JPH0241819A - 電解加工機の電解液処理タンク - Google Patents

電解加工機の電解液処理タンク

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JPH0241819A
JPH0241819A JP19303488A JP19303488A JPH0241819A JP H0241819 A JPH0241819 A JP H0241819A JP 19303488 A JP19303488 A JP 19303488A JP 19303488 A JP19303488 A JP 19303488A JP H0241819 A JPH0241819 A JP H0241819A
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JP
Japan
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tank
electrolytic solution
electrolyte
supplied
processing
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JP19303488A
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English (en)
Inventor
Teruo Asaoka
浅岡 輝雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shizuoka Seiki Co Ltd
Original Assignee
Shizuoka Seiki Co Ltd
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Publication date
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  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、電解加工機の電解液処理タンクに係り、特
に電解液中に含まれる加工屑等を簡単かつ確実に回収し
得る電解液処理タンクに関する。
[従来の技術] 従来の電解加工機の電解液処理タンクとしては、例えば
特開昭58−165925号公報に開示の如く、電解液
タンクの底面から上方位置に断面逆V字状の隔離体を複
数個並設するとともに、前記隔離体間に隙間を形成し、
電解作用によって溶出した電解液中の溶出物を前記隔離
体の傾斜面に沿って沈降させるとともに、前記隙間を通
して前記タンクの底部に沈降させ、前記隔離体の上部の
電解液と各隔離体の下部の溶出沈殿物とを分離させ、前
記タンクの底面から溶出沈殿物を回収するものが知られ
ている。
[発明が解決しようとする課題] ところで、この電解液処理タンクにあっては、タンクの
底部に加工屑等の溶出物が単に沈降堆積する構成である
ため、特に、静止した電解液中で仕上げ加工する電解仕
上げ加工装置(特願昭62−27612号参照)のよう
とこ、溶出物か極めて微小溶出物である場合、この溶出
物をタンクの底部に設けた回収孔から回収分離する際に
、回収孔近辺の溶出物は回収されるものの、回収孔から
遠い底部に堆積し・た溶出物が回収されにくく、これを
回収するためには、回収装置に大型の装置か必要となる
という不都合があった。
また、加工槽からの汚染した電解液の戻り口が隔廂体上
方のタンク内に配設されているため、戻り液によりタン
ク内の電解液が撹拌され、溶出物の沈降に時間がかかり
、清浄な電解液が容易に得られないという不都合があっ
た。
そこで、この発明の目的は、電解液中の加工屑等を小型
の繕過装萱て簡単かつ確実に回収し得る電解加工機の電
解液処理タンクを実現するにあり、また、加工屑等を短
時間に分離させ得て、清浄な電解液が容易に得られる電
解加工機の電解液処理タンクを実現するにある。
口課題を解決するための手段] この目的を達成するためにこの出願の第1の発明は、濾
過装置に電解液を供給するためにタンクの一側面に設け
られ下部が該タンクの底部に連通ずる吸込部と、前記濾
過装置で濾過した電解液をタンクに返戻するために前記
吸込部と相対向する位置に設けられ下部が前記底部に連
通ずる供給部と、前記タンクの底面から上方に所定距離
を有して設けられ、前記底部からの電解液の流れを規制
する規制部材とを具備することを特徴とし、また、この
出願の第2の発明は、前記吸込部に加工槽からの電解液
の戻り口を配設したことを特徴とする。
C作用コ この出願の第1の発明の構成によれば、タンクの相対向
する位置に設けた吸込部と供給部とに濾過装置を接続し
、タンク底部に電解液の緩やかな流れを発生させるとと
もに、タンクの底面から所定距離隔てた上方に、底部か
らの電解液の流れを規制する規制部材を設けたので、タ
ンク上層部から規制部材を通って沈降してくる電解液中
の加工屑等をこの流れに混入させ、遠心分能機等のJ、
!過装置に供給して濾過する。したがって、加工屑等か
ダーティタンクの底部に沈殿堆積することがなく、小容
量の濾過装置で回収することができる。
また、第2の発明の構成によれば、加工槽からの汚染さ
れた電解液の戻り口を吸込部に配設したので、戻り液が
タンク上層部の電解液を攪拌することがなく、加工屑等
を短時間に沈降させて、上Jfi部に略清浄な電解液を
貯留することができる。
[実施例] 以下この発明の実施例を詳細かつ具体的に説明する。
第1〜4図はこの発明の一実施例を示す。第1図おいて
、電解仕上げ加工機1は、ii電極を固定する電極固定
装置3、ワーク4を固定するワーク固定装置5、電極2
を上下動させワーク4と三次元方向に−様な間隙6を維
持する電極駆動装置7、電極2及びワーク4等を収容す
る加工槽8、電解液を処理する電解液処理装置9等から
なる。 前記電解液処理装置9は、第2図に示す如く、
加工槽8の電解液がオーバーフロー管10及び排出用の
電磁弁11を介して供給されるダーティタンク12と、
このダーティタンク12の電解液を後述する吸込部13
から汲み上げて遠心分離処理するとともに、この分離処
理した電解液を、該タンク12の供給部14に供給する
遠心分離8115と、ダーティタンク12の上層部12
bの電解液が排出孔16を介して供給されるクリーンタ
ンク17と、このクリーンタンク17の電解液をポンプ
18によって汲み上げて濾過するとともに、濾過した電
解液を再び該タンク17に供給するフィルタ19と、ク
リーンタンク17の清浄な電解液を汲み上げて電磁弁2
0.21を介して加工槽8に供給するボン122等から
なる。
前記ダーティタンク12は上面が開口した箱型に形成さ
れ、相対向する隅部23.24(第3図参照)には、下
端が該タンク12の底面12aと所定の間隙を有する仕
切板25.26を配設することにより、下部がタンク1
2の底面12a部にそれぞれ連通する前記吸込部13と
供給部14とを形成する。この吸込部13の底部には、
前記遠心倍煎機15の吸込口27を配設するとともに、
この吸込口27近傍に加工槽8からの電解液の戻り口2
8を配設する。また、前記供紛部14の底部には、遠心
分離機15の供給口29を配設する。
一方、ダーティタンク12の底面12aから所定路離隔
てた上方には規制部材30を配設する。この規制部材3
0は、例えば、第4図に示すように、断面逆V字状の長
尺状の部材31a〜31n、32a〜32n、33a〜
33nを所定の間隙りを有して複数個並設するとともに
、これらを複数段A−C積み重ねたもので構成され、平
面視て網目状を呈する。なお、前記部材31a〜31n
、32a〜32n、33a〜33nの頂部の角度θは、
90〜110度程度以内に設定すれば、上層部12bか
らの加工屑の沈降を妨げず、かつ底面12a部からの電
解液の流れを規制して一箇所に集中させるこなく分散さ
せることが実験によって確認されている。
そして、このダーティタンク12の底面12a部には、
前記遠心分離機15の作動により、電解液の流れが生成
される。即ち、遠心分離機15か作動すると、吸込口2
7からタンク12の底面12b部の電解液を汲み上げて
遠心分離処理するとともに、この分離処理した電解液を
前記吸込部13と相対向する位置に設けた供給部14か
ら底面12a部に供給し、規制部材30により上層部1
2bへの流れが規制されながら、第3図矢印に示す電解
液の緩やかな流れが底面12aを這うように生成される
前記クリーンタンク17は、ダーティタンク12の側壁
12cに一体に形成され、前記側壁12cの隅部には、
その下端がクリーンタンク17の底面17aから所定距
離を有する仕切板34を設け、前記ポンプ18の吸込部
35を形成する。この吸込部35の底部には前記ポンプ
18の吸込口36を設けるとともに、その上縁で前記ダ
ーティタンク12の側壁12cには前記排出孔16を設
ける。このダーティタンク12とクリーンタンク17は
、第1図に示すように、加工槽8の下部空間部に収納配
置される。
前記フィルタ19は、前記ポンプ18て汲み上げた電解
液を濾過し、この濾過した電解液をクリーンタンク17
に再び戻すもので、該タンク17の電解液を、タンク1
7→ポンプ18→フイルタ19→タンク17と循環させ
ながら濾過する。この濾過された電解液は、ポンプ22
によって汲み上げられ、加工開始時等に動作する電磁弁
20を介して加工槽8に供給されるとともに、電極2の
上昇動作と同期して間欠的に動作する電磁弁21により
、ノズル37を介して電極2とワーク4との間隙6に噴
出される。
次にこの発明の作用について説明する。
まず、加工開始に当たり、ダーティタンクI2には所定
量の電解液が供給されており、電解液処理装置9が作動
すると、前記遠心分離機15か作動して、吸込部13か
らダーティタンク12の電解液を汲み上げて遠心分離処
理するとともに、供給部14に分離処理した電解液を供
給する。これにより、ダーティタンク12の底面12a
部に電解液の緩やかな流れが発生する。この場合、底面
12a部を流れる電解液は、その流れが緩やかであると
ともに、規制部材30によって上層部12bへの流れが
規制(例えば分散)されるため、上層部12bまて電解
液の流れが侵入せず、上層部12bの電解液は略静止し
た状態を維持する。
この状態で、前記電磁弁20を作動させて、電極2とワ
ーク4が所定間隙6て対向配置した加工槽8に電解液を
供給し、間隙6の電解液が静止し・たら電極2とワーク
4の極間に単一のパルス電流を供給する。このパルス電
流がオフした後電極2を上昇させるとともに、前記電磁
弁21を作動させてノズル37から間隙6に電解液を噴
出して間隙6の加工屑等を排除する。
この加工が行われると、加工槽8の加工屑等を含んだ電
解液は、前記ノズル37によって供給される量だけ、オ
ーバーフロー管10を介してダーティタンク12の吸込
部13に供給されて、戻り口28の近傍に設けた吸込口
27を介して遠心分離機15に供給される。なお、この
場合、戻り口28から供給される電解液が、タンク12
の底面12a部に侵入しても、戻り口28が上層部12
bと規制部材30によって分離されているため、戻り液
の流れが規制部材30の上方まで侵入し、上層部12b
の電解液を急激に攪拌することがなく、上層部12bの
電解液は略静止した状態を維持して、加工屑等の沈降を
妨げることはない。
そして、ダーティタンク12に供給される電解液の量に
応じて、該タンク12の上層部+2bの略清浄な電解液
が、前記排出孔16からクリーンタンク17の吸込部3
5に排出(オーバーフロー)される。このクリーンタン
ク17の電解液は、前記ポンプ18によって汲み上げら
れ、フィルタ19を通してから再Uクリーンタンク17
に戻される。また、クリーンタンク17の清浄な電解液
は、電磁弁21の作動により電極2とワーク4との間隙
6に間欠的に供給されて仕上げ加工が継続される。
なお、加工中においては、遠心分離機15の作動により
、ダーティタンク12の底面12a部に電解液の流れが
発生し、底面12a部には加工屑等が沈殿堆積すること
はないが、例えば前回の加工後に、電解液濾過装置9等
が所定時間休止していた場合等には、休止時間中に、ダ
ーティタンク12の上部の電解液中に含まれる加工屑等
(前回の加工時に遠心分離機15によって除去されなか
ったもの)が該タンク12の底面12a部に沈殿堆積す
るが、その塁はtUtであり、次の加工開始時の遠心分
離機15の作動による電解液の流れによって十分に排除
できる。
このようにこの発明にあっては、ダーティタンク12内
の電解液中の加工屑が、該タンク12の上層部12bか
ら規制部材30の斜面及び間隙を経て底面12a部に沈
降し、底面12a部に生成され、上層部12bへの侵入
が規制されている電解液の流れに混入して、遠心分離機
15に供給されるため、加工屑が底面12a部に沈殿堆
積することがなく、小容量の遠心分離機15により容易
に回収分離される。
また、加工屑等の除去を遠心分離機15によって行うた
め、フィルタ19の汚れが少なく該フィルタ19の交換
頻度を少なくすることができるとともに、遠心分離機1
5の保守作業も容易に行うことができる。
さらに、加工槽8から供給される汚染した電解液の戻り
口28及び遠心分離機15からの供給口29を、ダーテ
ィタンク12の上層部12bと直接連通していない吸込
部13及び供給部14に配設するとともに、戻り口28
及び供給口29が上層部12bと規制部材30によって
分離されているため、上層部+2bの電解液の攪拌を抑
えることができて、その電解液を略静止状態に保ち、加
工屑等の沈降時間を短縮させ、電解液の清浄性を向上さ
せることができる。
なお、上記、実施例においては、規制部材30を断面逆
V字状の長尺部材で構成したが、この発明はこれに何ら
限定されず、例えば、金属もしくは布製の網、スポンジ
等、加工屑の沈降を妨げず、電解ン夜の流れを一箇所に
集中させないように規制する適宜の部材もしくは装置を
使用することもてきる。
また、上記実施例においては、ダーティタンク12の吸
込部13と供給部14をタンク12の相対向する隅部2
3.24に設けたか、例えば吸込部13と供給部14を
タンク12の前後壁12d、12eもしくは左右側壁1
2c、12fの中央部等の適宜位置に設けて、電解液の
流れを発生させるようにしてもよく、また、戻り口28
及び供給口29の配設位置も底部に限らず、電解液の流
れが上層部12bまて侵入しない、吸込部13及び供給
部14の適宜の高さ位置に設けてもよいし、ダーティタ
ンク12からの排出孔16も側壁12Cの中央部等適宜
の位置に配設し得る。
さらに、上記実施例においては、遠心分子1l15に、
電解液の流れを発生させる手段と加工屑等を濾過する手
段とを兼用させたが、例えは、電解液の流れを発生させ
る手段としてポンプ等を使用し、これに加工屑を濾過す
る手段としての重力型濾過機等の適宜の濾過装置を直列
接続して使用することもてきる。
[発明の効果] この発明は上述の通りに構成したので、次に記載する効
果を奏する。
(第1の発明) ■ ダーティタンクの底部に濾過装置によって電解液の
緩やかな流れを発生させ、沈降する加工屑等をこの流れ
に混入させるため、タンクの底部に加工屑等が沈殿堆積
することがなく、電解液中の加工屑を簡単かつ確実に回
収し得る。
■ クリーンタンクの電解液を濾過するフィルタの交換
頻度を少なくすることができる。
■ 回収装置としては例えは小容量の遠心分離機のみて
よく、装置が大型化することがないとともに、加工屑等
の回収作業等、保守作業が容易となる。
(第2の発明) ■ 加工槽からの戻り口をタンクの上層部と直接連通し
ない吸込部に配設しているため、タンク上層部の電解液
が攪拌されることなく、加工屑等の沈降時間を短縮させ
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明に係る電解液処理タンクを適用した電
解仕上げ加工機の正面図、第2図は同きの概略構成図、
第3図はダーティタンクの平面図、第4図は規制部材の
斜視図である。 8・・加工槽、  ・9・・・電解液処理装置、12・
・ダーティタンク、 12a・・・底面、+2b ・・
上層部、    13・・・吸込部、14・・供給部、
    15・・・遠心分離機、17・・クリーンタン
ク、19・・・フィルタ、28・・戻り口、     
30・・・規制部材。 第 2図 第1121 第3m 72C24¥−2672e 第40

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次の構成を具備する電解加工機の電解液処理タン
    ク。 A、濾過装置に供給する電解液を汲み上げるためにタン
    クの一側面に設けられ下部が該タンクの底部に連通する
    吸込部、 B、前記濾過装置で濾過した電解液を前記タンクに返戻
    するために前記吸込部と相対向する位置に設けられ下部
    が前記底部に連通する供給部、C、前記タンクの底面か
    ら上方に所定距離を有して設けられ、前記底部からの電
    解液の流れを規制する規制部材。
  2. (2)前記吸込部に加工槽からの電解液の戻り口を配設
    した請求項1記載の電解加工機の電解液処理タンク。
JP19303488A 1988-08-02 1988-08-02 電解加工機の電解液処理タンク Pending JPH0241819A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1584394A3 (en) * 2004-03-30 2005-12-21 General Electric Company Flushing and filtering system for electroerosion machining

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1584394A3 (en) * 2004-03-30 2005-12-21 General Electric Company Flushing and filtering system for electroerosion machining

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