JPH0243089Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0243089Y2 JPH0243089Y2 JP1982162778U JP16277882U JPH0243089Y2 JP H0243089 Y2 JPH0243089 Y2 JP H0243089Y2 JP 1982162778 U JP1982162778 U JP 1982162778U JP 16277882 U JP16277882 U JP 16277882U JP H0243089 Y2 JPH0243089 Y2 JP H0243089Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- scanning
- electron beam
- angle
- aperture
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000005465 channeling Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は走査型電子顕微鏡に関し、特に角度走
査(Angle Scanning)の可能な走査型電子顕微
鏡に関する。
査(Angle Scanning)の可能な走査型電子顕微
鏡に関する。
角度走査と云うのは試料の同一点に電子ビーム
を入射角を変えながら入射させる走査形式で、そ
のとき試料から放射されるX線、2次電子、反射
電子(正確には背面散乱電子と云う方が適切)或
は試料に吸収された電子を検出することにより、
試料の電子線照射点における結晶の方位、格子定
数、結晶の完全さ等の情報が得られる分析手法が
ある。第1図AでSを試料面Bを電子ビーム、O
を試料上の電子線照射点とする。試料面と平行に
xy平面を考え、電子ビームBがこのxy平面を貫
通する点の座標を変えてxy平面を走査すると考
えると、試料面上のO点で電子ビームの入射角が
2次元的に変化する。これが角度走査であつて、
このとき試料面のO点から放射される2次電子、
X線等を検出し、xy平面を電子ビームが切る点
の座標を表示用CRTのxy偏向信号とし2次電子
等の検出信号を輝度変調信号とすると第1図Bの
ようなパターンが形成される。このパターンは
ECP(Electron Channeling Pattern)と呼ばれ、
多数の交又するバンドが見られる。このパターン
から結晶の方位、種類、バンド幅から格子定数、
バンドの縁の乱れとかぼけ具合から結晶の完全さ
が判定できる。
を入射角を変えながら入射させる走査形式で、そ
のとき試料から放射されるX線、2次電子、反射
電子(正確には背面散乱電子と云う方が適切)或
は試料に吸収された電子を検出することにより、
試料の電子線照射点における結晶の方位、格子定
数、結晶の完全さ等の情報が得られる分析手法が
ある。第1図AでSを試料面Bを電子ビーム、O
を試料上の電子線照射点とする。試料面と平行に
xy平面を考え、電子ビームBがこのxy平面を貫
通する点の座標を変えてxy平面を走査すると考
えると、試料面上のO点で電子ビームの入射角が
2次元的に変化する。これが角度走査であつて、
このとき試料面のO点から放射される2次電子、
X線等を検出し、xy平面を電子ビームが切る点
の座標を表示用CRTのxy偏向信号とし2次電子
等の検出信号を輝度変調信号とすると第1図Bの
ようなパターンが形成される。このパターンは
ECP(Electron Channeling Pattern)と呼ばれ、
多数の交又するバンドが見られる。このパターン
から結晶の方位、種類、バンド幅から格子定数、
バンドの縁の乱れとかぼけ具合から結晶の完全さ
が判定できる。
従来走査型電子顕微鏡で上述した角度走査を行
う場合対物レンズ絞りを取外して行う必要があ
り、再び走査型電子顕微鏡として使用できる状態
に復原するには、単に取外した絞りをもとの場所
に取付けると云うだけでなく非常に精密な光軸合
せの調整が必要であるため、BCP手法を実行す
ることは大へん面倒であつた。
う場合対物レンズ絞りを取外して行う必要があ
り、再び走査型電子顕微鏡として使用できる状態
に復原するには、単に取外した絞りをもとの場所
に取付けると云うだけでなく非常に精密な光軸合
せの調整が必要であるため、BCP手法を実行す
ることは大へん面倒であつた。
第2図Aは従来の走査型電子顕微鏡の一般的構
成を示し、Lは対物レンズ、C1,C2は走査コ
イル、Sは試料、Bは電子ビームでFが対物絞り
である。通常の走査型電子顕微鏡の動作では電子
ビームBは絞りFの中心を通るように偏向され
る。第2図Bは同Aにおける絞りFを取外して角
度走査を行つている状態を示し、第2図Cは同B
よりも大きな角範囲の角度走査を行つている状態
で、この場合、対物レンズLは電子ビームBの走
査コイルC1による偏向点dの像を試料面上に形
成するように励磁されている。第2図によつて明
かなように従来の走査型電子顕微鏡では角度走査
を行う場合、絞りFを取外す必要があつて、一つ
の試料について走査型電子顕微鏡による観察から
そのまゝ角度走査に切換えてECP手法を実行す
ると云うようなことが不可能なことは勿論、既述
のように角度走査を行つた後絞りFを復原する作
業が大へん面倒であつた。
成を示し、Lは対物レンズ、C1,C2は走査コ
イル、Sは試料、Bは電子ビームでFが対物絞り
である。通常の走査型電子顕微鏡の動作では電子
ビームBは絞りFの中心を通るように偏向され
る。第2図Bは同Aにおける絞りFを取外して角
度走査を行つている状態を示し、第2図Cは同B
よりも大きな角範囲の角度走査を行つている状態
で、この場合、対物レンズLは電子ビームBの走
査コイルC1による偏向点dの像を試料面上に形
成するように励磁されている。第2図によつて明
かなように従来の走査型電子顕微鏡では角度走査
を行う場合、絞りFを取外す必要があつて、一つ
の試料について走査型電子顕微鏡による観察から
そのまゝ角度走査に切換えてECP手法を実行す
ると云うようなことが不可能なことは勿論、既述
のように角度走査を行つた後絞りFを復原する作
業が大へん面倒であつた。
本考案は通常の走査型電子顕微鏡の走査モード
(面積走査モード)を角度走査モードとの切換え
が簡単にできる電子線走査型分析装置を得ること
を目的とする。
(面積走査モード)を角度走査モードとの切換え
が簡単にできる電子線走査型分析装置を得ること
を目的とする。
本考案は対物絞りを走査コイルより上方に設
け、走査コイルに面積走査信号と角度走査信号を
切換えて供給できるようにした電子線走査型分析
装置を提供するものである。
け、走査コイルに面積走査信号と角度走査信号を
切換えて供給できるようにした電子線走査型分析
装置を提供するものである。
第3図は本考案の一実施例を示す。第3図にお
いて、Φは電子線束、Lは対物レンズ、Sは試料
面である。電子線束Φは上方図外のコンデンサレ
ンズによりO′に収束せしめられ、対物レンズL
はO′点の像を試料面S上のO点に形成する。
O′点に収束している電子線束は2θ′なる拡り角を
持つており、対物絞りによつてこの拡り角を2θに
絞る。そのため通常は対物レンズL内に絞りF′を
配置していた。このF′の絞り開口の半径をaとす
る。本考案はその絞りF′の代りに走査コイルC
1,C2の上方に絞りFを配置した。この絞り開
口半径をbとする。今絞りFと従来の絞り位置
F′との距離をlとすると a−b=ltanθ となるように絞りFの開口半径bを決めれば電子
線束の拡り角を2θに絞ることができ、絞りFの電
子光学的な効果はF′に絞りを置いたのと同じであ
る。第4図は第3図の構成における面積走査モー
ドと角度走査モードを示す。同図Aは面積走査モ
ードであつて、走査コイルC1,C2は電子ビー
ムが対物レンズLの中心を通るように電子ビーム
を偏向させている。同図Bは角度走査モードで走
査コイルC1だけを用い、対物レンズLは電子ビ
ームのコイルC1による偏向点dの像を試料面S
上の一点Oに形成するように励磁してある。第3
図の構成で第2図Bに示すような角度走査モード
を実現することも勿論可能である。
いて、Φは電子線束、Lは対物レンズ、Sは試料
面である。電子線束Φは上方図外のコンデンサレ
ンズによりO′に収束せしめられ、対物レンズL
はO′点の像を試料面S上のO点に形成する。
O′点に収束している電子線束は2θ′なる拡り角を
持つており、対物絞りによつてこの拡り角を2θに
絞る。そのため通常は対物レンズL内に絞りF′を
配置していた。このF′の絞り開口の半径をaとす
る。本考案はその絞りF′の代りに走査コイルC
1,C2の上方に絞りFを配置した。この絞り開
口半径をbとする。今絞りFと従来の絞り位置
F′との距離をlとすると a−b=ltanθ となるように絞りFの開口半径bを決めれば電子
線束の拡り角を2θに絞ることができ、絞りFの電
子光学的な効果はF′に絞りを置いたのと同じであ
る。第4図は第3図の構成における面積走査モー
ドと角度走査モードを示す。同図Aは面積走査モ
ードであつて、走査コイルC1,C2は電子ビー
ムが対物レンズLの中心を通るように電子ビーム
を偏向させている。同図Bは角度走査モードで走
査コイルC1だけを用い、対物レンズLは電子ビ
ームのコイルC1による偏向点dの像を試料面S
上の一点Oに形成するように励磁してある。第3
図の構成で第2図Bに示すような角度走査モード
を実現することも勿論可能である。
本考案電子線走査型分析装置は上述したような
構成で面積走査と角度走査とは単に走査コイルに
供給する走査信号と対物レンズ電流の切換えだけ
で行われるから、切換えはワンタツチで可能であ
り、走査型電子顕微鏡による試料観察から直ちに
ECP手法による分析に切換えることができる特
徴を有し、絞りの着脱、光軸合せ等の煩雑な作業
が全く不要である。
構成で面積走査と角度走査とは単に走査コイルに
供給する走査信号と対物レンズ電流の切換えだけ
で行われるから、切換えはワンタツチで可能であ
り、走査型電子顕微鏡による試料観察から直ちに
ECP手法による分析に切換えることができる特
徴を有し、絞りの着脱、光軸合せ等の煩雑な作業
が全く不要である。
第1図Aは角度走査を説明する斜視図、第1図
Bは角度走査によつて得られるパターン、第2図
Aは従来の走査型電子顕微鏡の要部側面図、第2
図B,Cは上記装置で角度走査を行つている状態
の要部側面図、第3図は本考案の一実施例の要部
側面図、第4図Aは上記装置により面積走査を行
つている状態、同Bは角度走査を行つている状態
の要部側面図である。 C1,C2……走査コイル、L……対物レン
ズ、F……対物絞り、S……試料。
Bは角度走査によつて得られるパターン、第2図
Aは従来の走査型電子顕微鏡の要部側面図、第2
図B,Cは上記装置で角度走査を行つている状態
の要部側面図、第3図は本考案の一実施例の要部
側面図、第4図Aは上記装置により面積走査を行
つている状態、同Bは角度走査を行つている状態
の要部側面図である。 C1,C2……走査コイル、L……対物レン
ズ、F……対物絞り、S……試料。
Claims (1)
- 対物レンズ上方に電子線を偏光させる走査コイ
ルを有する構成で、上記走査コイルの上方に対物
絞りを配置し、上記走査コイルに試料面の一定面
積を走査する走査信号と試料面の一点において電
子線の入射角を2次元的に変化させる走査信号と
が切換え選択して供給できるようにしたことを特
徴とする面積走査角度走査両用電子線走査型分析
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16277882U JPS5966853U (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 面積走査角度走査両用電子線走査型分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16277882U JPS5966853U (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 面積走査角度走査両用電子線走査型分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5966853U JPS5966853U (ja) | 1984-05-04 |
JPH0243089Y2 true JPH0243089Y2 (ja) | 1990-11-16 |
Family
ID=30357355
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16277882U Granted JPS5966853U (ja) | 1982-10-26 | 1982-10-26 | 面積走査角度走査両用電子線走査型分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5966853U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0754677B2 (ja) * | 1987-10-16 | 1995-06-07 | 日本電子株式会社 | X線分析電子顕微鏡 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5481063A (en) * | 1977-12-12 | 1979-06-28 | Jeol Ltd | Electron-beam equipment |
-
1982
- 1982-10-26 JP JP16277882U patent/JPS5966853U/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5481063A (en) * | 1977-12-12 | 1979-06-28 | Jeol Ltd | Electron-beam equipment |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5966853U (ja) | 1984-05-04 |
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