JPH0244466B2 - - Google Patents
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- JPH0244466B2 JPH0244466B2 JP58027854A JP2785483A JPH0244466B2 JP H0244466 B2 JPH0244466 B2 JP H0244466B2 JP 58027854 A JP58027854 A JP 58027854A JP 2785483 A JP2785483 A JP 2785483A JP H0244466 B2 JPH0244466 B2 JP H0244466B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D209/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07D209/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings, condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom condensed with one carbocyclic ring
- C07D209/04—Indoles; Hydrogenated indoles
- C07D209/10—Indoles; Hydrogenated indoles with substituted hydrocarbon radicals attached to carbon atoms of the hetero ring
- C07D209/18—Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D209/26—Radicals substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals with an acyl radical attached to the ring nitrogen atom
- C07D209/28—1-(4-Chlorobenzoyl)-2-methyl-indolyl-3-acetic acid, substituted in position 5 by an oxygen or nitrogen atom; Esters thereof
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
本発明は公知の１−（４−クロロベンゾイル）−
５−メトキシ−２−メチル−３−インドールアセ
トキシ酢酸（以下にとして示す）の製造に対す
る化学的に独創的且つ有利な新規方法に関する。 この公知の化合物の製造に対して多くの方法が
すでに明らかにされている、例えばDE−OS（ド
イツ特許公開）第2234651号、同第2257867号及び
同第2943125号参照。 公知の方法においては、カルボキシル基をまず
ベンジル基で保護し、従つて下記の反応式により
ベンジルエステルの触媒的水素添加を最終反応工
程で行わなければならない。 反応式 このベンジル基の除去中に、１−ベンゾイル−
５−メトキシ−２−メチル−３−インドールアセ
トキシ酢酸、以下にいわゆる脱塩素化された化合
物と称する、が副生成物として常に生じる。４−
クロロベンゾイル基のベンゼン環から塩素の除去
によつて0.5％までの量で生じるこの望ましくな
い不純物を続いて手のこんだ精製工程で除去しな
ければならず、この工程は収量の損失を伴う。 本発明の目的は望ましくない脱塩素化された化
合物を生成せぬ改善された製造方法を提供するこ
とである。 驚くべきことに、１−（４−クロロベンゾイル）
−５−メトキシ−２−メチル−３−インドールア
セトキシ酢酸は一式 式中、R1は基
５−メトキシ−２−メチル−３−インドールアセ
トキシ酢酸（以下にとして示す）の製造に対す
る化学的に独創的且つ有利な新規方法に関する。 この公知の化合物の製造に対して多くの方法が
すでに明らかにされている、例えばDE−OS（ド
イツ特許公開）第2234651号、同第2257867号及び
同第2943125号参照。 公知の方法においては、カルボキシル基をまず
ベンジル基で保護し、従つて下記の反応式により
ベンジルエステルの触媒的水素添加を最終反応工
程で行わなければならない。 反応式 このベンジル基の除去中に、１−ベンゾイル−
５−メトキシ−２−メチル−３−インドールアセ
トキシ酢酸、以下にいわゆる脱塩素化された化合
物と称する、が副生成物として常に生じる。４−
クロロベンゾイル基のベンゼン環から塩素の除去
によつて0.5％までの量で生じるこの望ましくな
い不純物を続いて手のこんだ精製工程で除去しな
ければならず、この工程は収量の損失を伴う。 本発明の目的は望ましくない脱塩素化された化
合物を生成せぬ改善された製造方法を提供するこ
とである。 驚くべきことに、１−（４−クロロベンゾイル）
−５−メトキシ−２−メチル−３−インドールア
セトキシ酢酸は一式 式中、R1は基
【式】
【式】及び
【式】の
一つ、好ましくは
【式】を表わ
す、
のインドールカルボン酸またはその誘導体を不活
性有機溶媒、例えばエーテル類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、塩
素化された炭化水素類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、置換されたアミド類、ジ
メチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、芳
香族類、トルエン、キシレン、ケトン類、アセト
ン、メチルエチルケトン（２−ブタノン）の存在
下において−10℃〜80℃、好ましくは−10℃〜50
℃、殊に好ましくは−５℃〜20℃の温度範囲で一
般式 式中、R2は水素またはアンモニウムを表わす、 の化合物と反応させた場合に、簡単な方法で且つ
高純度で得られることがわかつた。 一般式の代表的な化合物として、R1が上記
の置換基を表わすインドールカルボン酸誘導体、
及び一般式の化合物を出発物質として用いる場
合、その反応過程は次の反応式によつて表わすこ
とができる： 式中、R1は好ましくは
性有機溶媒、例えばエーテル類、ジエチルエーテ
ル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テト
ラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、塩
素化された炭化水素類、塩化メチレン、クロロホ
ルム、ジクロロエタン、置換されたアミド類、ジ
メチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、芳
香族類、トルエン、キシレン、ケトン類、アセト
ン、メチルエチルケトン（２−ブタノン）の存在
下において−10℃〜80℃、好ましくは−10℃〜50
℃、殊に好ましくは−５℃〜20℃の温度範囲で一
般式 式中、R2は水素またはアンモニウムを表わす、 の化合物と反応させた場合に、簡単な方法で且つ
高純度で得られることがわかつた。 一般式の代表的な化合物として、R1が上記
の置換基を表わすインドールカルボン酸誘導体、
及び一般式の化合物を出発物質として用いる場
合、その反応過程は次の反応式によつて表わすこ
とができる： 式中、R1は好ましくは
【式】を
表わし、
R2は好ましくはアンモニウムカチオンを表わ
す。 次に生じたアンモニウム化合物を簡単な方法に
おいて、酸で処理して最終生成物に転化する。 本方法によつて純粋な状態、即ち妨害する脱塩
素化された化合物を含まずに且つ理論量の60〜70
％の収量で１−（４−クロロベンゾイル）−５−メ
トキシ−２−メチル−３−インドールアセトキシ
酢酸を生じることは驚くべきことである。 出発物質として用いる式及びの化合物は公
知のものであるか、或いは公知の方法によつて製
造される。 本発明における方法によつて製造される最終化
合物は抗炎症作用を有する価値ある薬剤的に活性
な物質である、例えばドイツ特許第2234651号参
照。 本方法においては、インドールカルボン酸
（R1＝OH）が、種々なハロゲン−置換されたフ
エノールによつてエステルを生成する作用する。
この目的のために、２，４，５−トリクロロフエ
ニル、２，３，４，５，６−ペンタクロロフエニ
ル及び２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエ
ニルエステルを用いるが、好ましくは２，４，５
−トリクロロフエニルエステルを用いる。中間化
合物として製造するエステルはプロトン性試薬に
対して極めて反応性である。或る条件下で、これ
らのものを単離し、そして純状態で製造すること
ができる；またこれらのものを活性エステルとし
て製造し、そして即時求核的攻撃によつて、同一
バツチ中で更に反応させることができる。 水分に対して敏感な活性エステルは無水の非プ
ロトン性溶媒、例えばエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩
化メチレンまたはジメチルホルムアミド
（DMF）、DMSO及びＮ−メチルピロリドン中で
処理しなければならない；塩化メチレンが好まし
い。 遊離型におけるインドールカルボン酸及びフエ
ノールを反応させる場合、縮合剤、例えばこの場
合ジシクロヘキシルカルボジイミドを使用する必
要がある；またインドールカルボン酸の酸塩化物
を塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジンまた
は炭酸カリウムもしくは炭酸ナトリウムと共に、
またはこれらなしに用いることができる。 反応温度は−10℃乃至＋50℃間であり；−10〜
−５℃、そして20℃が好ましい。 活性エステルと二官能性グリコール酸との反応
によつて、多くの化合物が得られ、このものは分
離することが困難である。グリコール酸のアンモ
ニウム塩、殊にそのトリエチルアンモニウムまた
はジイソプロピルアンモニウム塩の使用のみが所
望の化合物の良好な収率及び高純度をもたらす。 式のこれらの塩、殊にジイソプロピルアンモ
ニウム塩の更に利点はこれらによつて製薬学的製
品として必要な高基準まで最終精製を行うことが
できることである。 反応は水分を排除しながら無水の非プロトン性
溶媒、例えばエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−
ジメトキシエタンまたはジメチルホルムアミド中
で行わなければならず、ジメチルホルムアミドが
好ましい。 反応温度は10乃至80℃間であり、20℃乃至60℃
間が好ましい。 精製したアンモニウム塩を遊離インドールカル
ボン酸に転化するために、続いて塩化水素酸に
よる処理を行い、定義された型で無色の結晶とし
て式の水和物が得られるように反応及び結晶化
を行う。続いて真空下にて90℃での乾燥により、
水の完全な除去に伴い式の黄色がかつた結晶が
得られる。同様の反応方式において、式の２，
３，４，５，６−ペンタクロロフエニルエステル
及び２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエニ
ルエステルから式の化合物が得られる。 ３ 反応式：活性エステル法による式の化合物
の合成（工程ａ〜ｄ） 実施例 １ ａ ２，４，５−トリクロロフエニルエステル
（、
す。 次に生じたアンモニウム化合物を簡単な方法に
おいて、酸で処理して最終生成物に転化する。 本方法によつて純粋な状態、即ち妨害する脱塩
素化された化合物を含まずに且つ理論量の60〜70
％の収量で１−（４−クロロベンゾイル）−５−メ
トキシ−２−メチル−３−インドールアセトキシ
酢酸を生じることは驚くべきことである。 出発物質として用いる式及びの化合物は公
知のものであるか、或いは公知の方法によつて製
造される。 本発明における方法によつて製造される最終化
合物は抗炎症作用を有する価値ある薬剤的に活性
な物質である、例えばドイツ特許第2234651号参
照。 本方法においては、インドールカルボン酸
（R1＝OH）が、種々なハロゲン−置換されたフ
エノールによつてエステルを生成する作用する。
この目的のために、２，４，５−トリクロロフエ
ニル、２，３，４，５，６−ペンタクロロフエニ
ル及び２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエ
ニルエステルを用いるが、好ましくは２，４，５
−トリクロロフエニルエステルを用いる。中間化
合物として製造するエステルはプロトン性試薬に
対して極めて反応性である。或る条件下で、これ
らのものを単離し、そして純状態で製造すること
ができる；またこれらのものを活性エステルとし
て製造し、そして即時求核的攻撃によつて、同一
バツチ中で更に反応させることができる。 水分に対して敏感な活性エステルは無水の非プ
ロトン性溶媒、例えばエーテル、ジイソプロピル
エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩
化メチレンまたはジメチルホルムアミド
（DMF）、DMSO及びＮ−メチルピロリドン中で
処理しなければならない；塩化メチレンが好まし
い。 遊離型におけるインドールカルボン酸及びフエ
ノールを反応させる場合、縮合剤、例えばこの場
合ジシクロヘキシルカルボジイミドを使用する必
要がある；またインドールカルボン酸の酸塩化物
を塩基、例えばトリエチルアミン、ピリジンまた
は炭酸カリウムもしくは炭酸ナトリウムと共に、
またはこれらなしに用いることができる。 反応温度は−10℃乃至＋50℃間であり；−10〜
−５℃、そして20℃が好ましい。 活性エステルと二官能性グリコール酸との反応
によつて、多くの化合物が得られ、このものは分
離することが困難である。グリコール酸のアンモ
ニウム塩、殊にそのトリエチルアンモニウムまた
はジイソプロピルアンモニウム塩の使用のみが所
望の化合物の良好な収率及び高純度をもたらす。 式のこれらの塩、殊にジイソプロピルアンモ
ニウム塩の更に利点はこれらによつて製薬学的製
品として必要な高基準まで最終精製を行うことが
できることである。 反応は水分を排除しながら無水の非プロトン性
溶媒、例えばエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−
ジメトキシエタンまたはジメチルホルムアミド中
で行わなければならず、ジメチルホルムアミドが
好ましい。 反応温度は10乃至80℃間であり、20℃乃至60℃
間が好ましい。 精製したアンモニウム塩を遊離インドールカル
ボン酸に転化するために、続いて塩化水素酸に
よる処理を行い、定義された型で無色の結晶とし
て式の水和物が得られるように反応及び結晶化
を行う。続いて真空下にて90℃での乾燥により、
水の完全な除去に伴い式の黄色がかつた結晶が
得られる。同様の反応方式において、式の２，
３，４，５，６−ペンタクロロフエニルエステル
及び２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエニ
ルエステルから式の化合物が得られる。 ３ 反応式：活性エステル法による式の化合物
の合成（工程ａ〜ｄ） 実施例 １ ａ ２，４，５−トリクロロフエニルエステル
（、
【式】）
ジシクロヘキシルカルボイミド24.8ｇ（0.12モ
ル）を、−10℃に冷却した無水塩化メチレン700ml
中の式（R1＝OH）43.2ｇ及び２，４，５−ト
リクロロフエノール26.04ｇ（0.132モル）の溶液
に撹拌し且つ水分を排除しながら加えた。冷却浴
の除去後、反応混合物の温度を１時間以内に室温
に上昇させ、沈殿した無色の結晶性固体物質を
別した。液から、回転蒸発機中で水流ポンプに
よる真空下にてCH2Cl2を除去し、黄色シロツプ
状残渣に石油エーテル400mlを加えた。種結晶を
入れそしてこすつて生じた結晶を吸引別し、石
油エーテルで洗浄し、デシケーター中で水流ポン
プによる真空下にて乾燥した。 収量：２，４，５−トリクロロフエニル１−
（４−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２
−メチル−３−インドールアセトキシアセテ
ート64.4ｇ＝理論量の100％；融点126.2℃
（Mettler FP61）。 同様の方法で次のものを精造した： ２，３，４，５，６−ペンタクロロフエニル１
−（４−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２−
メチル−３−インドールアセトキシアセテート、
融点161.7℃（Mettler FP61）、収量：理論量の
85％、及び ２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエニル
１−（４−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２
−メチル−３−インドールアセトキシアセテー
ト、融点131.6℃（Mettler FP61）、収量：理論
量の約100％；〔文献：J.Pless，R.A.Boissonnas，
Helvitica46，1609（1963）参照〕。 ｂ トリエチルアンモニウムグリコレートとの反
応 ｃ 式のジイソプロピルアンモニウム塩への転
化 トリエチルアミン4.15ml（0.03モル）を無水ジ
メチルホルムアミド（DMF）50ml中の式
（
ル）を、−10℃に冷却した無水塩化メチレン700ml
中の式（R1＝OH）43.2ｇ及び２，４，５−ト
リクロロフエノール26.04ｇ（0.132モル）の溶液
に撹拌し且つ水分を排除しながら加えた。冷却浴
の除去後、反応混合物の温度を１時間以内に室温
に上昇させ、沈殿した無色の結晶性固体物質を
別した。液から、回転蒸発機中で水流ポンプに
よる真空下にてCH2Cl2を除去し、黄色シロツプ
状残渣に石油エーテル400mlを加えた。種結晶を
入れそしてこすつて生じた結晶を吸引別し、石
油エーテルで洗浄し、デシケーター中で水流ポン
プによる真空下にて乾燥した。 収量：２，４，５−トリクロロフエニル１−
（４−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２
−メチル−３−インドールアセトキシアセテ
ート64.4ｇ＝理論量の100％；融点126.2℃
（Mettler FP61）。 同様の方法で次のものを精造した： ２，３，４，５，６−ペンタクロロフエニル１
−（４−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２−
メチル−３−インドールアセトキシアセテート、
融点161.7℃（Mettler FP61）、収量：理論量の
85％、及び ２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエニル
１−（４−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２
−メチル−３−インドールアセトキシアセテー
ト、融点131.6℃（Mettler FP61）、収量：理論
量の約100％；〔文献：J.Pless，R.A.Boissonnas，
Helvitica46，1609（1963）参照〕。 ｂ トリエチルアンモニウムグリコレートとの反
応 ｃ 式のジイソプロピルアンモニウム塩への転
化 トリエチルアミン4.15ml（0.03モル）を無水ジ
メチルホルムアミド（DMF）50ml中の式
（
【式】）の化合物10.74ｇ
（0.02モル）及びグリコール酸2.28ｇ（0.03モル）
の溶液に室温で撹拌し且つ水分を排除しながら滴
下し、この混合物を更に18時間撹拌した。次に反
応溶液を２1/2時間60℃に加熱し、溶媒を回転蒸
発機中で水流ポンプによる真空下で留去した。次
にシロツプ状残渣に塩化メチレン80mlを加えた。
塩化メチレン溶液に1NHCl125mlを加え、このも
のをH2O各50mlで３回洗浄した。塩化メチレン
相をNa2SO4上で乾燥した後、この溶液にジイソ
プロピルアミン2.8ml（0.02モル）を加え、回転
蒸発機中でCH2Cl2を留去した。残渣をエーテル
80mlに採り入れ、種結晶を入れそして撹拌した後
（室温で１時間）、無色の結晶性物質を吸引別
し、エーテルで洗浄し、デシケーター中にて40℃
で乾燥した。 収量：ジイソプロピルアンモニウム１−（４−
クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２−メ
チル−３−インドールアセトキシアセテート
8.2ｇ。 ｄ 式の化合物への転化 かくして得られたアンモニウム塩8.2ｇをアセ
トン32ml及びH2O10.5mlに撹拌しながら溶解し
た。次にこの溶液に1NHCl6mlを加え、これに種
結晶を入れた。1NHCl10mlを１時間以内に滴下
し、次にこの混合物を結晶化が終了するまで１時
間撹拌した。無色の結晶性物質を吸引別し、
H2Oで十分に洗浄し、デシケーター中で水流ポ
ンプによる真空下にて40℃で乾燥した。 収量：式の水和物5.3ｇ＝理論量の61％； 融点151〜152℃の式の黄色がかつた結晶は、
水流ポンプによる真空下に90℃で乾燥（１時間）
することにより、水の完全な除去に伴つて得られ
た。 同様の方法で、式の化合物を工程ｂ〜ｄを経
て、理論量の42％の収量で活性エステル
（
の溶液に室温で撹拌し且つ水分を排除しながら滴
下し、この混合物を更に18時間撹拌した。次に反
応溶液を２1/2時間60℃に加熱し、溶媒を回転蒸
発機中で水流ポンプによる真空下で留去した。次
にシロツプ状残渣に塩化メチレン80mlを加えた。
塩化メチレン溶液に1NHCl125mlを加え、このも
のをH2O各50mlで３回洗浄した。塩化メチレン
相をNa2SO4上で乾燥した後、この溶液にジイソ
プロピルアミン2.8ml（0.02モル）を加え、回転
蒸発機中でCH2Cl2を留去した。残渣をエーテル
80mlに採り入れ、種結晶を入れそして撹拌した後
（室温で１時間）、無色の結晶性物質を吸引別
し、エーテルで洗浄し、デシケーター中にて40℃
で乾燥した。 収量：ジイソプロピルアンモニウム１−（４−
クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２−メ
チル−３−インドールアセトキシアセテート
8.2ｇ。 ｄ 式の化合物への転化 かくして得られたアンモニウム塩8.2ｇをアセ
トン32ml及びH2O10.5mlに撹拌しながら溶解し
た。次にこの溶液に1NHCl6mlを加え、これに種
結晶を入れた。1NHCl10mlを１時間以内に滴下
し、次にこの混合物を結晶化が終了するまで１時
間撹拌した。無色の結晶性物質を吸引別し、
H2Oで十分に洗浄し、デシケーター中で水流ポ
ンプによる真空下にて40℃で乾燥した。 収量：式の水和物5.3ｇ＝理論量の61％； 融点151〜152℃の式の黄色がかつた結晶は、
水流ポンプによる真空下に90℃で乾燥（１時間）
することにより、水の完全な除去に伴つて得られ
た。 同様の方法で、式の化合物を工程ｂ〜ｄを経
て、理論量の42％の収量で活性エステル
（
【式】）及び理論量の55％の
収量で活性エステル（
【式】）
の双方から製造した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式 式中、R1は基【式】 【式】及び【式】の 一つ、好ましくは【式】を表わ す、 のインドールカルボン酸類またはその誘導体を不
活性有機溶媒の存在下において−10℃〜80℃の温
度範囲で一般式 式中、R2は水素またはアンモニウムを表わす、 の化合物と反応させることを特徴とする１−（４
−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２−メチ
ル−３−インドールアセトキシ酢酸類の製法。 ２ 反応を−５℃〜20℃の温度範囲で行う特許請
求の範囲第１項記載の方法。 ３ 不活性溶媒として、エーテル類、塩素化され
た炭化水素類、置換されたアミド類、芳香族炭化
水素類またはケトン類を用いる特許請求の範囲第
１項又は第２項記載の方法。 ４ 不活性有機溶媒として、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、塩化メ
チレン、クロロホルム、ジクロロエタン、ジメチ
ルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、トルエ
ン、キシレン、アセトン及び／またはメチルエチ
ルケトン（２−ブタノン）を用いる特許請求の範
囲第１項または２項記載の方法。 ５ R1が基【式】を表わす特許請 求の範囲第１〜４項のいずれかに記載の方法。 ６ R2がアンモニウムを表わす特許請求の範囲
第１〜４項のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823206888 DE3206888A1 (de) | 1982-02-26 | 1982-02-26 | Verfahren zur herstellung von 1-(4-chlorbenzoyl)-5-methoxy-2-methyl-3-indolacetoxyessigsaeure |
| DE3206888.3 | 1982-02-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58164573A JPS58164573A (ja) | 1983-09-29 |
| JPH0244466B2 true JPH0244466B2 (ja) | 1990-10-04 |
Family
ID=6156733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58027854A Granted JPS58164573A (ja) | 1982-02-26 | 1983-02-23 | １−（４−クロロベンゾイル）−５−メトキシ−２−メチル−３−インド−ルアセトキシ酢酸類の製法 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4459415A (ja) |
| EP (1) | EP0087656B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58164573A (ja) |
| AT (1) | ATE19625T1 (ja) |
| DE (2) | DE3206888A1 (ja) |
| ES (1) | ES520123A0 (ja) |
| GR (1) | GR78116B (ja) |
| PT (1) | PT76239A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61100565A (ja) * | 1984-10-22 | 1986-05-19 | Green Cross Corp:The | インド−ル酢酸誘導体 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2234651C3 (de) * | 1972-07-14 | 1978-11-09 | Troponwerke Gmbh & Co Kg, 5000 Koeln | Eckige Klammer auf l-(p-Chlorbenzoyl)-5-methoxy-2-methyl-3-indol] -acetoxj essigsaure, ihre Salze mit Basen, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie pharmakologische Zubereitungen |
-
1982
- 1982-02-26 DE DE19823206888 patent/DE3206888A1/de not_active Withdrawn
-
1983
- 1983-02-12 AT AT83101354T patent/ATE19625T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-02-12 DE DE8383101354T patent/DE3363336D1/de not_active Expired
- 1983-02-12 EP EP83101354A patent/EP0087656B1/de not_active Expired
- 1983-02-16 PT PT76239A patent/PT76239A/pt unknown
- 1983-02-23 JP JP58027854A patent/JPS58164573A/ja active Granted
- 1983-02-24 GR GR70596A patent/GR78116B/el unknown
- 1983-02-25 US US06/469,672 patent/US4459415A/en not_active Expired - Fee Related
- 1983-02-25 ES ES520123A patent/ES520123A0/es active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58164573A (ja) | 1983-09-29 |
| US4459415A (en) | 1984-07-10 |
| ATE19625T1 (de) | 1986-05-15 |
| ES8401028A1 (es) | 1983-12-01 |
| GR78116B (ja) | 1984-09-26 |
| ES520123A0 (es) | 1983-12-01 |
| DE3363336D1 (en) | 1986-06-12 |
| EP0087656A1 (de) | 1983-09-07 |
| DE3206888A1 (de) | 1983-09-15 |
| PT76239A (en) | 1983-03-01 |
| EP0087656B1 (de) | 1986-05-07 |
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