JPH0241839B2 - - Google Patents

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JPH0241839B2
JPH0241839B2 JP57184574A JP18457482A JPH0241839B2 JP H0241839 B2 JPH0241839 B2 JP H0241839B2 JP 57184574 A JP57184574 A JP 57184574A JP 18457482 A JP18457482 A JP 18457482A JP H0241839 B2 JPH0241839 B2 JP H0241839B2
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JP57184574A
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/70Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring
    • G11C29/78Masking faults in memories by using spares or by reconfiguring using programmable devices

Landscapes

  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、半導体記憶装置に関する。
従来より、半導体記憶装置においては、その製
造歩留りを向上させるために、欠陥ビツト救済方
式を利用することが考えられている。
欠陥ビツト救済方式を採用するために、例えば
×1ビツト構成(1ビツトのデータを書込み又は
読み出す)の半導体記憶装置には、メモリアレイ
内の不良アドレスを記憶する適当な記憶手段及び
そのアドレス比較回路、並びに冗長回路(予備メ
モリアレイ)のような付加回路が設けられる。
ところが、バイト(×8ビツト)構成の半導体
記憶装置においては、8個(マツト)のメモリア
レイから構成され、カラムアドレスデコーダがデ
ータ線方向の対して密集して形成されので、不良
データ線を冗長用データ線に切り替える場合、冗
長用デコーダを設けることが非現実的となる。
したがつて、レーザー光線による微細加工技術
により、不良データ線から冗長データ線へ配線そ
のものを切り替えるようにしている。
このように、レーザー光線による配線の切り替
えには、そのための高価な設備が必要となつて、
半導体記憶装置のコストを高くするとともに、テ
スト効率が悪くなる。
この発明の目的は、コストの低減を図つた半導
体記憶装置を提供することにある。
この発明の他の目的は、以下の説明及び図面か
ら明らかになるであろう。
以下、この発明を実施例とともに詳細に説明す
る。
第1図には、この発明の一実施例のMOSスタ
テイツク型RAM(ランダム アクセス メモリ)
のブロツク図が示されている。
同図は、特に制限されないが、出力が8ビツト
のS−RAM集積回路(以下、ICと称する)の内
部構成を示している。
この実施例では、特に制限されないが、メモリ
アレイは、M−ARY1,M−ARY2のように左
右2つに分けて配置されている。
そして、各メモリアレイM−ARY1,M−
ARY2において、8本の相補データ線対が一組
とされ、同図においては縦方向に向かうよう形成
されている。
すなわち、従来のようにメモリアレイを8ブロ
ツク(マツト)に分けて構成するのではなく、8
ビツトのデータは、同一のメモリアレイ内の互い
に隣合う8本の相補データ線対に対して、1つの
アドレスが割り当てられ、同図では横方向に順に
配置される。
一方、ロウ系アドレス選択線(ワード線)は、
上記各メモリアレイM−ARY1,M−ARY2に
対して共通に横方向に向かうよう形成され、同図
では縦方向に順に配置される。
上記相補データ線対は、カラムスイツチC−
SW1,C−SW2を介して8本の共通相補デー
タ線対に選択的に接続される。同図おいては、上
記共通相補データ線対は横方向に走つている。
ロウアドレスバツフアR−ADBは、外部端子
からのmビツトのアドレス信号RADを受け、内
部相補アドレス信号0〜mを形成して、ロウ
アドレスデコーダ、ドライバR−DCR,DRVに
送出する。
ロウアドレスデコーダ、ドライバR−DCR,
DRVは、上記アドレス信号0〜mに従つて
1本のワード線を選択する。
カラムアドレスバツフアC−ADBは、外部端
子からのnビツトのアドレス信号CADを受け、
内部相補アドレス信号0〜nを形成して、カ
ラムアドレスデコーダC−DCRに送出する。
カラムアドレスデコーダC−DCRは、上記ア
ドレス信号0〜nに従つて8本の相補データ
線対を選択する選択信号を形成する。
カラムスイツチC−SW1,C−SW2は、上
記選択信号を受け、上記8本の相補データ線対を
対応する8本の共通粗補データ対に接続する。
なお、同図では、上記相補データ線対及び共通
相補データ線対は、1本の線により現している。
入出力回路I/Oは、読み出しのためのセンス
アンプ、メインアンプ及びデータ出力バツフア
と、書込みのためのデータ入力バツフアとにより
構成されている。
内部制御信号発生回路TGは、2つの外部制御
信号(チツプセレクト信号)、(ライトイ
ネーブル信号)を受けて、ロウデコーダ制御信
号、センスアンプ制御信号、書込み制御信号、デ
ータ入力バツフア制御信号等を送出する。
この実施例では、上記メモリアレイM−ARY
1,M−ARAY2に冗長用のメモリアレイR−
ARY1,R−ARY2がそれぞれ設けられてい
る。そして、不良アドレス信号を記憶するアドレ
ス記憶手段と、この不良アドレス信号とデータ線
選択アドレス信号とを比較して記憶された不良ア
ドレスが選択されたことを検出するカラムアドレ
ス比較回路とからなるアドレスコンペアACが設
けられる。
このアドレスコンペアACは、不良アドレスの
選択を検出して、不良データ線の選択動作を禁止
するとともに、上記冗長用データ線選択動作に切
り替える。
第2図には、上記アドレスコンペアACの一実
施例の回路図が示されている。
上記1組のアドレスコンペアは、アドレス信号
のビツト数(n)に応じた数だけの不良アドレス
の記憶回路及びアドレス比較回路と、1つのイネ
ーブル回路とにより構成される。
同図には、代表として示された1つの不良アド
レスの記憶回路及びアドレス比較回路と、1つの
イネーブル回路とが示されている。
端子P1〜P4は、不良アドレスを書込むため
のプログラム用電圧供給端子であり、所定の不良
アドレスを書込むときに、端子P1,P3には電
源電圧Vccが与えられ、端子P2,P4には回路
の接地電位が与えられる。
上記イネーブル回路は、次の各回路素子により
構成される。
負荷MOSFETQ2と駆動MOSFETQ1とはイ
ンバータを構成し、負荷MOSFETQ2のドレイ
ン、ゲートは、端子P3に接続される。このイン
バータの出力は、ヒユーズF1を溶断させる駆動
MOSFETQ3のゲートに接続される。この
MOSFETQ3のドレインと端子P1との間にヒ
ユーズF1が設けられ、そのソースは端子P2に
接続される。また、上記MOSFETQ1のゲート
は、端子P4に接続される。上記端子P4と電源
電圧Vccの間には抵抗R1が設けられている。上
記ヒユーズF1は、特に制限されないが、ポリシ
リコンによつて構成されている。所定の不良アド
レスを書込むときに、端子P1,P3には電源電
圧Vccが与えられ、端子P2,P4には回路の接
地電位が与えられるのでヒユーズF1を溶断させ
る駆動MOSFETQ3がオンして、自動的にヒユ
ーズF1を溶断させる。
このヒユーズF1が溶断しているか否かを判別
するために、次のCMOSインバータ及びラツチ
回路が設けられている。
PチヤンネルMOSFETQ7,Q8と、nチヤ
ンネルMOSFETQ9,Q10とはCMOSナンド
ゲート回路を構成する。pチヤンネル
MOSFETQ11,Q12と、nチヤンネル
MOSFETQ13,Q14とはCMOSナンドケー
ト回路を構成する。これら2つのナンドゲート回
路の出力と一方の入力とが互いに交差結線される
ことによりラツチ回路が構成される。
上記MOSFETQ3のドレイン出力は、pチヤ
ンネルMOSFETQ5とnチヤンネルMOSFETQ
6とで構成されたCMOSインバータの入力と上
記ラツチ回路を構成する一方のナンドゲートの他
方の入力であるMOSFETQ7,Q9のゲートに
伝えられる。そして、上記CMOSインバータの
出力は、上記ラツチ回路を構成する他方のナンド
ゲートの他方の入力であるMOSFETQ12,Q
14のゲートと上記駆動MOSFETQ3に並列形
態とされたMOSFETQ4のゲートに伝えられる。
そして、上記他方のナンドゲートの出力がpチ
ヤンネルMOSFETQ15とnチヤンネル
MOSFETQ16とで構成されたCMOSインバー
タを通してイネーブル信号φkが出力される。
不良アドレスの記憶回路及びアドレス比較回路
は、次の各回路素子によつて構成される。
不良アドレスの記憶回路は、上記イネーブル回
路と同様なMOSFETQ17ないしQ19及びヒ
ユーズF2と、例えばアドレス信号a0を受け、
上記駆動MOSFETQ18に並列形態とされた
MOSFETQ20とにより構成される。
所定の不良アドレスを書込むときに、上記同様
に端子P1,P3には電源電圧Vccが与えられ、
端子P2,P4には回路の接地電位が与えられ
る。そして、不良アドレス信号a0を受ける
MOSFETQ20が設けられており、書込むべき
不良アドレス信号a0がハイレベルなら
MOSFETQ20がオンするので、上記駆動
MOSFETQ19をオフさせてヒユーズF2を溶
断させない、ロウレベルならMOSFETQ20が
オフするので、上記駆動MOSFETQ19をオン
させてヒユーズF2を溶断させる。
そして、このヒユーズF2が溶断しているか否
かを判別するために、上記同様なCMOSインバ
ータ及びラツチ回路が設けられている。pチヤン
ネルMOSFETQ22、nチヤンネルQ23が
CMOSインバータを構成し、pチヤンネル
MOSFETQ24,Q25及びQ28,Q29と、
nチヤンネルMOSFETQ26,Q27及びQ3
0,Q31がCMOSラツチ回路を構成する。
アドレス比較回路は、直列形態とされたpチヤ
ンネルMOSFETQ32,Q33とnチヤンネル
MOSFETQ34,Q35及び直列形態とされた
pチヤンネルMOSFETQ36,Q37とnチヤ
ンネルMOSFETQ38,Q39と、CMOSイン
バータIV2とにより構成される。
上記MOSFETQ33,Q34のゲートには、
上記アドレス信号a0が印加され、これと対応す
るMOSFETQ37,Q38のゲートには、上記
アドレス信号a0がインバータIV2により反転
されて印加される。また、CMOSラツチ回路に
より判別された不良アドレス信号a0,a0が上
記MOSFETQ32,Q39及びQ35,Q36
のように、pチヤンネルMOSFETとnチヤンネ
ルMOSFETに対して交差して印加される。
今、不良アドレスとして、アドレス信号a0を
ハイレベル(論理1)を記憶させた場合、ヒユー
ズF2は溶断されないので、CMOSラツチ回路
の出力a0はハイレベル、a0はロウレベルとな
つている。したがつて、nチヤンネル
MOSFETQ38とpチヤンネルMOSFETQ36
とがオンしている。
そして、メモリアクセスにより入力されたアド
レス信号a0がロウレベルならpチヤンネル
MOSFETQ33をオンさせ、インバータIV2で
反転されたa0のハイレベルによりnチヤンネル
MOSFETQ38をオンさせる。
このように、両アドレス信号が不一致のときに
は、上記オンしているnチヤンネルMOSFETQ
38,Q39とにより出力ac0をロウレベル
(論理0)にする。
一方、メモリアクセスにより入力されたアドレ
ス信号a0がハイレベルならnチヤンネル
MOSFETQ34をオンさせ、インバータIV2で
反転されたa0のロウレベルによりpチヤンネル
MOSFETQ37をオンさせる。
このように、両アドレス信号が一致していると
きには、上記オンしているpチヤンネル
MOSFETQ36,Q37とにより出力ac0をハ
イレベル(論理1)にする。
アドレス信号の全ビツトについて、上記ハイレ
ベル(論理1)の一致出力ac0〜aonと、イネー
ブル信号φkの論理1とが得られたとき、論理和
回路(図示せず)の出力により、冗長メモリアレ
イに切り換える信号が形成される。
なお、イネーブル信号φkは、不良メモリアレ
イの選択を禁止するため、カラムアドレスデコー
ダC−DCR1,C−DCR2の選択動作をを禁止
するためにもちいられる。
また、イネーブル信号φkは、その論理0出力
により上記冗長メモリアレイへの切り換え信号を
禁止する。これは、不良メモリアレイが無いとき
でも、ac0〜acnを全て論理1とするアドレス指
定に対して上記冗長メモリアレイへの切り換えを
禁止する。
この実施例では、上記アドレスコンペアACが
実質的なアドレス選択動作を行うことを利用して
上記論理和回路の出力を第1図に示すように冗長
用の相補データ線対選択信号として用いている。
この実施例では、冗長用メモリアレイへの切り
替えをヒユーズ手段を用いて行うことができるの
で、テスト効率及びコスト低減を図ることができ
る。
また、互いに隣接する複数のワード線を1つの
論理ゲート回路で構成されたアドレスデコーダ回
路で選択するので複数のワード線の配列ピツチ
と、上記比較的大きな面積を有する横方向の配列
間隔(ピツチ)とを2段に分割することなく合わ
せることができ、ICチツプ内で無駄な空白部分
が生じない。
この発明は、前記実施例に限定されない。
上記冗長用メモリアレイは、ワード線方向につ
いても設けるものであつてもよい。
この発明は、前記スタテイツク型RAMの他、
複数ビツトのデータを読み出し又は書込み/読み
出しを行うROM,RAMに広く利用することが
できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例を示すブロツク
図、第2図は、そのアドレスコンペアの一実施例
を示す回路図である。 M−ARY1,MARY2……メモリアレイ、R
−ARY1,R−ARY2……冗長用メモリアレ
イ、R−ADB……ロウアドレスバツフア、C−
ADB……カラムアドレスバツフア、R−DCR,
DRV……ロウアドレスデコーダ、ドライバ、C
−DCR1,C−DCR2……カラムアドレスデコ
ーダ、I/O……入出力回路、TG……内部制御
信号発生回路、AC……アドレスコンペア。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 並列形態に複数ビツトのデータの読み出しお
    よび書込みを行う半導体記憶装置において、メモ
    リアレイを構成し1つのアドレスが割当てられ互
    いに隣接する複数のデータ線と、上記複数のデー
    タ線を同時に対応する共通データ線に結合させる
    カラムスイツチと、上記カラムスイツチを選択す
    るカラムデコーダと、冗長用データ線を含む冗長
    用メモリアレイと、該冗長用データ線を上記共通
    データ線に結合させる冗長データ線選択回路と、
    不良アドレスを記憶するアドレス記憶手段と、上
    記不良アドレスとデータ線選択アドレスとを比較
    して記憶された不良アドレスが選択されたことを
    検出するアドレス比較回路とを設け、該アドレス
    比較回路の出力により不良データ線の選択動作を
    禁止して、上記冗長データ線選択回路を動作させ
    ることを特徴とする半導体記憶装置。 2 上記冗長用メモリアレイは、1つのアドレス
    が割当てられ互いに隣接する複数の冗長用データ
    線からなり、該複数のデータ線を同時に対応する
    共通データ線に結合させることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 3 上記不良アドレスを記憶するアドレス記憶手
    段は、半導体集積回路に形成されたヒユーズ手段
    を溶断させるか否かにより、不良アドレスの書込
    み及び記憶を行うものであることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項乃至第2項記載の半導体記憶
    装置。 4 上記ヒユーズ手段は、ポリシリコン層により
    形成されるものであることを特徴とする特許請求
    の範囲第3項記載の半導体記憶装置。 5 上記複数のビツトは、8ビツトであることを
    特徴とする特許請求の範囲第1項乃至第4項記載
    の半導体記憶装置。
JP57184574A 1982-10-22 1982-10-22 半導体記憶装置 Granted JPS5975497A (ja)

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JP57184574A JPS5975497A (ja) 1982-10-22 1982-10-22 半導体記憶装置

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JPS5975497A JPS5975497A (ja) 1984-04-28
JPH0241839B2 true JPH0241839B2 (ja) 1990-09-19

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0670880B2 (ja) * 1983-01-21 1994-09-07 株式会社日立マイコンシステム 半導体記憶装置
JPH0666120B2 (ja) * 1983-11-09 1994-08-24 株式会社東芝 半導体記憶装置の冗長部
JPH08258Y2 (ja) * 1992-12-28 1996-01-10 岐阜プラスチック工業株式会社 折り畳みコンテナ

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JPS5975497A (ja) 1984-04-28

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