JPH0244548A - 光メモリ素子の製造方法及びその装置 - Google Patents
光メモリ素子の製造方法及びその装置Info
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- JPH0244548A JPH0244548A JP63194160A JP19416088A JPH0244548A JP H0244548 A JPH0244548 A JP H0244548A JP 63194160 A JP63194160 A JP 63194160A JP 19416088 A JP19416088 A JP 19416088A JP H0244548 A JPH0244548 A JP H0244548A
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 88
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 49
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 121
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 83
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 13
- 238000004080 punching Methods 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 12
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 9
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
- B29C59/04—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing using rollers or endless belts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は大容量のデータ記録媒体として使用される、光
カード、光ディスク等の光メモリ素子の製造方法及びそ
の装置に関するものである。
カード、光ディスク等の光メモリ素子の製造方法及びそ
の装置に関するものである。
〔従来の技術］
従来、光カード、光ディスク等の光メモリ素子を製造す
るためのシート状の基板に、情報の書込及び続出に使用
されるガイドトラックを形成する方法としては、シート
ロール状の基板材料に連続してトラッキング用の濃淡パ
ターンを印刷する方法がある。又、光の回折を利用した
トラッキングに使用するグループ形状のガイドトラック
を形成する方法としては、カットシート状若しくはシー
トロール状の基板材料に２Ｐ法等の手段によりグループ
形状を転写する方法、加熱したスタンパ−により直接加
圧してグループ形状を刻印する方法及び射出成形により
スタンバ−からグループ形状を転写する方法が知られて
いる。
るためのシート状の基板に、情報の書込及び続出に使用
されるガイドトラックを形成する方法としては、シート
ロール状の基板材料に連続してトラッキング用の濃淡パ
ターンを印刷する方法がある。又、光の回折を利用した
トラッキングに使用するグループ形状のガイドトラック
を形成する方法としては、カットシート状若しくはシー
トロール状の基板材料に２Ｐ法等の手段によりグループ
形状を転写する方法、加熱したスタンパ−により直接加
圧してグループ形状を刻印する方法及び射出成形により
スタンバ−からグループ形状を転写する方法が知られて
いる。
ところが、上述の印刷法では、一定の線幅以下のパター
ンの印刷が不可能であるため、記憶容量に限界があると
いう問題を有していた。又、それ以外のグループ形状の
ガイドトラックを形成する各方法では、連続した処理が
できないために製造に時間が掛かり、コストダウンを図
る上で大きな障害となるものであった。
ンの印刷が不可能であるため、記憶容量に限界があると
いう問題を有していた。又、それ以外のグループ形状の
ガイドトラックを形成する各方法では、連続した処理が
できないために製造に時間が掛かり、コストダウンを図
る上で大きな障害となるものであった。
又、一般にシート状の基板材料はロール状に巻かれてい
るため、多少の反りを有しているが、このように基板に
反りがあると光学特性上好ましくないばかりでなく、精
度良く光メモリ素子を製造することが困難になるという
問題を生じる。そのため、現状では熱処理を施すことに
より反りを除去している。
るため、多少の反りを有しているが、このように基板に
反りがあると光学特性上好ましくないばかりでなく、精
度良く光メモリ素子を製造することが困難になるという
問題を生じる。そのため、現状では熱処理を施すことに
より反りを除去している。
（課題を解決するための手段〕
上記の課題を解決するために、本明細書の特許請求の範
囲の欄における請求項第１項に記載された光メモリ素子
の製造方法は、光により読出若しくは書込又はその双方
が可能な光メモリ素子をシート状の基板から製造する製
造方法において、上記基板上へのガイドトラック溝の形
成を、その表面にガイドトラック溝に対応する転写パタ
ーンを有し、基板の軟化点以上の温度に加熱された加圧
ロールにより加圧して行うようにしたことを特徴とする
ものである。
囲の欄における請求項第１項に記載された光メモリ素子
の製造方法は、光により読出若しくは書込又はその双方
が可能な光メモリ素子をシート状の基板から製造する製
造方法において、上記基板上へのガイドトラック溝の形
成を、その表面にガイドトラック溝に対応する転写パタ
ーンを有し、基板の軟化点以上の温度に加熱された加圧
ロールにより加圧して行うようにしたことを特徴とする
ものである。
又、請求項第２項に記載された光メモリ素子の製造方法
は、上記請求項第１項の製造方法を実施するに当たり、
上記加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための
真空チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は
付着工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行う
ようにしたことを特徴としている。
は、上記請求項第１項の製造方法を実施するに当たり、
上記加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための
真空チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は
付着工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行う
ようにしたことを特徴としている。
更に、請求項第３項に係る光メモリ素子の製造方法は、
光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモ
リ素子をシート状の基板から製造する製造方法において
、上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、シート状
の基板をその軟化点以上の温度に加熱しておき、その表
面にガイドトラック溝に対応する転写パターンを有する
加圧ロールにより上記加熱された基板を加圧することに
より行うようにしたことを特徴としている。
光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモ
リ素子をシート状の基板から製造する製造方法において
、上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、シート状
の基板をその軟化点以上の温度に加熱しておき、その表
面にガイドトラック溝に対応する転写パターンを有する
加圧ロールにより上記加熱された基板を加圧することに
より行うようにしたことを特徴としている。
又、請求項第４項に係る光メモリ素子の製造方法は、上
記請求項第３項の製造方法において、上記加熱工程及び
加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための真空
チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は付着
工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行うよう
にしたことを特徴とするものである。
記請求項第３項の製造方法において、上記加熱工程及び
加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための真空
チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は付着
工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行うよう
にしたことを特徴とするものである。
更に、請求項第５項は上述した製造方法により光メモリ
素子を製造する製造装置に関するものであり、この製造
装置は、光により読出若しくは書込又はその双方が可能
な光メモリ素子をシート状の基板から製造する製造装置
において、上記基板上に転写パターンを有する加圧ロー
ルによりガイドトラック溝を形成するガイドトラック溝
形成部と、上記基板上に記録媒体を付着する記録媒体付
着部と、上記基板から所定サイズの光メモリ素子を打ち
抜く打抜部と、基板又は基板から打ち抜かれた光メモリ
素子上にコーティング層を形成するコーティング層形成
部とを備えていることを特徴としている。
素子を製造する製造装置に関するものであり、この製造
装置は、光により読出若しくは書込又はその双方が可能
な光メモリ素子をシート状の基板から製造する製造装置
において、上記基板上に転写パターンを有する加圧ロー
ルによりガイドトラック溝を形成するガイドトラック溝
形成部と、上記基板上に記録媒体を付着する記録媒体付
着部と、上記基板から所定サイズの光メモリ素子を打ち
抜く打抜部と、基板又は基板から打ち抜かれた光メモリ
素子上にコーティング層を形成するコーティング層形成
部とを備えていることを特徴としている。
上記した請求項第１項の光メモリ素子の製造方法によれ
ば、基板の軟化点以上の温度に加熱した加圧ロールによ
り基板にガイドトラック溝に対応するパターンを転写し
てガイドトラック溝を形成するようにしたので、ガイド
トランク溝の連続的に形成することが可能になり、これ
により、光メモリ素子の製造に要する時間の短縮及びコ
ストの低減を図ることができるようになる。又、上記加
圧ロールで加圧することにより、シート状の基板の反り
も同時に除去できるものである。
ば、基板の軟化点以上の温度に加熱した加圧ロールによ
り基板にガイドトラック溝に対応するパターンを転写し
てガイドトラック溝を形成するようにしたので、ガイド
トランク溝の連続的に形成することが可能になり、これ
により、光メモリ素子の製造に要する時間の短縮及びコ
ストの低減を図ることができるようになる。又、上記加
圧ロールで加圧することにより、シート状の基板の反り
も同時に除去できるものである。
次に、請求項第２項に係る光メモリ素子の製造方法は、
上記請求項第１項の製造方法において、加圧ロールを、
記録媒体を付着させるための真空チャンバ内に組み込み
、真空チャンバ内でガイドトラック溝の形成を行うよう
にしたので、ガイドトラック溝の形成と記録媒体の付着
とを連続した工程として行うことができ、かつ、両工程
の間で基板が塵埃等に汚染される不具合が生じにくくな
って、信頼性の高い光メモリ素子を製造することができ
るようになる。
上記請求項第１項の製造方法において、加圧ロールを、
記録媒体を付着させるための真空チャンバ内に組み込み
、真空チャンバ内でガイドトラック溝の形成を行うよう
にしたので、ガイドトラック溝の形成と記録媒体の付着
とを連続した工程として行うことができ、かつ、両工程
の間で基板が塵埃等に汚染される不具合が生じにくくな
って、信頼性の高い光メモリ素子を製造することができ
るようになる。
又、請求項第３項の光メモリ素子の製造方法においては
、加圧ロールからのパターンの転写に先立って加圧ロー
ルを加熱する代わりに基板をその軟化点以上の温度に加
熱するようにしたものであり、これにより、請求項第１
項又は第２項の製造方法の如く、加圧ロール側を加熱し
た場合に加圧ロール表面の温度のばらつきに起因して基
板に生じる恐れのある厚みのばらつきや耳波、中延び等
による基板の平坦度の低下を防止できるようになる。
、加圧ロールからのパターンの転写に先立って加圧ロー
ルを加熱する代わりに基板をその軟化点以上の温度に加
熱するようにしたものであり、これにより、請求項第１
項又は第２項の製造方法の如く、加圧ロール側を加熱し
た場合に加圧ロール表面の温度のばらつきに起因して基
板に生じる恐れのある厚みのばらつきや耳波、中延び等
による基板の平坦度の低下を防止できるようになる。
更に、請求項第４項の製造方法は、上記請求項第３項の
製造方法を実施するに当たり、記録媒体を付着させるた
めの真空チャンバ内でガイドトラック溝を形成するよう
にしたものであり、これにより、請求項第２項の製造方
法と同様にガイドトラック溝の形成と記録媒体の付着と
を連続した工程として行うことができ、かつ、両工程の
間で基板が塵埃等に汚染される不具合が生じにくくなっ
て、信頼性の高い光メモリ素子を製造することができる
ようになる。
製造方法を実施するに当たり、記録媒体を付着させるた
めの真空チャンバ内でガイドトラック溝を形成するよう
にしたものであり、これにより、請求項第２項の製造方
法と同様にガイドトラック溝の形成と記録媒体の付着と
を連続した工程として行うことができ、かつ、両工程の
間で基板が塵埃等に汚染される不具合が生じにくくなっ
て、信頼性の高い光メモリ素子を製造することができる
ようになる。
又、請求項第５項の光メモリ素子の製造装置によれば、
シート状の基板にガイドトラック溝形成部によりガイド
トラック溝が形成されるとともに記録媒体付着部により
記録媒体の付着が行われ、更に、打抜部により上記基板
から所定のサイズの光メモリ素子が打ち抜かれるととも
にコーティング層形成部により基板上又は基板から打ち
抜かれた光メモリ素子上にコーティング層が形成される
ことにより光メモリ素子が製造される。ここで、ガイド
トラック溝の形成は加圧ロールにより連続的に行われる
ので、光メモリ素子の製造に要する時間の短縮及びそれ
に伴うコストダウンを図ることができるようになる。
シート状の基板にガイドトラック溝形成部によりガイド
トラック溝が形成されるとともに記録媒体付着部により
記録媒体の付着が行われ、更に、打抜部により上記基板
から所定のサイズの光メモリ素子が打ち抜かれるととも
にコーティング層形成部により基板上又は基板から打ち
抜かれた光メモリ素子上にコーティング層が形成される
ことにより光メモリ素子が製造される。ここで、ガイド
トラック溝の形成は加圧ロールにより連続的に行われる
ので、光メモリ素子の製造に要する時間の短縮及びそれ
に伴うコストダウンを図ることができるようになる。
〔実施例１〕
本発明の一実施例を第１図乃至第２図に基づいて説明す
れば、以下の通りである。
れば、以下の通りである。
この第１実施例は本明細書の特許請求の範囲の欄におけ
る請求項第１項に係る光メモリ素子の製造方法に関する
実施例である。第２図に示すように、光メモリ素子とし
ての光カード１は、基板２上に光記録を行うための光記
録領域３と磁気記録を行うための磁気ストライプ４とを
備えて構成されている。基板２は透明な材料により形成
され、その厚みは、特定しないが、好適には０．２〜１
．Ｏｍｍ程度とされる。
る請求項第１項に係る光メモリ素子の製造方法に関する
実施例である。第２図に示すように、光メモリ素子とし
ての光カード１は、基板２上に光記録を行うための光記
録領域３と磁気記録を行うための磁気ストライプ４とを
備えて構成されている。基板２は透明な材料により形成
され、その厚みは、特定しないが、好適には０．２〜１
．Ｏｍｍ程度とされる。
第１図に示すように、光カード１の製造装置内には、光
カード１における基板２の素材である、例えば、ポリカ
ーボネイトからなるシート状の基板６がロール状に巻か
れて収容されている。
カード１における基板２の素材である、例えば、ポリカ
ーボネイトからなるシート状の基板６がロール状に巻か
れて収容されている。
基板６のシートロール部６ａの下流側には、その表面に
基板６に刻印すべき図示しないガイドトラック溝に対応
した転写パターンを有する加圧ロール７が回転自在に配
置されている。上記転写パターンは加圧ロール７の表面
に直接刻設されていても良く、又は、転写パターンの刻
設された図示しない型板が加圧ロール７の表面に巻き付
けられていても良い。
基板６に刻印すべき図示しないガイドトラック溝に対応
した転写パターンを有する加圧ロール７が回転自在に配
置されている。上記転写パターンは加圧ロール７の表面
に直接刻設されていても良く、又は、転写パターンの刻
設された図示しない型板が加圧ロール７の表面に巻き付
けられていても良い。
加圧ロール７内には図示しないヒータが備えられ、この
ヒータは加圧ロール７を加熱し、この加圧ロール７を介
して、シートロール部６ａから巻き出されるシート状の
基板６をその軟化点以上の温度に加熱できるようになっ
ている。基板６が軟化点が約１６０ ’Ｃであるポリカ
ーボネイトである場合、ヒータは加圧ロール７を介して
基板６を１６０〜２００ ’Ｃ程度の温度まで加熱する
。なお、加圧ロール７に対向させて加圧ロール７からの
荷重を支持する対向ロール８が回転自在に配置されてい
る。又、加圧ロール７及び対向ロール８の下流側には基
板６を所望の長さの裁断片６ｂに裁断するための裁断具
９が配置されている。
ヒータは加圧ロール７を加熱し、この加圧ロール７を介
して、シートロール部６ａから巻き出されるシート状の
基板６をその軟化点以上の温度に加熱できるようになっ
ている。基板６が軟化点が約１６０ ’Ｃであるポリカ
ーボネイトである場合、ヒータは加圧ロール７を介して
基板６を１６０〜２００ ’Ｃ程度の温度まで加熱する
。なお、加圧ロール７に対向させて加圧ロール７からの
荷重を支持する対向ロール８が回転自在に配置されてい
る。又、加圧ロール７及び対向ロール８の下流側には基
板６を所望の長さの裁断片６ｂに裁断するための裁断具
９が配置されている。
上記の構成において、光カード１の製造に際しては、シ
ートロール部６ａから巻き出されたシート状の基板６が
、内部に設けたヒータにより予め、基板６の軟化点以上
の温度に加熱された加圧ロール７と対向ロール８との間
を通過させられることにより、加圧ロール７上の転写パ
ターンが加圧ロール７の熱により軟化した基板６上に刻
印され、これにより、基板６上にガイドトラック溝が形
成される。その後、基板６はそのままロール状に巻き取
られても良く、裁断具９により所定長さの裁断片６ｂに
裁断されても良い。
ートロール部６ａから巻き出されたシート状の基板６が
、内部に設けたヒータにより予め、基板６の軟化点以上
の温度に加熱された加圧ロール７と対向ロール８との間
を通過させられることにより、加圧ロール７上の転写パ
ターンが加圧ロール７の熱により軟化した基板６上に刻
印され、これにより、基板６上にガイドトラック溝が形
成される。その後、基板６はそのままロール状に巻き取
られても良く、裁断具９により所定長さの裁断片６ｂに
裁断されても良い。
上記の製造方法によれば、シート状の基板６に対するガ
イドトラック溝の形成を、加圧ロール７により連続的に
行えるとともに、シートロール部６ａから巻き出された
基板６に残存する反りが加圧ロール７にて加圧されるこ
とにより除去される。
イドトラック溝の形成を、加圧ロール７により連続的に
行えるとともに、シートロール部６ａから巻き出された
基板６に残存する反りが加圧ロール７にて加圧されるこ
とにより除去される。
〔実施例２］
次に、第３図に基づいて、請求項第２項及び第５項に係
る光メモリ素子の製造方法の実施例である第２実施例を
説明する。
る光メモリ素子の製造方法の実施例である第２実施例を
説明する。
この第２実施例は記録媒体の付着を行うための真空チャ
ンバ１０における真空室１１内にシートロール状の基板
６、ガイドトラック形成部とじての加圧ロール７、対向
ロール８及び裁断具９を配置したものである。更に、加
圧ロール７と裁断具９との間における基板６の下方に、
スパッタリングにより記録媒体の付着を行う記録媒体付
着部としてのターゲット１２・１２・・・が配置されて
いる。又、裁断具９の下流側における基板６の下方には
、裁断具９により裁断された裁断片６ｂを受けるための
受皿１３が設置されている。なお、図示しないが、真空
チャンバ１０の外部には、基板６から所定サイズの光カ
ード１を打ち抜く打抜部と、打ち抜かれた光カード１上
に前述した光記録領域３等の保護用のコーティング層を
形成するためのコーティング層形成部が設けられている
。
ンバ１０における真空室１１内にシートロール状の基板
６、ガイドトラック形成部とじての加圧ロール７、対向
ロール８及び裁断具９を配置したものである。更に、加
圧ロール７と裁断具９との間における基板６の下方に、
スパッタリングにより記録媒体の付着を行う記録媒体付
着部としてのターゲット１２・１２・・・が配置されて
いる。又、裁断具９の下流側における基板６の下方には
、裁断具９により裁断された裁断片６ｂを受けるための
受皿１３が設置されている。なお、図示しないが、真空
チャンバ１０の外部には、基板６から所定サイズの光カ
ード１を打ち抜く打抜部と、打ち抜かれた光カード１上
に前述した光記録領域３等の保護用のコーティング層を
形成するためのコーティング層形成部が設けられている
。
そして、光カードｌの製造に際しては、シートロール部
６ａから巻き出されたシート状の基板６が、予め基板６
の軟化点以上の温度に加熱された加圧ロール７と対向ロ
ール８との間を通過させられることにより、基板６上に
加圧ロール７のパターンが転写されてガイドトラック溝
が形成され、引続き、上記ガイドトラック溝が形成され
た基板６上にスパッタリング法によりターゲット１２・
１２・・・を構成する原子を付着させ、この原子により
基板６上に記録媒体を成膜する。この記録媒体は完成後
の光カード１において光記録領域３を構成する。
６ａから巻き出されたシート状の基板６が、予め基板６
の軟化点以上の温度に加熱された加圧ロール７と対向ロ
ール８との間を通過させられることにより、基板６上に
加圧ロール７のパターンが転写されてガイドトラック溝
が形成され、引続き、上記ガイドトラック溝が形成され
た基板６上にスパッタリング法によりターゲット１２・
１２・・・を構成する原子を付着させ、この原子により
基板６上に記録媒体を成膜する。この記録媒体は完成後
の光カード１において光記録領域３を構成する。
その後、基板６は裁断具９により所定長さの裁断片６ｂ
に裁断され、真空室１１内の真空状態を維持するための
予備室１４を介して裁断片６ｂが真空チャンバ１０外に
取り出され、図示しない打抜部により所定サイズの光カ
ード１が打ち抜かれる。更に、光カード１上には図示し
ないコーティング層形成部により、その表面を保護する
コーティング層が形成される。なお、真空チャンバ１０
における真空室１１に充分な容積を与えておけば、上述
の打抜工程も真空チャンバ１０内に組み込むことにより
、裁断片６ｂから所定のサイズの光カード１を打ち抜い
た後真空チャンバ１０外に取り出すことも可能である。
に裁断され、真空室１１内の真空状態を維持するための
予備室１４を介して裁断片６ｂが真空チャンバ１０外に
取り出され、図示しない打抜部により所定サイズの光カ
ード１が打ち抜かれる。更に、光カード１上には図示し
ないコーティング層形成部により、その表面を保護する
コーティング層が形成される。なお、真空チャンバ１０
における真空室１１に充分な容積を与えておけば、上述
の打抜工程も真空チャンバ１０内に組み込むことにより
、裁断片６ｂから所定のサイズの光カード１を打ち抜い
た後真空チャンバ１０外に取り出すことも可能である。
この第２実施例によれば、シート状の基板６にガイドト
ラック溝を形成する工程と記録媒体を付着させる工程と
を連続して行え、かつ、両工程の間で基板６に塵埃等が
付着する恐れもなくなる。
ラック溝を形成する工程と記録媒体を付着させる工程と
を連続して行え、かつ、両工程の間で基板６に塵埃等が
付着する恐れもなくなる。
なお、以上では、ガイドトラック溝の形成後に記録媒体
の付着を行うものとして説明したが、これらの工程の順
序を逆にして、記録媒体の付着後にガイドトラック溝を
形成するようにしても良い。
の付着を行うものとして説明したが、これらの工程の順
序を逆にして、記録媒体の付着後にガイドトラック溝を
形成するようにしても良い。
又、裁断片６ｂから光カード１を打ち抜く工程とコーテ
ィング層を形成する工程の順序も逆にしても良い。
ィング層を形成する工程の順序も逆にしても良い。
〔実施例３〕
第４図に請求項第３項に係る光メモリ素子の製造方法の
実施例である第３実施例を示す。
実施例である第３実施例を示す。
この実施例は第１実施例を変形したもので、加圧ロール
７内にヒータを設けて加圧ロール７を加熱する代わりに
、加圧ロール７及び対向ロール８の上流側にヒータ１５
・１５を配置し、ヒータ１５・１５によりシート状の基
板６を直接その軟化点以上の温度に加熱した後に、加圧
ロール７から基板６に転写パターンを押圧することによ
り、基板６上にガイドトランク溝を形成するようにした
ものである。なお、ガイドトラック溝を形成した後の基
板６は、第１実施例と同様にそのままロール状に巻き取
られても良く、裁断具９により裁断片６ｂに裁断されて
も良い。
７内にヒータを設けて加圧ロール７を加熱する代わりに
、加圧ロール７及び対向ロール８の上流側にヒータ１５
・１５を配置し、ヒータ１５・１５によりシート状の基
板６を直接その軟化点以上の温度に加熱した後に、加圧
ロール７から基板６に転写パターンを押圧することによ
り、基板６上にガイドトランク溝を形成するようにした
ものである。なお、ガイドトラック溝を形成した後の基
板６は、第１実施例と同様にそのままロール状に巻き取
られても良く、裁断具９により裁断片６ｂに裁断されて
も良い。
この第３実施例によれば、加圧ロール７ではなく、基板
６を直接加熱するようにしたので、基板６は均一に加熱
され、加圧ロール７を通過した後に基板６の厚みにばら
つきが生じたり、耳波や中延び等が生じて基板６の平坦
度が低下するという不具合は発生しにくくなる。
６を直接加熱するようにしたので、基板６は均一に加熱
され、加圧ロール７を通過した後に基板６の厚みにばら
つきが生じたり、耳波や中延び等が生じて基板６の平坦
度が低下するという不具合は発生しにくくなる。
〔実施例４〕
次に、請求項第４項に係る光メモリ素子の製造方法の実
施例である第４実施例につき説明する。
施例である第４実施例につき説明する。
第５図に示すように、第４実施例は第２実施例を変形し
たものであり、加圧ロール７、対向ロール８及び裁断具
９等が真空チャンバ１０内に収容されるとともに、加圧
ロールマ内にはヒータを設けず、シート状の基板６を加
圧ロール７及び対向ロール８の上流側に配置したヒータ
１５・１５によりその軟化点以上の温度に加熱するよう
にしたものである。この第４実施例による製造方法は第
２実施例とほぼ同様であるから詳しい説明は省略する。
たものであり、加圧ロール７、対向ロール８及び裁断具
９等が真空チャンバ１０内に収容されるとともに、加圧
ロールマ内にはヒータを設けず、シート状の基板６を加
圧ロール７及び対向ロール８の上流側に配置したヒータ
１５・１５によりその軟化点以上の温度に加熱するよう
にしたものである。この第４実施例による製造方法は第
２実施例とほぼ同様であるから詳しい説明は省略する。
なお、この第３実施例においても、ガイドトラック溝の
形成と記録媒体の付着はいずれを先に行っても良く、又
、裁断片６ｂから光カード１を打ち抜く工程とコーティ
ング層を形成する工程もいずれを先に行っても良い。
形成と記録媒体の付着はいずれを先に行っても良く、又
、裁断片６ｂから光カード１を打ち抜く工程とコーティ
ング層を形成する工程もいずれを先に行っても良い。
上記の実施例では、記録媒体の付着をスパッタリングに
より行うものとしたが、記録媒体の付着は蒸着、スプレ
ー塗布等により行うようにしても良い。又、上記の実施
例では、光メモリ素子の一例として光カードを取り挙げ
たが、本発明の製造方法及び製造装置は、光ディスク等
の他の光メモリ素子の製造にも使用できるものである。
より行うものとしたが、記録媒体の付着は蒸着、スプレ
ー塗布等により行うようにしても良い。又、上記の実施
例では、光メモリ素子の一例として光カードを取り挙げ
たが、本発明の製造方法及び製造装置は、光ディスク等
の他の光メモリ素子の製造にも使用できるものである。
以上のように、本明細書の特許請求の範囲の欄における
請求項第１項に記載された光メモリ素子の製造方法は、
光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモ
リ素子をシート状の基板から製造する製造方法において
、上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、その表面
にガイドトランク溝に対応する転写パターンを有し、基
板の軟化点以上の温度に加熱された加圧ロールにより加
圧して行うようにした構成である。
請求項第１項に記載された光メモリ素子の製造方法は、
光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモ
リ素子をシート状の基板から製造する製造方法において
、上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、その表面
にガイドトランク溝に対応する転写パターンを有し、基
板の軟化点以上の温度に加熱された加圧ロールにより加
圧して行うようにした構成である。
これにより、基板の軟化点以上の温度に加熱した加圧ロ
ールにより基板にガイドトラック溝に対応するパターン
を転写してガイドトラック溝を形成するようにしたので
、ガイドトラック溝を連続的に形成することが可能にな
り、光メモリ素子の製造に要する時間の短縮及びそれに
伴うコストダウンを図ることができるようになる。又、
上記加圧ロールで加圧することにより、基板の反りの除
去も同時に行えるものである。
ールにより基板にガイドトラック溝に対応するパターン
を転写してガイドトラック溝を形成するようにしたので
、ガイドトラック溝を連続的に形成することが可能にな
り、光メモリ素子の製造に要する時間の短縮及びそれに
伴うコストダウンを図ることができるようになる。又、
上記加圧ロールで加圧することにより、基板の反りの除
去も同時に行えるものである。
又、請求項第２項に記載された光メモリ素子の製造方法
は、上記請求項第１項の製造方法を実施するに当たり、
上記加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための
真空チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は
付着工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行う
ようにした構成である。
は、上記請求項第１項の製造方法を実施するに当たり、
上記加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための
真空チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は
付着工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行う
ようにした構成である。
これにより、真空チャンバ内でガイドトラック溝の形成
を行うようにしたので、ガイドトラック溝の形成と記録
媒体の付着とを連続した工程として行うことができ、か
つ、両工程の間で基板が塵埃等に汚染される不具合が生
じにくくなって、信頼性の高い光メモリ素子を製造する
ことができるようになる。
を行うようにしたので、ガイドトラック溝の形成と記録
媒体の付着とを連続した工程として行うことができ、か
つ、両工程の間で基板が塵埃等に汚染される不具合が生
じにくくなって、信頼性の高い光メモリ素子を製造する
ことができるようになる。
更に、請求項第３項に係る光メモリ素子の製造方法は、
光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモ
リ素子をシート状の基板から製造する製造方法において
、上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、シート状
の基板をその軟化点以上の温度に加熱しておき、その表
面にガイドトラック溝に対応する転写パターンを有する
加圧ロールにより上記加熱された基板を加圧することに
より行うようにした構成である。
光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモ
リ素子をシート状の基板から製造する製造方法において
、上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、シート状
の基板をその軟化点以上の温度に加熱しておき、その表
面にガイドトラック溝に対応する転写パターンを有する
加圧ロールにより上記加熱された基板を加圧することに
より行うようにした構成である。
このように、加圧ロールを加熱する代わりに基板を直接
その軟化点以上の温度に加熱するようにしているので、
基板を均一に加熱することができ、その結果、請求項第
１項又は第２項の製造方法の如く、加圧ロール側を加熱
した場合に加圧ロール表面の温度のばらつきに起因して
基板に生じる恐れのある厚みのばらつきや耳波、中延び
等による基板の平坦度の低下を防止できるようになる。
その軟化点以上の温度に加熱するようにしているので、
基板を均一に加熱することができ、その結果、請求項第
１項又は第２項の製造方法の如く、加圧ロール側を加熱
した場合に加圧ロール表面の温度のばらつきに起因して
基板に生じる恐れのある厚みのばらつきや耳波、中延び
等による基板の平坦度の低下を防止できるようになる。
又、請求項第４項に係る光メモリ素子の製造方法は、上
記請求項第３項の製造方法において、上記加熱工程及び
加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための真空
チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は付着
工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行うよう
にした構成である。
記請求項第３項の製造方法において、上記加熱工程及び
加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるための真空
チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、又は付着
工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を行うよう
にした構成である。
これにより、上記請求項第３項の製造方法を実施するに
当たり、ガイドトランク溝の形成と記録媒体の付着とを
連続した工程として行うことができ、かつ、両工程の間
で基板が塵埃等に汚染される不具合が生じにくくなって
、信頼性の高い光メモリ素子を製造することができるよ
うになる。
当たり、ガイドトランク溝の形成と記録媒体の付着とを
連続した工程として行うことができ、かつ、両工程の間
で基板が塵埃等に汚染される不具合が生じにくくなって
、信頼性の高い光メモリ素子を製造することができるよ
うになる。
更に、請求項第５項の光メモリ素子の製造装置は、光に
より読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモリ素
子をシート状の基板から製造する製造装置において、上
記基板上に転写パターンを有する加圧ロールによりガイ
ドトラック溝を形成するガイドトラック溝形成部と、上
記基板上に記録媒体を付着する記録媒体付着部と、上記
基板から所定サイズの光メモリ素子を打ち抜く打抜部と
、基板又は基板から打ち抜かれた光メモリ素子上にコー
ティング層を形成するコーティング層形成部とを備えて
いる構成である。
より読出若しくは書込又はその双方が可能な光メモリ素
子をシート状の基板から製造する製造装置において、上
記基板上に転写パターンを有する加圧ロールによりガイ
ドトラック溝を形成するガイドトラック溝形成部と、上
記基板上に記録媒体を付着する記録媒体付着部と、上記
基板から所定サイズの光メモリ素子を打ち抜く打抜部と
、基板又は基板から打ち抜かれた光メモリ素子上にコー
ティング層を形成するコーティング層形成部とを備えて
いる構成である。
これにより、ガイドトラック溝の形成を加圧ロールによ
り連続的に形成できるようになるので、光メモリ素子の
製造に要する時間の短縮及びそれに伴う製造コストの低
減を図ることができるようになる。
り連続的に形成できるようになるので、光メモリ素子の
製造に要する時間の短縮及びそれに伴う製造コストの低
減を図ることができるようになる。
第１図及び第２図は本明細書の特許請求の範囲の欄にお
ける請求項第１項の光メモリ素子の製造方法に係る実施
例を示すものであって、第１図は上記請求項第１項の製
造方法の実施に使用する装置の概略側面図、第２図は第
１図の装置により製造される光カードの概略平面図、第
３図は請求項第２項の光メモリ素子の製造方法の実施に
使用する装置の概略側面図、第４図は請求項第３項の光
メモリ素子の製造方法の実施に使用する装置の概略側面
図、第５図は請求項第４項の光メモリ素子の製造方法の
実施に使用する装置の概略側面図である。 １は光カード（光メモリ素子）、６は基板、７は加圧ロ
ール（ガイドトラック溝形成部）、１２はターゲット（
記録媒体付着部）である。
ける請求項第１項の光メモリ素子の製造方法に係る実施
例を示すものであって、第１図は上記請求項第１項の製
造方法の実施に使用する装置の概略側面図、第２図は第
１図の装置により製造される光カードの概略平面図、第
３図は請求項第２項の光メモリ素子の製造方法の実施に
使用する装置の概略側面図、第４図は請求項第３項の光
メモリ素子の製造方法の実施に使用する装置の概略側面
図、第５図は請求項第４項の光メモリ素子の製造方法の
実施に使用する装置の概略側面図である。 １は光カード（光メモリ素子）、６は基板、７は加圧ロ
ール（ガイドトラック溝形成部）、１２はターゲット（
記録媒体付着部）である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光
メモリ素子をシート状の基板から製造する製造方法にお
いて、 上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、その表面に
ガイドトラック溝に対応する転写パターンを有し、基板
の軟化点以上の温度に加熱された加圧ロールにより加圧
して行うようにしたことを特徴とする光メモリ素子の製
造方法。 ２、上記加圧ロールを、基板に記録媒体を付着させるた
めの真空チャンバ内に組み込み、付着工程に先立って、
又は付着工程の後に真空中でガイドトラック溝の形成を
行うようにしたことを特徴とする請求項第１項に記載の
光メモリ素子の製造方法。 ３、光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光
メモリ素子をシート状の基板から製造する製造方法にお
いて、 上記基板上へのガイドトラック溝の形成を、基板をその
軟化点以上の温度に加熱しておき、その表面にガイドト
ラック溝に対応する転写パターンを有する加圧ロールに
より上記加熱された基板を加圧することにより行うよう
にしたことを特徴とする光メモリ素子の製造方法。 ４、上記加熱工程及び加圧ロールを、基板に記録媒体を
付着させるための真空チャンバ内に組み込み、付着工程
に先立って、又は付着工程の後に真空中でガイドトラッ
ク溝の形成を行うようにしたことを特徴とする請求項第
３項に記載の光メモリ素子の製造方法。 ５、光により読出若しくは書込又はその双方が可能な光
メモリ素子をシート状の基板から製造する製造装置にお
いて、 上記基板上に転写パターンを有する加圧ロールによりガ
イドトラック溝を形成するガイドトラック溝形成部と、
上記基板上に記録媒体を付着する記録媒体付着部と、上
記基板から所定サイズの光メモリ素子を打ち抜く打抜部
と、基板又は基板から打ち抜かれた光メモリ素子上にコ
ーティング層を形成するコーティング層形成部とを備え
ていることを特徴とする光メモリ素子の製造装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194160A JP2532598B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 光メモリ素子の製造方法及びその装置 |
| US07/384,257 US5053252A (en) | 1988-08-03 | 1989-07-21 | Method and apparatus for manufacturing optical memory devices |
| KR1019890010764A KR0130769B1 (ko) | 1988-08-03 | 1989-07-28 | 광메모리 장치를 제조하는 방법 및 장치(Method and apparatus for manufacturing optical memory device) |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63194160A JP2532598B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 光メモリ素子の製造方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244548A true JPH0244548A (ja) | 1990-02-14 |
| JP2532598B2 JP2532598B2 (ja) | 1996-09-11 |
Family
ID=16319922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63194160A Expired - Lifetime JP2532598B2 (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 光メモリ素子の製造方法及びその装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5053252A (ja) |
| JP (1) | JP2532598B2 (ja) |
| KR (1) | KR0130769B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008238471A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Toshiba Mach Co Ltd | 減圧転写成形装置 |
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|---|---|---|---|---|
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| JP3403550B2 (ja) * | 1995-06-29 | 2003-05-06 | 松下電器産業株式会社 | スパッタリング装置とスパッタリング方法 |
| US6007888A (en) * | 1998-05-08 | 1999-12-28 | Kime; Milford B. | Directed energy assisted in vacuo micro embossing |
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| JP2005531098A (ja) * | 2002-06-26 | 2005-10-13 | エナージー コンバーション デバイセス インコーポレイテッド | 重合体基材上に微細構造を形成する方法及び装置 |
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| JPS623443A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | フレキシブル光デイスク及びその製造方法 |
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| NL7810462A (nl) * | 1978-10-19 | 1980-04-22 | Philips Nv | Registratiedrager waarin informatie is aangebracht in een optisch uitleesbare stralingsreflekterende informatiestruktuur |
| US4892385A (en) * | 1981-02-19 | 1990-01-09 | General Electric Company | Sheet-material authenticated item with reflective-diffractive authenticating device |
| US4680460A (en) * | 1981-02-27 | 1987-07-14 | Drexler Technology Corporation | System and method for making recordable wallet-size optical card |
| US4544835A (en) * | 1983-12-29 | 1985-10-01 | Drexler Technology Corporation | Data system containing a high capacity optical contrast laser recordable wallet-size plastic card |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP63194160A patent/JP2532598B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-07-21 US US07/384,257 patent/US5053252A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-07-28 KR KR1019890010764A patent/KR0130769B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR900003831A (ko) | 1990-03-27 |
| JP2532598B2 (ja) | 1996-09-11 |
| US5053252A (en) | 1991-10-01 |
| KR0130769B1 (ko) | 1998-04-08 |
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