JPH0245440A - アリールオキシクロロメタン類の製造方法 - Google Patents
アリールオキシクロロメタン類の製造方法Info
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- JPH0245440A JPH0245440A JP1155949A JP15594989A JPH0245440A JP H0245440 A JPH0245440 A JP H0245440A JP 1155949 A JP1155949 A JP 1155949A JP 15594989 A JP15594989 A JP 15594989A JP H0245440 A JPH0245440 A JP H0245440A
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Classifications
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- C07C41/48—Preparation of compounds having groups
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- C07D317/44—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D317/46—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with one six-membered ring
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- C07D317/48—Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes, unsubstituted on the hetero ring
- C07D317/50—Methylenedioxybenzenes or hydrogenated methylenedioxybenzenes, unsubstituted on the hetero ring with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to atoms of the carbocyclic ring
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- Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、塩素化されていないかまｔ；は不完全に塩素
化されたアリールオキシメタン類からアリールオキシク
ロロメタン類を製造する方法に関するものである。
化されたアリールオキシメタン類からアリールオキシク
ロロメタン類を製造する方法に関するものである。
アリールオキシクロロメタン類は、有機合成用中間生成
物として必要な公知の化合物である［例えばドイツ公開
明細書３，５０２．１０６およびヘミッシｘａベリヒテ
（Ｃｈｅｗ、 Ｂｅｒ、）、１２１，３３９−３４５（
１９８８）参照］。
物として必要な公知の化合物である［例えばドイツ公開
明細書３，５０２．１０６およびヘミッシｘａベリヒテ
（Ｃｈｅｗ、 Ｂｅｒ、）、１２１，３３９−３４５（
１９８８）参照］。
現在までに、下記のアリールオキシクロロメタン類の製
造方法が開示されている： ヒス（アリールオキシ）クロロメタン類［式（［）参照
、Ｒ，＝Ｈ，Ｒ，ｗＡ ｒ、ｏ］ は、ビス（アリール
オキシ）アセチルクロライド類を真空中で加熱すること
により ［ベリヒテ・デル・ドイツチエ・ヘミッシエン
ａゲゼルシャフト（Ｂｅｒ、 Ｄｅｕｔ、 Ｃｈｅｍ。
造方法が開示されている： ヒス（アリールオキシ）クロロメタン類［式（［）参照
、Ｒ，＝Ｈ，Ｒ，ｗＡ ｒ、ｏ］ は、ビス（アリール
オキシ）アセチルクロライド類を真空中で加熱すること
により ［ベリヒテ・デル・ドイツチエ・ヘミッシエン
ａゲゼルシャフト（Ｂｅｒ、 Ｄｅｕｔ、 Ｃｈｅｍ。
Ｇｅｓ、）、６８．２１５１（１９３５）およびジャー
ヌル・フユール・プラクティッチェ・ヘミイ（Ｊ。
ヌル・フユール・プラクティッチェ・ヘミイ（Ｊ。
Ｐｒａｋｔ、 Ｃｈｅｉｉ、）、７，７０（１９５８）
参照］ またはトリス（アリールオキシ）メタン類を塩
化アセチルまたは塩化トリクロロアセチルで処理するこ
とにより［ヘミッシエ・ベリヒテ（Ｃｈｅｍ、 Ｂｅｒ
、）ｓ ９５．１８５９（１９６２）およびリキュート
・デ・トラヴオー・ヂミク・デ・ポイーバス（Ｒｅｃ、
Ｔｒａｖ。
参照］ またはトリス（アリールオキシ）メタン類を塩
化アセチルまたは塩化トリクロロアセチルで処理するこ
とにより［ヘミッシエ・ベリヒテ（Ｃｈｅｍ、 Ｂｅｒ
、）ｓ ９５．１８５９（１９６２）およびリキュート
・デ・トラヴオー・ヂミク・デ・ポイーバス（Ｒｅｃ、
Ｔｒａｖ。
Ｃｈｉｍ、）、ｌ）、１１（１９７３）参照］およびビ
ス（アリールオキシ）−酢酸類を塩化チオニルと反応さ
せることにより［ジャーヌル・フユール・グラクティッ
チェａ ヘミイ（Ｊ、 Ｐｒａｋｔ、 Ｃｈｅｗ、）、
３２０．１２８（１９７８）参照１、得られる。ビス（
アリールオキシ）ジクロロメタン類［式（ＩＩ）参照、
Ｒ，＝ＣＱ％Ｒ，＝Ａｒ、Ｏｌは、炭酸ジアリール類か
ら五塩化燐と共に加熱することにより得られる［ヘミ７
’／ 工”ベリヒテ（Ｃｈｅｍ、 Ｂａｒ、）、９４゜
５４４（１９６１）およびザ・ジャーナル・オブ・ヘテ
ロサイクリック・ケミストリイ（Ｊ、 Ｈｅｖｅｒｏｃ
ｙＣｌ、 Ｃｈｅｍ、）、１９−１１２０５（１９８２
）参照１゜２．２−ジクロロ−１，３−ベンゾジオキソ
ール１式（…）参照、Ｒ，＝ＣＱ、Ａｒ、ＯおよびＲ２
が一緒になってＯ−フェニレンジオキシである］は、１
．３−ベンゾジオキソールと五塩化燐との反応により製
造される［ヘミッシエ・ベリヒテ（Ｃｈｅｎ＋。
ス（アリールオキシ）−酢酸類を塩化チオニルと反応さ
せることにより［ジャーヌル・フユール・グラクティッ
チェａ ヘミイ（Ｊ、 Ｐｒａｋｔ、 Ｃｈｅｗ、）、
３２０．１２８（１９７８）参照１、得られる。ビス（
アリールオキシ）ジクロロメタン類［式（ＩＩ）参照、
Ｒ，＝ＣＱ％Ｒ，＝Ａｒ、Ｏｌは、炭酸ジアリール類か
ら五塩化燐と共に加熱することにより得られる［ヘミ７
’／ 工”ベリヒテ（Ｃｈｅｍ、 Ｂａｒ、）、９４゜
５４４（１９６１）およびザ・ジャーナル・オブ・ヘテ
ロサイクリック・ケミストリイ（Ｊ、 Ｈｅｖｅｒｏｃ
ｙＣｌ、 Ｃｈｅｍ、）、１９−１１２０５（１９８２
）参照１゜２．２−ジクロロ−１，３−ベンゾジオキソ
ール１式（…）参照、Ｒ，＝ＣＱ、Ａｒ、ＯおよびＲ２
が一緒になってＯ−フェニレンジオキシである］は、１
．３−ベンゾジオキソールと五塩化燐との反応により製
造される［ヘミッシエ・ベリヒテ（Ｃｈｅｎ＋。
Ｂｅｒ、）、９４，５４４（１９６１）および９６，１
３８２（１９６３）参照］。最後に、アリールオキシト
リクロロメタン類Ｅ式（ＩＩ）参照、Ｒ、−Ｒ。
３８２（１９６３）参照］。最後に、アリールオキシト
リクロロメタン類Ｅ式（ＩＩ）参照、Ｒ、−Ｒ。
＝ｃａ１の製造するためには、対応するフェノール類を
トリホスゲンと反応させてアリールクロロチオ蟻酸塩類
を与えそしてこれらを塩素化している［ザ・ジャーナル
・オブ・ザ・オーガニック・ケミストリイ（Ｊ、 Ｏｒ
ｇ、 Ｃｈｅｍ、）、３７．２６５１（１９７２）中に
引用されているジャーナル・オブ・ゼネラル・ケミスト
リイ・オブ・ザ・ＵＳＳＲ（Ｊ。
トリホスゲンと反応させてアリールクロロチオ蟻酸塩類
を与えそしてこれらを塩素化している［ザ・ジャーナル
・オブ・ザ・オーガニック・ケミストリイ（Ｊ、 Ｏｒ
ｇ、 Ｃｈｅｍ、）、３７．２６５１（１９７２）中に
引用されているジャーナル・オブ・ゼネラル・ケミスト
リイ・オブ・ザ・ＵＳＳＲ（Ｊ。
Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、ｌｌ５ＳＲ）、 ２８．２５３９（
１９５８）参照１゜ これらの方法の欠点は、出発物質類、特にビス（アリー
ルオキシ）酢酸誘導体類、の入手が困難であること、安
全性に関する大きな費用をかけてのみ取り扱うことので
きるホスゲンが特に炭酸ジアリール類の製造用の出発物
質として必要であること、望ましくない副生物が反応で
生成しそれらの分離用には、特に五塩化燐から生成する
オキシ塩化燐の分離用には、特別な費用が必要であるこ
と、並びにチオホスゲンとの反応も工業的安全性に関し
て大きな費用を必要とすることである。
１９５８）参照１゜ これらの方法の欠点は、出発物質類、特にビス（アリー
ルオキシ）酢酸誘導体類、の入手が困難であること、安
全性に関する大きな費用をかけてのみ取り扱うことので
きるホスゲンが特に炭酸ジアリール類の製造用の出発物
質として必要であること、望ましくない副生物が反応で
生成しそれらの分離用には、特に五塩化燐から生成する
オキシ塩化燐の分離用には、特別な費用が必要であるこ
と、並びにチオホスゲンとの反応も工業的安全性に関し
て大きな費用を必要とすることである。
１９７７年２月５日の化学と工業、！２７−１２８頁か
ら、アニソールをラジカルにより塩素化して側鎖中でモ
ノ−、ジーおよび／またはトリー置換されている生成物
類を与えられることが知られている。芳香族環中への塩
素の加入が起きて、この反応と競合することが知られて
いる。これらの反応のどちらが好適に起きるかおよび選
択的な側鎖塩素化が起きるかどうかは予見することがで
きない（例えば引用文献１２７頁、左欄、ｌ−３行、お
よび１２８頁、左欄、４−１７行参照）。
ら、アニソールをラジカルにより塩素化して側鎖中でモ
ノ−、ジーおよび／またはトリー置換されている生成物
類を与えられることが知られている。芳香族環中への塩
素の加入が起きて、この反応と競合することが知られて
いる。これらの反応のどちらが好適に起きるかおよび選
択的な側鎖塩素化が起きるかどうかは予見することがで
きない（例えば引用文献１２７頁、左欄、ｌ−３行、お
よび１２８頁、左欄、４−１７行参照）。
このことは、特にアニソール類の代わりに他の構造のア
リールオキシメタン類が使用される時に言える。
リールオキシメタン類が使用される時に言える。
式（Ｉ）
［式中、
Ａｒｌは任意に置換されていてもよい炭素数が６〜ｌＯ
のアリール基を表わし、 Ｒ３は水素または塩素を表わし、そしてＲ２はＡｒ、−
０−基を表わし、ここでＡｒ。
のアリール基を表わし、 Ｒ３は水素または塩素を表わし、そしてＲ２はＡｒ、−
０−基を表わし、ここでＡｒ。
は任意に置換されていてもよい炭素数が６〜ｌＯのアリ
ール基を示し、これはＡｒ、と同一であってもまたは異
なっていてもよく、そしてここで 基Ａｒ１０はＲ２およびそれらの間に位置するＣ原子と
一緒になって式（Ｉ ａ） の任意に置換されていてもよい基を表わすこともできる
１ の塩素化されていないかまたは不完全に塩素化されてい
るアリールオキシメタン類を、ラジカル−開始される塩
素化にかけることを特徴とする、アリールオキシクロロ
メタン類の製造方法を今見いだした。
ール基を示し、これはＡｒ、と同一であってもまたは異
なっていてもよく、そしてここで 基Ａｒ１０はＲ２およびそれらの間に位置するＣ原子と
一緒になって式（Ｉ ａ） の任意に置換されていてもよい基を表わすこともできる
１ の塩素化されていないかまたは不完全に塩素化されてい
るアリールオキシメタン類を、ラジカル−開始される塩
素化にかけることを特徴とする、アリールオキシクロロ
メタン類の製造方法を今見いだした。
Ａ ｒ ＋ ハ好適には、フェニル、モノハロゲン化も
しくはポリハロゲン化された、例えばモノハロゲン化乃
至ペンタハロゲン化された、フェニルを表わすか、或い
はＮｏ２、ＣＮ、ＣＣＵ３またはＣＦ、基により置換さ
れたフェニルを表わす。
しくはポリハロゲン化された、例えばモノハロゲン化乃
至ペンタハロゲン化された、フェニルを表わすか、或い
はＮｏ２、ＣＮ、ＣＣＵ３またはＣＦ、基により置換さ
れたフェニルを表わす。
Ｒ，は好適には水素を表わす。
Ｒ，ｌ；を好適にはＡｒ、−０−基を表わし、ここでＡ
ｒｚはフェニル、モノハロゲン化もしくはポリハロゲン
化された、例えばモノハロゲン化乃至ペンタハロゲン化
された、フェニルを表わすか、或いはＮｏ、、ＣＮ、Ｃ
ＣＵ３またはＣＦ、基により置換されたフェニルを表わ
す。
ｒｚはフェニル、モノハロゲン化もしくはポリハロゲン
化された、例えばモノハロゲン化乃至ペンタハロゲン化
された、フェニルを表わすか、或いはＮｏ、、ＣＮ、Ｃ
ＣＵ３またはＣＦ、基により置換されたフェニルを表わ
す。
基Ａ ｒ 、０がＲ２とそれらの間に位置しているＣ原
子と一緒になって任意に置換されていてもよい式（Ｉａ
）の基を表わすことも好適である。
子と一緒になって任意に置換されていてもよい式（Ｉａ
）の基を表わすことも好適である。
フェニル基および式（Ｉ ａ）の基層の好適なハロゲン
置換基は、弗素および塩素である。
置換基は、弗素および塩素である。
式（１）の出発物質は公知の化合物であるか（例えばＥ
、Ｖ、デムロウ（ＤｅｂｍＩｏｗ）ｊ；よびＪ、シュミ
ット（ＳｃｈＩＩｉｄＬ）、テトラヘドロン・レタース
（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、１９７
６．９５参照）、本発明に従う方法において中間生成物
として製造される。
、Ｖ、デムロウ（ＤｅｂｍＩｏｗ）ｊ；よびＪ、シュミ
ット（ＳｃｈＩＩｉｄＬ）、テトラヘドロン・レタース
（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ）、１９７
６．９５参照）、本発明に従う方法において中間生成物
として製造される。
使用できる塩素化剤は、例えば、元素状塩素または塩化
スルフリルである。本発明に従う塩素化を’Ｈ−ＮＭＲ
分光計により追跡しそして希望する生成物の最大可能割
合が反応混合物中で存在するようになるまで塩素化剤を
加えることが特に経済的である。特に、メタン炭素原子
上に水素原子を含有していない生成物を製造しようとす
る場合には、塩素化剤を過剰使用することもできる。
スルフリルである。本発明に従う塩素化を’Ｈ−ＮＭＲ
分光計により追跡しそして希望する生成物の最大可能割
合が反応混合物中で存在するようになるまで塩素化剤を
加えることが特に経済的である。特に、メタン炭素原子
上に水素原子を含有していない生成物を製造しようとす
る場合には、塩素化剤を過剰使用することもできる。
本発明に従う塩素化中にラジカルを開始させるために、
例えば、少量の一般的うジカル促進荊を加えることがで
きる。例えば、使用するアリールオキシメタン１モル当
たり例えば０．０００１〜０．０５モル量のアゾ−ビス
−イソブチロニトリルの添加が適している。ラジカルを
、照射により、例えば紫外線ランプを用いる照射により
、開始させる二七もできる。
例えば、少量の一般的うジカル促進荊を加えることがで
きる。例えば、使用するアリールオキシメタン１モル当
たり例えば０．０００１〜０．０５モル量のアゾ−ビス
−イソブチロニトリルの添加が適している。ラジカルを
、照射により、例えば紫外線ランプを用いる照射により
、開始させる二七もできる。
本発明に従う塩素化用に適している温度は、例えば、０
〜１００°Ｃの間の温度である。ラジカル促進剤（例え
ばアゾ−ビス−イソブチロニトリル）の冷力１時には、
例えば６０−１００℃の如き比較的高温で実施すること
が好ましい。ラジカルを照射により開始させる時には、
例えば１０〜４０℃の如き比較的低温で実施することが
好ましい。
〜１００°Ｃの間の温度である。ラジカル促進剤（例え
ばアゾ−ビス−イソブチロニトリル）の冷力１時には、
例えば６０−１００℃の如き比較的高温で実施すること
が好ましい。ラジカルを照射により開始させる時には、
例えば１０〜４０℃の如き比較的低温で実施することが
好ましい。
一般的には、本発明に従う方法を不活性溶媒の存在下で
実施することが有利である。使用できるこれらの例は、
塩素化された炭化水素類、特に過塩素化された炭化水素
類である。四塩化炭素が好適に使用される。
実施することが有利である。使用できるこれらの例は、
塩素化された炭化水素類、特に過塩素化された炭化水素
類である。四塩化炭素が好適に使用される。
さらに、例えば乾燥溶媒を使用しそして窒素雰囲気下で
実施することにより本発明に従う方法をできるだけ完全
に水分および酸素を除去して実施することが一般的に有
利である。
実施することにより本発明に従う方法をできるだけ完全
に水分および酸素を除去して実施することが一般的に有
利である。
本発明に従う反応後に存在している反応混合物は、例え
ば真空中で分別蒸留にかけそして希望により予め存在し
ている溶媒をストリッピングすることにより、処理でき
る。
ば真空中で分別蒸留にかけそして希望により予め存在し
ている溶媒をストリッピングすることにより、処理でき
る。
本発明に従う方法では、式（ｎ）
［式中、
Ａｒｌ、Ｒ１およびＲ２は式（Ｉ）中に示されている意
味を有する］ のアリールオキシクロロメタン類が得られる。
味を有する］ のアリールオキシクロロメタン類が得られる。
本発明に従う方法は、Ｒ１がフェニル、モノハロゲン化
もしくはポリハロゲン化された、例えばモノハロゲン化
乃至ペンタハロゲン化されたフェニルを表わすか、或い
はＮＯ□、ＣＮ１ＣＣＱ、またはＣＦ、基により置換さ
れたフェニルを表わし、Ｒ１が水素または塩素を表わし
、そしてＲ２がＡｒ２−０−基を表わし、ここでＡｒ、
がフェニル、モノハロゲン化もしくはポリハロゲン化さ
れた、例工ばモノハロゲン化乃至ペンタハロゲン化され
た、フェニルを表わすか、或いはＮｏ、、ＣＮ。
もしくはポリハロゲン化された、例えばモノハロゲン化
乃至ペンタハロゲン化されたフェニルを表わすか、或い
はＮＯ□、ＣＮ１ＣＣＱ、またはＣＦ、基により置換さ
れたフェニルを表わし、Ｒ１が水素または塩素を表わし
、そしてＲ２がＡｒ２−０−基を表わし、ここでＡｒ、
がフェニル、モノハロゲン化もしくはポリハロゲン化さ
れた、例工ばモノハロゲン化乃至ペンタハロゲン化され
た、フェニルを表わすか、或いはＮｏ、、ＣＮ。
ｃｃｎ、またはＣＦ、基！こより置換されたフェニルを
表わすか、或いは基Ａ ｒ 、０がＲ３とそれらの間に
位置しているＣ原子と一緒になって任意に置換されてい
てもよい式（Ｉａ）の基を表わす、式（ＩＩ）の化合物
の製造用に特に非常に適している。
表わすか、或いは基Ａ ｒ 、０がＲ３とそれらの間に
位置しているＣ原子と一緒になって任意に置換されてい
てもよい式（Ｉａ）の基を表わす、式（ＩＩ）の化合物
の製造用に特に非常に適している。
本発明に従う方法を用いると、式１）のアリールオキシ
クロロメタン類が一般的に理論値の７０〜９８％の間の
収率で製造される。このことは、アリールオキシクロロ
メタン類の多くの公知の製造方法が明らかに分子の芳香
族部分の塩素化の恐れのためにラジカル−開始される塩
素化を避けるかまたはたとえラジカル−開始される塩素
化を含む場合にも式（ｎ）とは異なる構造を有するアリ
ールオキシクロロメタン類の製造にのみ限定されること
からみると、全く驚異的なことである。本発明に従う方
法は、容易に簡単に入手できる出発物質類から出発して
、塩素化剤から副生物を生成するが塩素化剤として塩素
または塩化スルフリルの使用時には気体状で逃げてしま
う副生物だけを生成し、しかも工業的安全性に関する特
別な費用を必要としない。
クロロメタン類が一般的に理論値の７０〜９８％の間の
収率で製造される。このことは、アリールオキシクロロ
メタン類の多くの公知の製造方法が明らかに分子の芳香
族部分の塩素化の恐れのためにラジカル−開始される塩
素化を避けるかまたはたとえラジカル−開始される塩素
化を含む場合にも式（ｎ）とは異なる構造を有するアリ
ールオキシクロロメタン類の製造にのみ限定されること
からみると、全く驚異的なことである。本発明に従う方
法は、容易に簡単に入手できる出発物質類から出発して
、塩素化剤から副生物を生成するが塩素化剤として塩素
または塩化スルフリルの使用時には気体状で逃げてしま
う副生物だけを生成し、しかも工業的安全性に関する特
別な費用を必要としない。
実施例
一般的工程：
Ａ、窒素が流されている装置中で、元素状塩素を８０〜
８５℃において５０ｍ１２の乾燥四塩化炭素、３０ｍＱ
の式（Ｉ）の化合物および０．４５ミリモルのアゾ−ビ
ス−インブチロニトリルの混合物中に、’Ｈ−ＮＭＲ分
光計検査により希望する塩素化度が得られるまで、加え
た。
８５℃において５０ｍ１２の乾燥四塩化炭素、３０ｍＱ
の式（Ｉ）の化合物および０．４５ミリモルのアゾ−ビ
ス−インブチロニトリルの混合物中に、’Ｈ−ＮＭＲ分
光計検査により希望する塩素化度が得られるまで、加え
た。
次に四塩化炭素を減圧下でストリッピングし、モして残
渣を真空中で蒸留した。
渣を真空中で蒸留した。
Ｂ、窒素が流されている装置中で、３０ｍＱの乾燥四塩
化炭素、２０ミリモルの式（Ｉ）の化合物、塩素により
置換しようとする１当量の水素当たり２当量の量の塩化
スル７リルおよび０．３０ミリモルのアゾ−ビス−イソ
ブチロニトリルの混合物中を、’Ｈ−ＮＭＲ分光計検査
により希望する塩素化度が得られるまで、加熱還流させ
た。次に四塩化炭素を減圧下でストリッピングし、モし
て残渣を真空中で蒸留し Ｉこ 。
化炭素、２０ミリモルの式（Ｉ）の化合物、塩素により
置換しようとする１当量の水素当たり２当量の量の塩化
スル７リルおよび０．３０ミリモルのアゾ−ビス−イソ
ブチロニトリルの混合物中を、’Ｈ−ＮＭＲ分光計検査
により希望する塩素化度が得られるまで、加熱還流させ
た。次に四塩化炭素を減圧下でストリッピングし、モし
て残渣を真空中で蒸留し Ｉこ 。
これらの一般的工程により実施された実験の詳細を下表
１に示す。
１に示す。
実施例８
工程は実施例６中の如くであったが、アゾ−ビス−イソ
ブチミニトリルを加えずに、紫外線ランプ（３００ｎｍ
）の照射によりラジカルを開始させ、そして反応を２２
℃において実施した。実施例６で得られた生成物と同一
の生成物が、理論値の９５％の収率で得られた。
ブチミニトリルを加えずに、紫外線ランプ（３００ｎｍ
）の照射によりラジカルを開始させ、そして反応を２２
℃において実施した。実施例６で得られた生成物と同一
の生成物が、理論値の９５％の収率で得られた。
本発明の主なる特徴および態様は以下のとおりである。
１、アリールオキシクロロメタン類の製造方法において
、式（Ｉ） ［式中、 Ａｒ＋は任意に置換されていてもよい炭素数が６〜ｌＯ
のアリール基を表わし、 Ｒ１は水素または塩素を表わし、モしてＲ２はＡｒ、−
０−基を表わし、ここでＡｒ２は任意に置換されていて
もよい炭素数が６〜１０のアリール基を示し、これはＡ
ｒ＋と同一であってもまたは異なっていてもよく、そし
てここで 基Ａｒ、ＯはＲ８およびそれらの間に位置するＣ原子と
一緒になって式（Ｉａ） の任意に置換されていてもよい基を表わすこともできる
Ｊ の塩素化されていないかまたは不完全に塩素化されてい
るアリールオキシメタン類を、ラジカル−開始される塩
素化にかけることを特徴とする方法。
、式（Ｉ） ［式中、 Ａｒ＋は任意に置換されていてもよい炭素数が６〜ｌＯ
のアリール基を表わし、 Ｒ１は水素または塩素を表わし、モしてＲ２はＡｒ、−
０−基を表わし、ここでＡｒ２は任意に置換されていて
もよい炭素数が６〜１０のアリール基を示し、これはＡ
ｒ＋と同一であってもまたは異なっていてもよく、そし
てここで 基Ａｒ、ＯはＲ８およびそれらの間に位置するＣ原子と
一緒になって式（Ｉａ） の任意に置換されていてもよい基を表わすこともできる
Ｊ の塩素化されていないかまたは不完全に塩素化されてい
るアリールオキシメタン類を、ラジカル−開始される塩
素化にかけることを特徴とする方法。
２、式（Ｉ）において％ Ａ ｒ １がフェニル、モノ
ハロゲン化もしくはポリハロゲン化されたフェニルを表
わすか、またはＮ Ｏ２、ＣＮ、ＣＣｌ２３もしくはＣ
Ｆ３基により置換されているフェニルを表わし、Ｒ１が
水素を表わし、モしてＲ２がＡｒｔ−ｏ−基を表わし、
ここでＡｒ！がフェニル、モノハロゲン化もしくはポリ
ハロゲン化されたフェニルを表わすか、またはＮｏ、、
ＣＮ、ＣＣＱｓもしくはＣＦ、基により置換されている
フェニルを表わすことを特徴とする、上記ｌの方法。
ハロゲン化もしくはポリハロゲン化されたフェニルを表
わすか、またはＮ Ｏ２、ＣＮ、ＣＣｌ２３もしくはＣ
Ｆ３基により置換されているフェニルを表わし、Ｒ１が
水素を表わし、モしてＲ２がＡｒｔ−ｏ−基を表わし、
ここでＡｒ！がフェニル、モノハロゲン化もしくはポリ
ハロゲン化されたフェニルを表わすか、またはＮｏ、、
ＣＮ、ＣＣＱｓもしくはＣＦ、基により置換されている
フェニルを表わすことを特徴とする、上記ｌの方法。
３、元素状塩素または塩化スルフリルを塩素化剤として
使用することを特徴とする、上記ｌまたは２の方法。
使用することを特徴とする、上記ｌまたは２の方法。
４、ラジカル促進剤の添加によりまたは照射によりラジ
カルを開始させることを特徴とする、上記１〜３の方法
。
カルを開始させることを特徴とする、上記１〜３の方法
。
５、水分および酸素をできるだけ完全に除去して実施す
ることを特徴とする、上記１〜４の方法。
ることを特徴とする、上記１〜４の方法。
６．０〜１００°Ｃにおいて実施することを特徴とする
、上記１〜５の方法。
、上記１〜５の方法。
７、不活性溶媒の存在下で実施することを特徴とする、
上記１〜６の方法。
上記１〜６の方法。
８、塩素化後に存在している反応混合物を真空中で分別
蒸留にかけ、そして希望により、存在している溶媒を予
めストリッピングさせることを特徴とする、上記１〜７
の方法。
蒸留にかけ、そして希望により、存在している溶媒を予
めストリッピングさせることを特徴とする、上記１〜７
の方法。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、アリールオキシクロロメタン類の製造方法において
、式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、 Ａｒ＿１は任意に置換されていてもよい炭素数が６〜１
０のアリール基を表わし、 Ｒ＿１は水素または塩素を表わし、そして Ｒ＿２はＡｒ＿２−Ｏ−基を表わし、ここでＡｒ＿２は
任意に置換されていてもよい炭素数が６〜１０のアリー
ル基を示し、これはＡｒ＿１と同一であってもまたは異
なっていてもよく、そしてここで 基Ａｒ＿１ＯはＲ＿２およびそれらの間に位置するＣ原
子と一緒になって式（ I ａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） の任意に置換されていてもよい基を表わすこともできる
］ の塩素化されていないかまたは不完全に塩素化されてい
るアリールオキシメタン類を、ラジカル−開始される塩
素化にかけることを特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3821130.0 | 1988-06-23 | ||
| DE3821130A DE3821130A1 (de) | 1988-06-23 | 1988-06-23 | Verfahren zur herstellung von aryloxychlormethanen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0245440A true JPH0245440A (ja) | 1990-02-15 |
Family
ID=6357037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1155949A Pending JPH0245440A (ja) | 1988-06-23 | 1989-06-20 | アリールオキシクロロメタン類の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0347677B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0245440A (ja) |
| DE (2) | DE3821130A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4213849A1 (de) | 1992-04-27 | 1993-10-28 | Bayer Ag | Verfahren zur â-Chlorierung von Arylethern |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2579593B1 (fr) * | 1985-03-29 | 1987-06-05 | Rhone Poulenc Spec Chim | Procede de preparation de derives dichlorotrifluoroethoxy et ethylthiobenzeniques |
-
1988
- 1988-06-23 DE DE3821130A patent/DE3821130A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-06-10 EP EP89110527A patent/EP0347677B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-10 DE DE8989110527T patent/DE58900906D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-20 JP JP1155949A patent/JPH0245440A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0347677B1 (de) | 1992-03-04 |
| DE3821130A1 (de) | 1989-12-28 |
| EP0347677A1 (de) | 1989-12-27 |
| DE58900906D1 (de) | 1992-04-09 |
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