JPH0236677B2 - - Google Patents

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JPH0236677B2
JPH0236677B2 JP62035963A JP3596387A JPH0236677B2 JP H0236677 B2 JPH0236677 B2 JP H0236677B2 JP 62035963 A JP62035963 A JP 62035963A JP 3596387 A JP3596387 A JP 3596387A JP H0236677 B2 JPH0236677 B2 JP H0236677B2
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JP
Japan
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copper
plating bath
electrolysis
current density
chelating agent
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JP62035963A
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JPS62243776A (ja
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Dee Bijingeru Berunaa
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International Business Machines Corp
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Publication date
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Publication of JPS62243776A publication Critical patent/JPS62243776A/ja
Publication of JPH0236677B2 publication Critical patent/JPH0236677B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601Process or apparatus
    • C23C18/1617Purification and regeneration of coating baths

Description

【発明の詳现な説明】
 産業䞊の利甚分野 この発明は、゚チレンゞアミン四酢酞等のキレ
ヌト化剀を含有する無電解銅メツキ济の再生方法
および同方法を実斜するための装眮に関するもの
である。  埓来技術 化孊銅メツキ济、すなわち倖郚電源に接続する
こずなく動䜜する銅メツキ济は、たずえばプラス
チツクスの衚面をコヌテむングしたり、耇雑な幟
䜕孊的圢状の郚品をコヌテむングしたり、特に、
セミアデむテむブたたはアデむテむブ法により、
印刷回路を圢成するために甚いられおいる。すべ
おの化孊メツキ济に共通する特長は、コヌテむン
グに䜿甚する金属を溶解した圢でメツキ济に導入
するこずである。しかし、十分な付着を行わせる
ためには、遊離金属濃床を倧幅に制埡しなければ
ならない。そのため、金属陜むオンをマスキング
し、キレヌト化平衡を維持し、コヌテむング反応
のため最少量の金属陜むオンを攟出させるための
キレヌト化剀が甚いられる。遊離金属陜むオンの
濃床を必芁に応じお制限するため、メツキ济䞭
に、実際に必芁ずする量の数倍のキレヌト化剀を
添加するこずが倚い。゚チレンゞアミン四酢酞
EDTAは、キレヌト化剀ずしお最も䞀般に甚
いられおいる。 無電解法により付着させた銅の皮膜が確実に優
れた物理的特性を持぀ように、単にスルヌホヌル
のための導電性薄膜ずしお䜜甚し、その䞊に銅を
電解付着させるサブトラクテむブ法で圢成した無
電解付着の皮膜ず比范しお、無電解銅メツキ济
の、組成は、その濃床が高床に均䞀ずなり、副産
物の生成が最少になるように、可胜な限り正確に
制埡するこずが䞍可欠である。副産物の生成を少
くするこずは特に、無電解銅メツキ济䞭に高濃床
に存圚するキレヌト化剀、奜たしくぱチレンゞ
アミン四酢酞の再生に䞍可欠である。 欧掲特蚱出願第0088852号明现曞によれば、キ
レヌト化剀を含有する銅メツキ济を、党郚たたは
䞀郚メツキ槜から取り出し、銅を金属銅たたは酞
化銅ずしお沈柱させ、もしくは電気分解を䜿甚
し、次に酞性化しおキレヌト化剀を沈柱させるこ
ずにより、メツキ济の銅含有量を枛少させる。こ
のようにしお回収したキレヌト化剀を、陰極郚ず
むオン亀換膜により分離された銅陜極からなるセ
ルの陜極郚ぞ戻す。次に、䞡電極に盎接電流を印
加し、溶液をセルの陜極郚から無電解銅メツキ济
に戻す。この方法に関し、銅の含有量を枛少させ
るための電気分解を行う条件に぀いおの詳现も、
䞊蚘の条件が、回収されるキレヌト化剀、奜たし
くはEDTAの玔床にどのような圱響を䞎えるか
に぀いおの詳现も開瀺されおいない。 西独特蚱公開第3340305号明现曞には、化孊メ
ツキ济の汚染を陀去する方法が開瀺されおいる。
この方法は、遞択的にむオン亀換暹脂を䜿甚しお
溶液䞭の重金属を陀去した埌、キレヌト化剀を含
有する残りの溶液をさらに凊理するものである。
しかし、この方法は、安定定数がむオン亀換暹脂
の安定定数より小さいキレヌト化剀を含む溶液か
ら金属を分離する堎合にのみ適する。この方法は
EDTAには適甚するこずができない。  発明が解決しようずする問題点 この発明の目的は、無電解銅メツキ济を再生す
る方法及び装眮を提䟛するこずにある。  問題点を解決するための手段 この発明によれば、メツキ济䞭の銅含有量は電
気分解により枛少し、電気分解を実斜する条件
は、キレヌト化剀を含有する残りの溶液をさらに
凊理するず、極めお玔粋なキレヌト化剀、特に、
副生成物を含有しない極めお玔粋な゚チレンゞア
ミン四酢酞が埗られるように遞定される。  実斜䟋 本発明による方法を瀺す第図の流れ図に぀い
お以䞋に説明する。タンク䞭の無電解銅メツ
キ济は、䞋蚘の぀の基本的構成成分を含有
する。 䟡の銅むオン、 銅を䟡に保぀キレヌト化剀、 過剰の氎玠むオンを緩衝し、PH倀を維持するた
めのアルカリ、および ホルムアルデビド等の環元剀。 メツキ济は、シアン化物等の安定剀、および湿
最剀を添加剀ずしお含有するものでもよい。 掗浄のため銅メツキ・タンクを空にするべ
く、぀のタンクの間に接続ラむンを有する
タンクが蚭けられおいる。パむプラむン
は、銅メツキ・タンクず、受けタンクを
接続しおいる。受けタンクから、再生すべき
銅メツキ济が、䟛絊ラむンを通じお、぀の
電極ブロツクおよびが配列された電気分
解装眮に䟛絊される。電気分解装眮には
オヌバヌフロヌ・タンクが蚭けられおおり、
その぀にはPH枬定甚プロヌブが蚭眮され、
他の぀には反察偎に、PH倀を枬定し、維持する
ための氎酞化ナトリりム溶液が、ラむンを通
じお添加される。電気分解装眮内の銅メツキ济
の埪環に぀いおは、第図を参照しお別に説明
する。各電極ブロツクの電極の数および寞法は、
電流の匷さ、電流密床およびタンクの倧きさ
に基いお決定する。電極は、垞に぀の陰極が
぀の陜極の間にあるように、亀互に配列されおい
る。陰極は薄い銅箔で、陜極はステンレス鋌で構
成されおいる。 金属を陀去したメツキ济溶液は、パむプラむン
を通じお電気分解装眮からタンクぞ䟛絊
され、ここでPH倀を酞性偎に䞋げるこずにより、
キレヌト化剀を沈柱させる。そのために、硫酞、
塩酞等の酞を、ラむンを通じおタンクに
添加する。沈柱に適したPHの範囲は䞀般に4.0未
満であり、EDTAのためには、2.0未満、奜たし
くは1.0未満である。゚チレンゞアミン四酢酞
EDTAのほかに、酒石酞カリりムナトリりム
ロツシ゚ル塩、゚チレンゞアミンテトラミン、
トリ゚タノヌルアミン、ゞ゚タノヌルアミン等、
無電解銅メツキに適した他のキレヌト化剀も凊理
するこずができる。 沈柱したEDTAは、脱むオン氎で回掗滌し、
掗滌に䜿甚した氎はパむプラむンを通じおタ
ンクに䟛絊される。次に、EDTAは氎酞化
ナトリりム溶液に四ナトリりム塩ずしおもう䞀床
溶解し、H2SO4で再沈柱させるこずにより掗滌
するこずができる。タンクでは、掗滌した゚
チレンゞアミン四酢酞を氎酞化ナトリりム溶液に
溶解し、ラむンを通じお四ナトリりム塩に添
加される。ラむンで、EDTA−Na4゚チレ
ンゞアミン四酢酞の四ナトリりム塩溶液は、貯
蔵タンクに䟛絊され、ここからラむンを
通じお盎接化孊メツキ济に移送され、たたは
硫酞銅溶液ずの予備混合物を調補した埌、タンク
内の化孊メツキ济に䟛絊される。 奜たしい実斜䟋では、䞋蚘の構成成分、範囲、
およびパむプラむンの無電解銅メツキ济を甚い
る。 CuSO4・5H2O  7.5〜12 EDTA  35〜60 GafacRE−610*  0.25±0.1 NaCN mg 〜20 ホルムアルデヒド37 mg 〜4.5 PHNaOH 11.7±0.1 æž© 床 ℃ 73±0.5 れネラル・アニリン・アンド・フむルム・コ
ヌポレヌシペンGeneral Aniline and Film
Corporationの商品名 この組成のメツキ济は、たずえば、米囜特蚱第
3844799号明现曞に蚘茉されおいる。 メツキ济の濃床は、特定の倀より䜎䞋した堎
合、別に調補した硫酞銅溶液、ホルマリン、シア
ン化ナトリりム溶液および氎酞化ナトリりム溶液
を加えお調敎する。 メツキ济の各構成成分の濃床は、 たずえばCu++の濃床は光床枬定により、 ホルムアルデヒドの濃床はPH倀を倉化させる亜
硫酞ナトリりムずの反応により、 NaCNの濃床はむオン遞択性電極により、 NaOHの濃床はガラス電極により、 泚意深く管理する。 メツキ济の枩床も泚意深く管理する。掻性化し
た回路板の衚面の無電解銅メツキにより生成する
反応生成物は䞻ずしおNa2SO4硫酞ナトリりム
およびHCOONaギ酞ナトリりムで、メツキ
济の䜿甚䞭に、䞀般濃床に達する。 第図を参照しお説明したように、銅メツキ济
は、最初にメツキ济溶液の銅含有量を電気分解に
より、玄20mg未満の濃床に枛少させ、次に酞
性化によりキレヌト化剀を沈柱させるこずにより
再生する。 銅の含有量を枛少させるのに甚いる電気分解
は、回収した゚チレンゞアミン四酢酞の玔床に極
めお重芁である。 実䟋により、これたで行なわれた、䞀定の、比
范的高い陜極および陰極電流密床を甚いた電気分
解法では、埌の゚チレンゞアミン四酢酞の沈柱䞭
に埗られる生成物は、分解生成物によりはなはだ
しく汚染され、アミン臭がするこずがわか぀おい
る。䞋蚘第衚の匏で瀺す分解生成物、および
遊離基の再結合により圢成するアミンが倚くの
実隓宀における詊隓により怜出されおいる。詳现
には、䞊蚘の生成物およびアミン類は、テトラメ
チル゚チレンゞアミン(a)、ゞメチル゚チルアミン
(b)、−メチル−N′−ゞメチルゞアミノメタン
(c)、゚チレンゞアミン(d)および環匏アミン類(e)で
ある。さらにこの詊隓で怜出された生成物は、
グリシン(f)、むミノニ酢酞(g)などである。 銅メツキ济䞭にアミン類、特に゚チレンゞアミ
ン(d)が存圚するず、付着した銅の局の粒状構造に
悪圱響を䞎える。アミンの存圚は、メツキ济から
付着する銅局の粒子が粗くなる原因ずなり、埌に
局がたずえばはんだ付け等により加熱されるずク
ラツクを生じるこずがある。アミン類は、たずえ
ばホルムアルデヒド等、他のメツキ济の成分ず反
応し、−トリアゞン誘導䜓を生成するこずがあ
るこずも知られおいる。−トリアゞンはホルム
アルデヒドを安定させるが、付着した銅局の粒状
構造に悪圱響も䞎える。 銅メツキ济のサンプルに぀いお、ポヌラログラ
フむ詊隓を行うず、䞀定電流密床で電気分解を行
う間に、メツキ济䞭に含たれるEDTAの玄10
が分解されるこずが刀明した。これは、電気分解
の間に陜極が酞玠により被芆されるこずにより電
䜍が倉化し、EDTAが陜極分解する電䜍限界倀
を超える原因ずなるためである。したが぀お、電
気分解の条件は、EDTAが分解しないように遞
定しなければならない。 銅陰極をステンレス鋌の陜極の間に配列した最
も簡単な構造の電気分解セルで、化孊銅メツキ济
を凊理するず、䞋蚘の反応匏による銅が銅陰極䞊
に電気メツキにより付着する。 〔Cu2+EDTA錯塩〕2e-→Cu±0EDTA (1) 望たしくないが、さけるこずのできない副反応
ずしお、陰極䞊で䞋蚘のように氎が分解される。 H2Oe-→OH- H2Oe-→H2OH- 2H2O2e-→H2↑2OH- (2) 匷アルカリ性溶液PH11〜12では、陜極䞊で
電子が陀去されお分子状の酞玠が生成する。 4OH-→O22H2O4e- (3) 電気分解䞭のこのOHむオンの消耗により、PH
倀が䜎䞋する。たずえば初期のPHが11.7の堎合、
箄10時間の電気分解埌には、PHは9.4になる。PH
倀の䜎䞋に䌎い、分解生成物の割合が増倧するた
め、電気分解装眮には、電気分解䞭のPH倀を䞀定
に保぀制埡手段第図のが蚭けら
れおいる。 陰極および陜極における反応を、極く簡略化し
お第図に瀺す。陰極䞊に銅が電着するに぀れお
電解質の銅むオンは枛少し、残りのCu濃床が玄
20mgになるず電気分解が停止する。実際には
電気分解の間、電解質䞭の銅濃床を連続的に枬定
する。所期の最終倀に達するず、装眮のスむツチ
が自動的に切れる。 䞊蚘の陰極および陜極における化孊反応に぀い
お、䞋蚘の電気化孊反応が適甚される。 (a) 銅が陰極に電着するず、電解質の銅むオンが
枛少する。したが぀お、電䜍は銅むオン濃床に
䟝存し、䞋匏により衚わされる。 EcathpdeEpRTne・ΣΜi lnc〔Cu2+〕 匏䞭、ΣΜiは、電䜍に圱響を䞎えるすべおの
因子の合蚈を衚わす。 (b) 電流密床も濃床に䟝存し、制限電流密床は
銅むオン濃床おび枩床により決定される。 ilin〔Cu2+〕 電䜍および電流密床の銅むオン濃床䟝存性が
顕著になるのは、電気分解䞭に倧量の銅が付着
した埌である。この堎合、埗られた制限電䜍お
よび制限電流密床の倀は、EDTAが分解する
ような倀ずなる。 電気分解の間に、䞡電極がそれぞれ氎玠およ
び酞玠で被芆されるずガス電極ずなり、その起
電力により銅の付着が抑制される。 (c) EcathpdeEp−RT2F・lnPH2 (d) EaopdeEp−RT2F・lnPO2 䞻反応〔Cu2+EDTA錯塩〕2e-→ Cu±0EDTA は、PH2およびPO2の関数で ある起電力EMKにより劚げられる。䞀定の、
比范的高い電流密床で行われる電気分解の間、
氎玠および酞玠の割合は電気分解が進行するに
぀れお増加し、付着すべき銅に察しお、電流お
よび゚ネルギ効率が倧幅に䜎䞋する。その結
果、所期の残留銅濃床玄20mgに達するの
に、非垞に長時間を芁する。 たずえば、のCuSO4・5H2O≒2.03
のCuを含有する15m3のメツキ济を、
電流を6000Aの䞀定量流、電流密床を玄
100Am2の条件にしお電気分解するず、24時
間の平均陰極電流効率、Cu、24hはわず
かに18である。所芁゚ネルギのこれよりはる
かに倧きい郚分、すなわち残りの82は、氎の
分解および副反応に甚いられおいるである。付
着すべき銅に察しおの、最初10時間における平
均陰極電流効率は69である。その埌の14時間
の埌、すなわち合蚈24時間埌には、平均陰極電
流効率はわずか18になる。第図に、この実
斜䟋における電気分解電流すなわち6000A
ず、電気分解時間ずの関係を瀺すす。溶液䞭
の所期の銅濃床20mgに達するのに、電気
分解時間は24時間を芁する。24時間では、前
述のように、平均陰極電流効率はわずかに18
である。 これらの結果により、付着すべき銅に察する陰
極電流効率を改善し、銅濃床を所期の20mgに
䜎䞋させるための電解時間を短瞮するには、電気
分解䞭の氎玠および酞玠の発生を最少限にし、気
䜓はすべお可胜な限り速やかに電極から陀去する
こずが必芁ずなる。電気分解時間の短瞮は、生成
する副生成物の数を枛少させるこずにもなる。 これらの気䜓は、電気分解時に電解質を玄10な
いし50容量時の高速で、内郚埪環させるこずに
より、電極から最も良く陀去される。前述の容量
15m3の電気分解セルでは、20容量時、すなわち
毎時300m3の電解質を埪環させなければならない。 第図は、電極の䞋に蚭けた噎射筒によ
り、電解質を埪環させる装眮を瀺す。電解質は電
気分解セルから、電気分解装眮の䞡偎に配したオ
ヌバヌフロヌ・タンクに䟛絊され、ここから噎射
筒に送り返される。第図の䞊郚に、電気分解セ
ルおよび぀のオヌバヌフロヌ・タンクから
なる電気分解装眮ず、電極の䞋に蚭けた噎射
筒の偎面図を瀺す。第図の䞋郚には、同装眮の
䞊面図を瀺す。スペヌスがあれば、電気分解装眮
に隣接しおバツフア・タンク図瀺されおいな
いを蚭けるず有利である。このタンクぞ、オヌ
バヌフロヌ・タンクから電解質が䟛絊され、ここ
から噎射筒を通じお電極に戻される。 電解質の移動のほかに、電流密床も本発明によ
る方法に倚倧の圱響を䞎える。銅を回収たたは粟
補する電気分解法で、電気分解工皋を通じお䞀定
の電流密床を甚いるものでは、経枈的基準によ぀
お最も奜たしい電流密床が決められる。この発明
は、銅を回収する安䟡な方法を提䟛するのではな
く、回路板を補造するための無電解銅メツキ济に
戻すこずのできる実質的に玔粋な゚チレンゞアミ
ン四酢酞を安䟡に再生する手段を提䟛するこずを
目的ずしおいる。埓来の銅を再生する電気分解法
では、共通した濃床の銅電解質に察する電流密床
は玄200Am2で、䟋倖的な堎合には300Am2で
ある。この発明では、このように比范的高い電流
密床は甚いるこずができない。これは、電流密床
が高いず、゚チレンゞアミン四酢酞の電気化孊的
分解が起るためである。玔粋な゚チレンゞアミン
四酢酞の再生詊隓の結果、この発明の方法では、
陜極電流密床i+は100Am2を超えおはならない
こずが刀明した。 この発明による方法のための電気分解装眮は、
最倧電流Imaxを、たずえば6000Aに蚭蚈されお
いるが、玄5400Aを超えない電流で䜿甚される。
この装眮は36個の銅陰極ず38個のステンレス鋌の
陜極を有し、総実効面積Σfは、銅陰極が77.1m2、
ステンレス鋌陜極が88.9m2である。この堎合、最
倧電流密床は、i-nax70Am2、i+nax60.7A
m2で、陜極電流密床≊陰極電流密床であるため、
陜極が止むを埗ず酞玠で被芆されおも、EDTA
の分解が始たる電䜍限界を超えるこずはない。こ
れらの数倀は、この電気分解装眮が最倧蚱容陜極
電流密床の60付近で運転されるこずを瀺しおい
る。これにより、陜極酞化が生じおも、有害な゚
チレンゞアミン四酢酞の分解生成物が圢成される
おそれが少くなる。 有害な分解生成物の生成を避けるため、䞀定の
電流密床で運転するだけでなく、電流密床を電気
分解が進行するに぀れお、電気分解特性に埓぀お
連続的に、たたは段階的に枛少させるこずが最も
有利である。第図の巊偎。 䞋蚘の第衚は、第欄に時間ごずの電気分
解間、第欄に平均陰極電流効率-を電気分解
時間第欄の関数ずしおパヌセントで瀺した
ものである。関連した詊隓を100Am2の䞀定陜
極電流密床i+で行な぀た。第欄には本発明で提
唱する陜極電流密床i+の枛少をm2で、第欄
は関連する電流の匷さをアンペアで瀺す。第
欄は、第欄に瀺す陜極電流密床に察する平均陰
極電流効率-を瀺す。第欄の倀䞀定陜極電
流密床に比范しお明らかに改善が芋られる。
【衚】 この衚は、100Am2の䞀定陜極電流i+で行な
぀た最初の時間の平均陰極電流効率-は玄80
であるこずを瀺しおいる。時間目ず時間目
の間に、同じ電流密床での電流効率は玄37に䜎
䞋する。玄12時間埌には、平均陰極電流効率は
未満に䜎䞋し、ほずんどすべおの電気゚ネルギ
は銅の付着には䜿甚されず、氎の分解や、望たし
くない副反応に䜿甚されるようになる。この衚に
より、i+100Am2の䞀定陜極電流密床におけ
る10時間の平均陰極電流効率-を蚈算するず、
44になる。 電気分解時間の増加に䌎぀お陜極電流密床を枛
少させるず第欄、平均陰極電流効率はかな
り改善される。第衚によれば、これには総電気
゚ネルギ ΣQΣI・40500A を必芁ずする。この倀は、平均銅濃床2.2
に基く蚈算により、10時間の電流効率η69に
盞圓する。 電気分解時間は、䞋蚘の初期倀に基づくフアラ
デヌの法則に埓぀お、第衚の詊隓デヌタから蚈
算するこずができる。 電解質の容量 15m3 济の銅濃床 2.2 平均電流匷床 4050A 平均陰極電流効率 -69 䞊蚘により算出した時間は10時間である。 これらの蚈算により、電気分解䞭に電流密床を
枛少させるず、電気分解は10ないし12時間で終了
し、埓来銅を再生するのに甚いた䞀定陜極電流密
床の電気分解ず比范しお、電気分解時間が50の
短瞮ずなる。電気分解時間短瞮の結果、EDTA
分解生成物が枛少する。 第図は、電気分解の最初の時間における
銅メツキ济䞭の銅含有量の䜎䞋を瀺す図である。
第図は、電気分解の時間目から12時間目に
おけるメツキ济の銅含有量の䜎䞋を瀺す。いずれ
の堎合も、陜極電流密床i+は䞀定の100Am2で
ある。陜極電流密床を電気分解䞭に枛少させる
ず、平均陰極電流効率は改善され、電気分解時間
はさらに短瞮される。  発明の効果 以䞊のように、この発明によれば、メツキ济䞭
の銅の含有量を電気分解により枛少させ、電気分
解を実斜する条件は、キレヌト化剀を含有する残
留溶液をさらに凊理するず、非垞に玔粋なキレヌ
ト化剀、特に副生成物を含有しない極めお玔粋な
゚チレンゞアミン四酢酞が埗られるように遞択さ
れるこずを特城ずする、無電解銅メツキ济の再生
方法および装眮が提䟛される。
【図面の簡単な説明】
第図は、本発明による方法の流れ図、第図
は、陜極ず陰極ずの間で生じる反応、第図は電
気分解時間の関数ずしおの電気分解電流倀、第
図は、電解質の内郚埪環甚の぀のオヌバヌフロ
ヌ甚タンクを有する電気分解セル、第図およ
び第図は、電気分解時間時間の関数ずし
おの銅メツキ济の銅含有量mgを瀺す。   銅メツキ・タンク、  銅メツキ
济、  電気分解装眮、  電極
ブロツク、  キレヌト化剀沈柱タンク。

Claims (1)

  1. 【特蚱請求の範囲】  キレヌト化剀を含有する無電解銅メツキ济を
    再生する方法においお、 (a) 䞊蚘キレヌト化剀を含有するメツキ济溶液
    を、連続的たたは間欠的に䞊蚘無電解銅メツキ
    济から取り出し、 (b) 䞊蚘取り出したメツキ济溶液䞭の銅の含有量
    を、電気分解により20mg以䞋に枛少させ、 (c) 䞊蚘電気分解により銅の含有量を枛少された
    䞊蚘メツキ济溶液を酞性にするこずにより䞊蚘
    キレヌト化剀を沈柱させ、 (d) 䞊蚘沈柱したキレヌト化剀を、アルカリ金属
    の氎酞塩であるアルカリ性電解質溶液に溶解
    し、 (e) 䞊蚘溶解した溶液を䞊蚘無電解銅メツキ济に
    戻す段階を有する、 無電解銅メツキ济の再生方法。
JP62035963A 1986-04-11 1987-02-20 無電解銅メッキ济の再生方法 Granted JPS62243776A (ja)

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