JPH0233429U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0233429U JPH0233429U JP11259988U JP11259988U JPH0233429U JP H0233429 U JPH0233429 U JP H0233429U JP 11259988 U JP11259988 U JP 11259988U JP 11259988 U JP11259988 U JP 11259988U JP H0233429 U JPH0233429 U JP H0233429U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sensitive adhesive
- adhesive layer
- semiconductor wafer
- pressure
- circuit pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 claims description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
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Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
Description
第１図は本考案の保護部材の構成例を示した断
面図、第２図は帯電荷減衰特性を示したグラフで
ある。 １：耐水性シート、１１：支持シート、１２：
親水性処理層、２：感圧接着剤層、３：セパレー
タ。
面図、第２図は帯電荷減衰特性を示したグラフで
ある。 １：耐水性シート、１１：支持シート、１２：
親水性処理層、２：感圧接着剤層、３：セパレー
タ。
Claims (1)
- 回路パターンが形成された半導体ウエハの裏面
を研磨する際にその回路パターン形成面に貼着さ
れる感圧接着剤層と、この感圧接着剤層を支持す
る耐水性シートからなり、その耐水性シートがシ
ロキサン系帯電防止剤からなる親水性処理層を有
することを特徴とする半導体ウエハの保護部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11259988U JPH0233429U (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11259988U JPH0233429U (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0233429U true JPH0233429U (ja) | 1990-03-02 |
Family
ID=31351682
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11259988U Pending JPH0233429U (ja) | 1988-08-26 | 1988-08-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0233429U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04147623A (ja) * | 1990-10-11 | 1992-05-21 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 半導体ウエハ加工用フィルムの製造方法 |
-
1988
- 1988-08-26 JP JP11259988U patent/JPH0233429U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04147623A (ja) * | 1990-10-11 | 1992-05-21 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 半導体ウエハ加工用フィルムの製造方法 |