JPH0240599A - 多層膜反射鏡 - Google Patents

多層膜反射鏡

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JPH0240599A
JPH0240599A JP63189640A JP18964088A JPH0240599A JP H0240599 A JPH0240599 A JP H0240599A JP 63189640 A JP63189640 A JP 63189640A JP 18964088 A JP18964088 A JP 18964088A JP H0240599 A JPH0240599 A JP H0240599A
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JP
Japan
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nickel
vanadium
multilayer film
reflecting mirror
refractive index
Prior art date
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Pending
Application number
JP63189640A
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English (en)
Inventor
Katsuhiko Murakami
勝彦 村上
Hiroshi Nakamura
浩 中村
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、軟X線領域で用いられる多層膜反射鏡、特に
、生体観察用の軟X線顕微鏡に好適な多層膜反射鏡に関
するものである。
[従来の技術] X線領域では物質の屈折率は n=1−δ−ik  (δ、に:実数)  ・(1)と
表わされ、δ、にともに1に比べて非常に小さい。(屈
折率の虚部にはX線の吸収を表わす。)そのため可視光
領域のような屈折を利用したレンズは使用できない。
そこで、反射を利用した光学系が用いられるが、全反射
臨界角θC(波長25人で5°程度以下)よりも垂直に
近い入射角では反射率が非常に小さいので、界面の振幅
反射率の高い物質の組合せを何層も積層することにより
、反射面を多数(例えば数百層も)設けて、それぞれの
反射波の位相が合うように光学干渉理論に基づいて各層
の厚さを調整した多層膜反射鏡が用いられる。
より具体的に説明すれば、多層膜反射鏡は、使用X線波
長での屈折率と真空の屈折率(=1)との差が小さい物
質と、差の大きい物質とを交互に積層することによって
得られ、その代表例としてW(タングステン)/C(炭
素)、Mo(モリブデン)/St(シリコン)などの組
合わせが従来から知られており、スパッタリング・真空
蒸着・CvDなどの薄膜形成技術によって形成されてい
た。
[発明が解決しようとする課題] ところで、軟X線顕微鏡で生体観察を行う場合に使用す
るX線の波長は、第3図に示すようにタンパク質と水と
の吸収係数の差の大きい領域、即ち、酸素のに吸収端(
23人)と炭素のに吸収端(44人)の間の領域が用い
られる。(なお、なるべく厚い試料まで観察できるよう
に、吸収係数の小さい酸素の吸収端近傍の25人の波長
がより好ましい。) しかし、I欣X線領域(波長25人〜250人)で従来
用いられているW(タングステン)/C(炭素)やMo
(モリブデン) /St (シリコン)の組合わせの多
層膜反射鏡では、低い反射率(波長25人て10%程度
)しか得られず、実用に適さない。他方、Niにニッケ
ル)/Be(ベリリウム)の組合わせが高い反射率(3
0%程度)が得られることが従来から知られているが、
ベリリウムの粉末には強い毒性があり、製造工程上、人
体に重大な危険性を及ぼすという問題点があった。
こうした中で、最近、バナジウムの吸収端波長の長波長
側(24,25人)近傍で、前述したδ、にの値が急激
に小さくなることを利用した多層膜反射鏡として、旧に
ニッケル)/V(バナジウム)の組合わせが提案され(
永田ら、 1987年秋季応用物理学会連合講演会 講
演番号20P−G−7) 、波長25人で約30%の反
射率が得られている。しかしながら、多層膜反射鏡を軟
X線顕微鏡等の反射光学系として使用する場合、これで
も十分満足できる性能とはいえず、さらに高反射率の多
層膜反射鏡が切望されていた。
本発明は、この様な問題点に鑑みてなされたもので、従
来にない高い反射率を有する軟X線用の多”層膜反射鏡
をt是供することを目的とするものである。
[課題を解決するための手段〕 この発明では、軟X線領域での屈折率と真空の屈折率(
=、1)との差が小さい物質と大きい物質とを交互に積
層してなる多層膜反射鏡において、屈折率の差が小さい
物質として、酸化バナジウムを用いたことによって、上
記の課題を達成している。
[作 用] X線用多層膜反射鏡で高反射率を得るためには、積層す
る2種類の物質の屈折率(n=1−6−ik)は、以下
の2つの条件を満足すればよいことが知られている。(
出来ら、 1987年秋季応用物理学会連合講演会 講
演番号19P−ZN−2)(1)各界面での反射率を大
きくするために、ふたつの物質のδの差が大きいこと。
(2)吸収による損失を小さくして、全体の反射率を大
きくするために、両物質ともにkが小さいこと。
第4図に波長25人におけるV2O5,V 、 C、S
i。
Ni、 W、 Moの各物質のδおよびkの値を示す。
δが小さい物質のグループ(V2O5,V 、 C、S
i) (D中では、バナジウムは従来一般に用いられて
いる炭素やシリコンよりもδ、にともに小さくなってお
り、前述したNi/ Vの組合せの多層膜反射鏡は炭素
やシリコンを用いた場合に比較して、高い反射率を得る
ことがで診ることが理解される。
ここで、本発明にがかる五酸化バナジウムは、δの値は
バナジウムよりもやや大きいものの、吸収を表すkの値
はバナジウムの半分以下である。
このため、吸収による損失を少なくするという上記(2
)の条件においてバナジウムより大幅に有利になり、そ
の結果、バナジウムを用いるよりもさらに高い反射率が
得られる。
一方、δが大きい物質としては、第4図の表に示された
Ni、 W、 Moの他、Re(レニウム)Os(オス
ミウム) 、 Ir(イリジウム) 、 pt(白金)
、八U(金) 、 Ta(タンタル)、)l’f(ハフ
ニウム)、Cu(銅) 、 Co(コバルト)、Zn(
亜鉛)。
Fe(鉄)等から適宜選択して用いることができるが、
第4図の表に示されるようにkの値が非常に小さいニッ
ケルを用いることがより好ましい。即ち、Ni/V2O
5の組合せとすることにより、吸収による損失を最も小
さく押えることができ、最も高い反射率を得ることがで
きる。
[実施例コ 第1図に示すように鏡面研磨したシリコン基板3上に、
rfマグネトロンスパッタリング法により、10人の厚
さのニッケル2と20人の厚さの五酸化バナジウム1を
交互にそれぞれ200層(図では層数を省略している)
ずつ積層して、多層膜反射鏡を作製した。ターゲット材
料にはそれぞれニッケルと五酸化バナジウムを用い、ス
パッタリングガスとしては、ニッケル成膜時はアルゴン
を、五酸化バナジウム成膜時はアルゴンと酸素の混合ガ
スを用いた。なお、かかる多層膜反射鏡において、シリ
コン基板3側第−層目と最上層はニッケルと五酸化バナ
ジウムの何れで構成しても良いが、界面の振幅反射率を
大きくするためには、δの値の大きいニッケルとするこ
とがより望ましい。
上記のようにして得た多層膜反射鏡の反射率を波長25
人のX線で測定したところ、第2図に示すような結果と
なり、最大反射率41.1%という高い値が得られた。
[比較例] 実施例と同様の方法で、10人の厚さと20人の厚さの
バナジウムを交互にそれぞれ200層ずつ積層して多層
膜反射鏡を作製した。ターゲット材料は、それぞれニッ
ケルとバナジウムで、スパッタリングガスはいずれもア
ルゴンガスを用いた。
波長25人のX線でこの多層膜反射鏡の反射率を測定し
たところ、第2図に示すような結果となり、最大反射率
31.5%と、本発明実施例にかかる多層膜反射鏡に比
べて10零程度低い反射率しか得られなかった。
[発明の効果] 以上のように本発明は、真空の屈折率との差か小さい物
質として酸化バナジウムを用いて多層膜反射鏡を構成し
たことにより、軟X線領域において従来に比較して大幅
に高い反射率が得られるという優れた効果を有している
。また、本発明においては、人体に有害なベリリウムを
用いないので、多層膜反射鏡の製造工程で作業者の健康
を害することがなく、特別な安全設備も不要である。
かかる多層膜反射鏡は、生体観察用軟X線(波長23人
〜44人)顕微鏡を初め、他の用途のX線顕i1“y鏡
や、X線リソグラフィー X線望遠鏡、X線レーザ等、
軟X線領域で用いられる光学機器全搬に通用することが
てき、その高い反射率によって、光学系の設計の自由度
を大きくすることかでざるとともに光源の強度も小さく
て済むため、光学機器の小型化を図ることができる。
さらに、本発明による多層膜反射鏡は、X線の吸収が小
さく、光源の強度も小さくできることから、X線の吸収
によφ温度上y、を低く押えることかでき、耐久性の点
においても有利である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明実施例にかかる多層膜反射鏡の断面図
、第2図は第1図に示された多層膜反射鏡と比較例にか
かる多層膜反射鏡の反射率を比較するグラフ、第3図は
軟X線領域での水とタンパク質の吸収係数を示すグラフ
、第4図は波長25人での物質の屈折率を示す表である
。 [主要部分の符号の説明] 1・・・V2O5(五酸化バナジウム)層2・・・Ni
にニッケル)層 3・・・Si(シリコン)基板 代理人 弁理士 佐 藤 正 年 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が小
    さい物質と大きい物質とを交互に積層してなる多層膜反
    射鏡において、 前記屈折率の差が小さい物質として、酸化バナジウムを
    用いたことを特徴とする多層膜反射鏡。
  2. (2)前記屈折率の大きい物質として、ニッケルを用い
    たことを特徴とする請求項1記載の多層膜反射鏡。
JP63189640A 1988-07-30 1988-07-30 多層膜反射鏡 Pending JPH0240599A (ja)

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ID=16244690

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0633898U (ja) * 1992-10-12 1994-05-06 東洋運搬機株式会社 フォークリフト
JP2007090700A (ja) * 2005-09-29 2007-04-12 Kiyoyuki Takenaka 画鋲

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