JPH0235341A - フォトマスク欠陥検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体装置のフォトマスク欠陥検査装置に
関するものである。

〔従来の技術］ 近年、フォトマスクの製作において、半導体装置のパタ
ーンの微細化に伴い、５倍ステッパが主流となっている
。しかし、５倍ステッパによるフォトマスクの製作にお
いては、フォトマスター枚に入るチップの数が少なくな
るため、半導体装置の製作時に、共通欠陥が生じ、歩留
の低下を起こしやずいという問題があった。特に、半導
体装置の１チツプが大きいために５倍ステッパ用レチク
ルに１チツプ分しか入らない場合は、フォトマスクに欠
陥が１つでも有れば、全数の半導体装置が不良となる。

しかし、１チツプレチクルのフォトマスクの欠陥検査は
、設計データとの照合による検査手段しかないため、こ
の検査が必須となっている。

このように、半導体装置のパターンの微細化に伴い、フ
ォトマスクの欠陥検査の重要度が増している。

以下、従来のこの種のフォトマスク欠陥検査装置を第２
図に基づいて説明する。

このフォトマスク欠陥検査装置は、第２図に示すように
、検査用光学系５２と、この検査用光学系５２の出力信
号を設計データ５５と照合する照合手段５６とを備えて
いる。第１図に示す５１はフォトマスクを示している。

照合手段５６は、検査用光学系５２でフォトマスク５１
から得られた出力信号を検査データに変換する変換回路
５３と、変換回路５３の検査データと設計データ５５と
を比較する比較回路５４とから構成されている。

以下、検査用光学系５２に反射光を使用した場合のフォ
トマスク欠陥検査装置の具体動作を第２図に基づいて説
明する。

検査用光学系５２ば、入射光（図示せず）をフォトマス
ク５１に照射し、フォトマスク５１からの反射光（図示
せず）を受光する。そして、検査用光学系５２は、フォ
トマスク５１からの反射光の濃度を検出し、検出した反
射光の濃度信号を出力信号（図示せず）として照合手段
５６の変換回路５３に加える。変換回路５３は、検査用
光学系５２から人力した反射光の濃度信号である出力信
号を検査データに変換し、検査データを比較回路５４に
加える。比較回路５３ば、設計データ５５を入力し、設
計データ５５と検査データを比較照合を行い、フォトマ
スク５１の欠陥を判別している。また、フォトマスク５
１は、第２図に示す矢印ｘ’、ｙ’の方向に順次移動さ
れ、フォトマスク５１の全面の検査データと設計データ
５５との比較２照合が行われる。

〔発明が解決しようとする課題〕

前記したように、近年、半導体装置のパターンの微細化
に伴い、検査感度の向上が望まれている。

従来のフォトマスク欠陥検査装置においては、検査感度
をあげるためには、検査用光学系５２の倍率を上げれば
よい。しかし、検査用光学系５２の倍率を」二げること
により、検査時間が多くかかるという問題があった。例
えば、検査用光学系５２の倍率を上げ、検出サイズを２
にすると、検査時間は４倍になる。

したがって、この発明の目的は、検査感度を向」二でき
、かつ検査時間を短縮することのできるフォトマスク欠
陥検査装置を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

この発明のフォトマスク欠陥検査装置は、検査用光学系
および照合手段を複数個備えたことを特徴としている。

〔作　用］ この発明の構成によれば、複数個の検査用光学系を備え
たので、１個の検査用光学系におけるフォトマスクの検
査範囲を小さくすることができる。

さらに、検査用光学系からの出力信号を設計データと比
較、照合する照合手段を複数個備えたので、複数の検査
用光学系からの出力信号と設計データとを同時に照合で
き、検査時間が短縮される。

［実施例］ この発明のフォトマスク欠陥検査装置の実施例を第１図
に基づいて説明する。

このフォトマスク欠陥検査装置は、第１図に示すように
、検査用光学系２および照合手段６とをそれぞれ２個備
えている。そして、２個の検査用光学系２からのそれぞ
れの出力信号を２個の照合手段６で設計データと照合す
る。第１図に示す１はフォトマスクを示している。

２個の照合手段６は、それぞれ検査用光学系２でフォト
マスク１から得られた出力信号を検査データに変換する
変換回路３と、変換回路３の検査データと設計データ５
とを比較する比較回路４とから構成されている。

以下、このフォトマスク欠陥検査装置の動作を第１図に
基づいて詳しく説明する。

２個の検査用光学系２は、それぞれ従来例と同様に、フ
ォトマスク１に入射光（図示せず）を照射し、フォト−
７スク１からの反射光（図示せず）を受光する。そして
、フォトマスク１からの反射光の濃度を検出し、この濃
度信号を出力信号として２個の照合手段６のそれぞれの
変換回路３に加える。変換回路３ば、検査用光学系２か
らの出力信号を入力し、濃度信号である出力信号を検査
データに変換する。そして、変換回路３は、変換した検
査データを比較回路４に加える。比較回路４は、変換回
路３からの検査データを入力し、設計データ５と比較、
照合する。

そして、それぞれの検査用光学系２の一定視野範囲毎を
、フォトマスク１が第１図に示す矢印ＸＹの方向に、順
次移動を繰り返されることにより、フォトマスク１全面
の検査データと設計データ５との比較、照合を行う。

また、従来例も同様であるが、フォトマスク１が検査用
光学系２の次の視野の位置に移動する間に、前の検査用
光学系２の視野内の出力信号と設計データとの仕較、照
合が行われる。これにより、フォトマスク１の移動速度
は、前のフォトマスク１の検査用光学系２の視野内の検
査データと設計データとの比較、照合が終了される時間
以上に早くすることができない。

しかし、この場合、検査用光学系２を２個用いているた
め、１個の検査用光学系２におけるフォトマスク１の検
査範囲は、従来例の場合に比べて２になる。したがって
、フォトマスク１の移動回数も従来例と比べ２となる。

そして、２個の検査用光学系２からのそれぞれの出力信
号を、２個の照合手段６により同時に設計データ５と照
合することにより、検査時間を従来例と比べ２にするこ
とができる。

このように、この実施例のフォトマスク欠陥検査装置は
、検査用光学系および照合手段を２個備えた構成とした
ので、２個の検査用光学系２がらのそれぞれの出力信号
を２個の照合手段６で同時に設計データ５と比較、照合
することにより、検査感度を向上させることができ、か
つ検査時間を短縮することができる。

なお、この実施例においては、検査用光学系２および照
合手段６を２個使用して、検査データと設計データ５と
を同時に比較、照合するようにしたが、検査用光学系２
および照合手段６を２個以上の複数個使用すれば、フォ
トマスク１の移動回数をさらに減らすことができる。そ
して、複数の検査用光学系２からの出力信号を複数の照
合手段６で設計データ５と同時に比較することにより、
さらに検査感度を向上させることができ、検査時間も短
縮することができる。

〔発明の効果〕

この発明のフォトマスク欠陥検査装置は、検査用光学系
および照合手段を複数個備えた構成としたので、複数の
検査用光学系からのそれぞれの出力信号を複数の照合手
段で同時に設計データと比較、照合することにより、検
査感度を向上させることができ、かつ検査時間を短縮す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の実施例の概略構成を示すブロック図
、第２図は従来のフォトマスク欠陥検査装置の概略構成
を示すブロック図である。 ２・・・検査用光学系、５・・・設計データ、６・・・
照合手段 第

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 検査用光学系と、この検査用光学系の出力信号を設計デ
   ータと照合する照合手段とを備えたフォトマスク欠陥検
   査装置において、前記検査用光学系および照合手段を複
   数個備えたことを特徴とするフォトマスク欠陥検査装置
   。