基当量比は0.9であった。
(b)感光性樹脂組成物の調製 上記で得られた光重合性不飽和化合物の溶液(in) 
 (不揮発分50部)、2−メチル−1−〔4−(メチ
ルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパノン−1
,5部、2.4−ジエチルチ・オキサントン0.5部、
石英粉(平均粒径工μm)15部、フタロシアニングリ
ーン0.5部、キュアゾールC,,Z−AZ I NE
 1部およびメチルセロソルブ5部を配合し、三本ロー
ルで分散させて本発明の感光性樹脂組成物(III)を
調製した。
(c)硬化被膜の形成 実施例1(c)において、上記で得られた感光性樹脂組
成物(III)を使用した以外は実施例1(c)と同様
にして打抜き加工性に優れた硬化被膜を得た。
比較例1 (a)光重合性不飽和化合物の合成 実施例1 (a)において、Hy c a r  13
00×13を使用しなかった以外は実施例1(a)と同
様にして不揮発分41.8重量%のノボランク型エポキ
シ樹脂/アクリル酸/イソシアナートエチルメタクリレ
ート系光重合性不飽和化合物の溶液(iv )を得た。
(b)感光性樹脂組成物の調製 実施例1(b)において、上記で得られた光重合性不飽
和化合物の溶液(iv)を120部(不揮発分50部)
を用いた以外は実施例1(b)と同様にして感光性樹脂
組成物(IV)を調製した。
(c)硬化被膜の形成 上記で得た感光性樹脂組成物(IV)を用いた以外は実
施例1 (c)と同様にしてソルダマスクを形成した。
このソルダマスクは打抜き加工性に劣り、基板端部に1
〜2閣のクランクが発生した。
〔発明の効果〕
本発明の感光性樹脂組成物によれば、厚膜で寸法精度に
優れ、かつ耐熱性および可撓性に優れた硬化被膜が得ら
れる。またこの被膜は1,1.1−トリクロルエタン等
の難燃性現像液で現像できるとともに、トリクレン、メ
チルエチルケトン、イソプロピルアルコール、トルエン
等の有機溶剤に充分耐え、酸性水溶液またはアルカリ水
溶液にも耐えることができ、さらに耐熱性、機械的特性
にも優れているので、エツチング、めっき等のための耐
食膜、ソルダマスク等の永久的な保護膜として使用する
ことができ、特に写真法により厚膜のソルダマスクを形
成することが可能である。さらに本発明の感光性樹脂組
成物を用いて形成される被膜は優れた化学的、物理的特
性を有し、このため多層印刷配線板の層間絶縁層、感光
性接着剤、塗料、プラスチックレリーフ、印刷版材料、
金属精密加工材料等にも用いることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、(a)ノボラック型エポキシ樹脂と、不飽和モノカ
    ルボン酸と、末端に少なくとも1個のカルボキシル基を
    有するジエン系オリゴマーとを、不飽和モノカルボン酸
    の酸当量/ジエン系オリゴマーの酸当量の比を3〜30
    かつ全酸当量/エポキシ当量の比を0.1〜0.98の
    範囲として付加反応させて得られる不飽和化合物に、イ
    ソシアナートエチルメタクリレートを、イソシアナート
    当量/水酸基当量比を0.1〜1.2の範囲として反応
    させて得られる光重合性不飽和化合物ならびに (b)活性光により遊離ラジカルを生成する増感剤およ
    び/または増感剤系を含有してなる感光性樹脂組成物。 2、請求項1記載の感光性樹脂組成物の溶液をフィルム
    上に塗布、乾燥して得られる感光性エレメント。
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