JPH0242712A - 露光装置のアライメント装置 - Google Patents

露光装置のアライメント装置

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JPH0242712A
JPH0242712A JP63192945A JP19294588A JPH0242712A JP H0242712 A JPH0242712 A JP H0242712A JP 63192945 A JP63192945 A JP 63192945A JP 19294588 A JP19294588 A JP 19294588A JP H0242712 A JPH0242712 A JP H0242712A
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JP
Japan
Prior art keywords
alignment
light
alignment mark
projection lens
wavelength
Prior art date
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Pending
Application number
JP63192945A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichiro Kimura
木村 征一郎
Masaru Sugimoto
大 杉本
Shuzo Hattori
服部 秀三
Etsuyuki Uchida
内田 悦行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0242712A publication Critical patent/JPH0242712A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、例えば半導体装置の回路パターン等を製造す
る際に用いられる露光装置のアライメント装置に関する
ものであり、特に原画パターンとefl光体とのアライ
メントを行うアライメント装置の改良に関するものであ
る。
(従来の技術) 従来、この種のアライメンI・装置としては、例えば特
開昭61−203640号公報に記載されているような
ものが知られている。これによると、第8図に概略的に
示すように、第1の物体である原画パターン(レチクル
Aのパターン)を図示しない移動台上に載置された第2
の物体である被露光体(半導体ウエハB)に投影レンズ
Cを介して照射するアライメント用光源(図示省略)を
有する一方、前記半導体ウェハBに形成されたアライメ
ントマークDの反射光をレチクル八に形成された基’l
jl4窓Eを介して検出器Fにより検出する際、該検出
器Fと前記投影レンズCとの間の光路中に色収差補正用
レンズGを挿入するように構成したものが開示されてい
る。
即ち、半導体ウェハBに塗布されたフォトレジストに有
効に感光する露光用光源の光(同図の実線で示す光)と
は別にフオトレジス1・に感光しないアライメント用光
源の光(同図の破線で示す光)を使用しているので、露
光時に両光源の光の波長の相違による色収差、即ちピン
トずれが発生し、アライメント誤差が生ずることから、
色収差補正用レンズGを用い、該露光時のビントずれを
補正する、即ち露光用光源の光の波長によるアライメン
トマークDの結像位置と、アライメント用光源の光の波
長によるアライメントマークの結像位置とを同一位置に
するようにしたものである。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、かかる従来技術の構成によると、光路中
に色収差補正用レンズGを押入する必要があるので、そ
の光学系の構成が複雑でありかつ該光学系の調整が困5
mで時間を要する。
本発明は、かかる従来技術の課題を解決すべくなされた
ものであり、光学系の構成を簡単にし、かつ、高精度の
アライメントを行えるようにした露光装置におけるアラ
イメント装置を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段) 上記目的を達成すべく、本発明は、第1の物体を投影レ
ンズを介して第2の物体に投影するための露光用光源の
光の波長とは異なる波長を有するアライメント用光源の
光を、前記第1の物体及びnij記投影レンズを介して
第2の物体に照射し、前記投影レンズを介して得られる
前記第2の物体の反射光の像を検出することにより前記
両物体のアライメントを行うようにした露光装置のアラ
イメント装置において、前記第lの物体の位置から前記
第2の物体の反射光の結像位置までの距離をαとし、+
)ij記アライメント用光源の光の波長をλとし、回折
格子ピッチをPとし、波長λの入射光に対する回折次数
をmとし、任意の整数をNとしたとき、 の関係が成立する回折格子を各々有する第1のアライメ
ントマークと第2のアライメントマークとを前記第1の
物体と前記第2の物体とに夫々形成し、前記第1のアラ
イメンI・マーク、投影レンズ及び第2のアライメント
マークを経由した前記光のモアレ信号を検出する検出手
段を設け、該検出されたモアレ信号に応じて前記両物体
の少なくとも一力を移動させる移動手段を設けたことを
特徴とする。
(作用) アライメント用光源の光の波長久に対する第1の物体の
位置から第2の物体の反射光の結像位置までの距離Q(
ビン1・ずれ量)を実質補正できる回折格子ビッチPの
第1及び第2のアライメントマークを用いることにより
、前記アライメント用光源の光を第1のアライメントマ
ーク及び投影レンズを介して第2のアラ′イメン1・マ
ークに照射し、前記第1のアライメントマーク、投影レ
ンズ、及びn;j記第2のアライメン1・マークを経由
した前記光のモアレ信号のコントラストビーク値を形成
させ、該ピーク{1αが検出手段により検出されると、
前記高コントラス1・モアレ信号に基づいて両物体が適
正にアライメン1・される。
(実施例) 第1図は本発明に係るアライメン1・装置を備えた露光
装置(例えば第1の物体としてのレチクルのパターンを
投影レンズを介して第2の物体としての半導体ウェハに
投影するステツパ)のアライメント光学系の第l実施例
を示すものであり、同一の光軸Z上には図示しないXY
ステージ(少なくとちXY方向に移動可能な移動手段を
備えている)」二に戟置されたウエハ1、例えば10:
 1の縮小率を有する縮小投影レンズ2、ハーフミラ−
3、図示しないステージ上に載置されたレチクル4、及
びウェハ1に塗布されたフォトレジストに感光しない可
干渉性のあるアライメンI・用光源5(例えばII e
 −N eレーザ光(波長=632.8nm)を射出す
るもの)が上述の順序で配置されている。なお、図示し
ない露光用光源(例えばg線(波長=435.8nm)
を射出するもの)はアライメント用光源5の位置に配置
される。また、前記ハーフミラ−3により前記光軸Zと
略直交する方向に形成された光路」二には結像レンズ6
を介して後述のモアレ信号をオシロスコープによる波形
観察等に用いる検出手段としての検出器7が配置されて
いる。
他方、ウェハ1及びレチクル4の例えば周縁部には第3
図に示すような所定の回折格子ピッチPを有する回折格
子から成る第2及び第1のアライメントマークM2、M
lが夫々形成されており、両アライメントマークM2、
MlがXY力方向各々に−組み宛形成されており(以下
の説明においては一力向(例えばX方向)の組みのみに
つき説明する)、両アライメントマークM2、Mlに所
定の可干渉光を照射すると第4図に示すように両アライ
メントマークM2、M+の一ノjのアライメントマーク
M1を固定した場合の他方のアライメントマークM2の
X方向への移動量に応じて強度が変化するモアレ信号S
mが得られる。
第1のアライメントマークM1と第2のアライメントマ
ークM2とが第3図(a)で示す互いに整合した、即ち
同相の位置関係にあるときにはモアレ信号Smはピーク
値S maxを示し、第3図(b)で示す逆相の位14
関係にあるときにはモアレ信号Smは最小値Sm1nを
示す。
ここで、前記回折格子ピッチPは、第1図に示すように
前記レチクル4の位置、即ち前記レチクル4の前記g線
によるビンl−VK合位置λgから前記ウェハ1からの
前記可干渉光の反射光の結像位置、即ち0;I記しチク
ル4の可干渉光によるピント整合位置λeまでのピント
ずれ爪をαとし、前記アライメント用光源の波長をλと
し、回折光の次数をm (m=±1、±2、・・・・・
・)とし、任意の整数をNとし、回折格子ピッチをPと
したとき、の関係が成立するように決められる。したが
って、予めαの値を実験により求めておき、上記関係を
有する回折格子ピッチPの第1及び第2のアライメント
マークMl1M2をレチクル4、ウェハlに夫々形成し
ておく。
」1記関係が成立すべき理由につきさらに詳述すると以
下のようになる。
第5図に示すように、第1のアライメントマークM1と
第2のアライメントマークM2とが第3図(a)で示す
ような同和の位置関係にある場合、即ち第1のアライメ
ントマークM1と第2のアライメントマークM2の像(
アライメントマーク像M′2)とが同和の位置関係にあ
る場合、モアレ信号のコントラスト 算式から求められる。
即ち、前記回折格子ピッチを[)、アライメントマーク
M1の所定の点Q1から、アライメントマーク像M’2
の所定の点Q2に向かう平行光Leとしての011記可
干渉光の回折角をO、該平行光Leが前記点Q2への入
射に寄与する前記点Q+と点Q+1との間における回折
格子ピッチPの数をNとし、回折次数をmとすると、 1”sinO=m・λ・・・・・・・・・・・・■しa
nO=N−P/Ω,・・・・・・・・・■が成立し、通
常A)Pの関係があり、さらに、θは十分に小さいため sinO#Lan(3・用旧旧・・■ が成立することから、 n]・λ/P=N − P/α・・・・・・・・・・・
・・■即ち、  m= N−P ’ / m・^・・・
・・・・・・■が成立する。なお、Nはir−、負の整
数であるが、点Q1を始点として回折1に子の例えば所
定の配列方向に向かう方向(第5図の下方)に数えた場
合を正とし、その反対側の方向に数えた場合を負として
定める。
換言すれば、アライメンI・マークの像M’2の位置は
、前記モアレ信号Smのコントラストビーク位置である
から(第2図参照)、回折次数mを1とした場合、前記
ピーク位置を中心としてP”/λの周期でモアレ信号の
コントラストのピークが現れる。ここで、モアレ信号S
mのコントラストは(Smax−3min) / (S
max+Smjn)で表される。
したがって、露光用光源の光の波長でのピント位置(第
1図のレチクル4の位置)で、モアレ信号のコントラス
トがピークとなるように、回折格子のピッチを選定すれ
ば(即ちP=〜ρN:P−Σrに選定すれば)、このモ
アレ信号Smのピーク値(Nn、Nn+t、・・・・・
・)を検出することにより、アライメント先としてg線
とは波長の異なる前記可干渉光を用いた場合でもウェハ
Iに対するレチクル4の位置を検出器7を介して高解像
度で検出できる。
次に、上記のように構成された第1実施例によるアライ
メントにつき、各種のパターンを有するレチクル4を順
次同一のウェハl上に重ねて投影する場合を例として説
明する。
まず、ウェハ1をXYステージ上に載置し、所定のパタ
ーンを有するレチクルをステージに載置する。
続いて、アライメンi・用光源5の光、即ち可干渉光を
レチクル4、ハーフミラ−3、投影レンズ2を介してウ
ェハ1に順射し、該ウェハlで反射した光は再び投影レ
ンズ2を通過して、ピント整合位置^eにウェハ像1′
 として結像させる。これにより、第5図に示す第1の
アライメントマークM+とアライメントマーク像M’2
とから、両者の整合位置関係に応じたコントラスト強度
の高いモアレ信号が得られ、検出器7によりコントラス
トの高いモアレ信号が検出できる。検出器7により検出
されたモアレ信号を用い、レチクル4とウェハ1とは適
正にアライメントすることができる。
かかる高コントラストモアレ信号を用いてレチクル4と
ウェハlとをアライメントする技術思想を含むものとし
て、例えば特開昭60−67822号公報に開示された
光学式自動位置決め装置がある。
即ち、第1の物体であるレチクル及び第2の物体である
ウェハのX方向、Y方向の夫々に位置整合するための回
折格子を設け、例えばX軸のみについていえば、第1の
物体と第2の物体とで本明細書の第3図に示すM+、M
2なる関係にある一対の回折格子を2組み設け、該2組
みの位相の一方を位相進み用に、他方を位相遅れ用のモ
アレ信号が創成できるように構成し、前記置物体の整合
時、前記位相進みのモアレ信号と位相遅れのモアレ信号
との差分が零となるべく、位相整合できるようにしたも
のである。
なお、n;J述したように、Y方向についても一対のア
ライメントマークが形成されているが、その構成及び作
用はX方向と同様であるので説明を省略する。
第7図は第2実施例を示すものであり、第1実施例にお
けるアライメント用光源5と検出器7との配置を換えた
ものであり、露光装置の仕様に応じて、例えば検出器7
の位置がレチクル4の上方位置から移動させ難いような
場合に適用できる。
(発明の効果) 以上のように本発明によれば、第1の物体を投影レンズ
を介して第2の物体に投影するための露光用光源の光の
波長とは異なる波長を有するアライメント用光源の光を
、前記第1の物体及び前記投影レンズを介して第2の物
体に照射し、前記投影レンズを介して得られる前記第2
の物体の反射光の像を検出することにより前記置物体の
アライメントを行うようにした露光装置のアライメント
装置において、前記第1の物体の位置から前記第2の物
体の反射光の結像位置までの距離をαとし、前記アライ
メント用光源の光の波長をλとし、回折格子ピッチをP
とし、波長λの入射光に対する回折次数をmとし、任意
の整数をNとしたとき、p=T「肩[70]了 の関係が成立する回折格子を各々有する第1のアライメ
ントマークと第2のアライメントマークとを前記第1の
物体とnii記第2の物体とに夫々形成し、前記第1の
アライメントマーク、投影レンズ及び第2のアライメン
トマークを経由した011記光のモアレ信号を検出する
検出手段を設け、該検出されたモアレ信号に応じて前記
置物体の少なくと4゜ も−力を移動させる移動手段を設ける構成としたので、
モアレ信号のコントラスト強度のピーク値を検出するア
ライメント方式で、高精度のアライメントを行えるのみ
ならず、従前のように調整の困難である色収差補正用レ
ンズのような部材を用いる必要がなくなるから露光装置
間の機差がなくなり高精度のアライメントが行える。ま
た、本発明は従前の構成をそのまま流用できるから、各
種の露光装置に適用できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るアライメント光学系の概略構成図
、第2図は第1図に示すレチクルの位置とモアレ信号コ
ントラストとの関係を示すグラフ、第3図は第1図に示
すレチクル及びウェハに形成されるアライメントマーク
の構成例を示す模式平面図、第4図は第3図に示すアラ
イメントマークの相対ずれ量に対するモアレ信号強度を
示すグラフ、第5図はアライメントマークによる回折を
説明する模式図、第6図はアライメントマークにより得
られるモアレ信号とピント位置との関係を示すグラフ、
第7図は本発明の第2実施例を示すアライメント光学系
の概略構成図、第8図は従来技術を説明するためのアラ
イメント光学系の概略構成図である。 l・・・ウェハ(第2の物体)、1′・・・ウェハ像(
反射光の像)、2・・・縮小投影レンズ、4・・・レチ
クル(第1の物体)、5・・・アライメント用光源、7
・・・検出器(検出手段)、M+・・・第1のアライメ
ントマーク、M’2・・・第2のアライメンI・マーク
の像。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、第1の物体を投影レンズを介して第2の物体に投影
    するための露光用光源の光の波長とは異なる波長を有す
    るアライメント用光源の光を、前記第1の物体及び前記
    投影レンズを介して第2の物体に照射し、前記投影レン
    ズを介して得られる前記第2の物体の反射光の像を検出
    することにより前記両物体のアライメントを行うように
    した露光装置のアライメント装置において、前記第1の
    物体の位置から前記第2の物体の反射光の結像位置まで
    の距離をlとし、前記アライメント用光源の光の波長を
    λとし、回折格子ピッチをPとし、波長λの入射光に対
    する回折次数をmとし、任意の整数をNとしたとき、 P=√(|m|・λ・l/|N|) の関係が成立する回折格子を各々有する第1のアライメ
    ントマークと第2のアライメントマークとを前記第1の
    物体と前記第2の物体とに夫々形成し、前記第1のアラ
    イメントマーク、投影レンズ及び第2のアライメントマ
    ークを経由した前記光のモアレ信号を検出する検出手段
    を設け、該検出されたモアレ信号に応じて前記両物体の
    少なくとも一方を移動させる移動手段を設けたことを特
    徴とする露光装置用アライメント装置。
JP63192945A 1988-08-02 1988-08-02 露光装置のアライメント装置 Pending JPH0242712A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103955124A (zh) * 2014-05-05 2014-07-30 中国科学院微电子研究所 一种光学精密系统的对准装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103955124A (zh) * 2014-05-05 2014-07-30 中国科学院微电子研究所 一种光学精密系统的对准装置

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