JPH02310899A - 自己訂正機能を有する半導体記憶装置 - Google Patents

自己訂正機能を有する半導体記憶装置

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JPH02310899A
JPH02310899A JP1132177A JP13217789A JPH02310899A JP H02310899 A JPH02310899 A JP H02310899A JP 1132177 A JP1132177 A JP 1132177A JP 13217789 A JP13217789 A JP 13217789A JP H02310899 A JPH02310899 A JP H02310899A
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Kikuzo Sawada
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、自己訂正機能を有する半導体記憶装置に関
し、詳しくは、トンネル酸化膜をドレインEに有するフ
ローティングゲートのMOSをメモリセルとして用いる
EEPROMにおいて、誤り訂正回路を用いなくても誤
り訂正ができるような自己訂正機能を有する半導体記憶
装置に関する。
[従来の技術] 1Mビット以上のROMになると、不良ビットの発生す
る碇率が増加するために製品の歩留りが悪くなる。そこ
で、製品歩留りを向上させるために、従来、冗長メモリ
セルを設けて欠陥メモリセル或は欠陥メモリ全体を救済
したり、パリディビットを記憶するメモリセルと、パリ
ディ検査回路、そしてECC回路等を内蔵してビット誤
りの検出と誤り訂正を行うことで部分的な欠陥ビットを
救済することが行われている。
[解決しようとする課題] しかし、冗長メモリセルを用いるものでは内部配線によ
る救済が面倒であるばかりか、100%の予備メモリセ
ルを冗長させる方式では、チップ寸法が倍となる欠点が
ある。
一方、FCC回路方式を用いる救済の仕方では、パリデ
ィデータを記憶するメモリセルが必要となり、特に、誤
り訂正機能を持たせた場合、各データに対して1ビツト
のパリディビット付加では足りず、例えば、8ビツトの
データに対しては4ビツトのパリディというように全体
のセル量が通常のデータ記憶の場合に比べて1.5倍程
度も大きくなり、チップ面積が増大する欠点がある。
この発明は、このような従来技術の問題点を解決するも
のであって、チップ面積をほとんど増大させることなく
、また、ECC回路を用いずに1ビツト訂正を行うこと
ができる自己訂正機能を有する半導体記憶装置を提供す
ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] このような目的を達成するためのこの発明の自己訂正機
能を有する半導体記憶装置の構成は、ゲート電極に電子
又は正孔、の電荷を帯電することにより情報を記憶する
不揮発性のメモリセル複数と、これら複数のメモリセル
の少なくとも1つを選択するためにメモリセルに接続さ
れたワード線と、これら複数□のメモリセルのうち選択
されたメモリセルとの間でデータの授受を行うためにメ
モリセルに接続されたビット線と、ゲート電極に接続さ
れたセンス線とを具える、複数のメモリセルの一部にパ
リティデータを記憶するメモリアレイと、センス線にセ
ンス電圧を印加してメモリセルに記憶されたデータを読
出す第1の読出し回路及び第2の読出し回路と、第1の
読出し回路から得られる読出しデータ及び第2の読出し
回路から得られる読出しデータのそれぞれについてパリ
ディ検査を行うバリディ検査回路と、パリディ検査回路
の検査結果に応じて正しいとされる第1及び第2の読出
し回路の一方の出力を選択する選択回路とを備えていて
、第1の読出し回路が“1”又は“0”の情報を記憶し
ているゲート電極に帯電された電荷が抜けた状態のとき
にセンス電圧をがけてメモリセルに流れる電流値より小
さい値を“l”又は“O”の検出J!準としてデータを
読出すものであり、第2の読出し回路が“1”又は“O
”の情報を記憶しているゲート電極に帯電された電荷が
抜ケt: 状aのときにセンス電圧をかけてメモリセル
に流れる電流値より大きい値を“1”又は“0”の検出
基準としてデータを読出すものである。
[作用] 従来からトンネル酸化膜をドレイン上に有するフローテ
ィングゲートのMOSメモリセルで構成されるEEFR
OMが知られているが、これは、何度もプログラム/消
去を繰り返すと特性が劣化して書き換えできなくなる欠
点がある。
このような性能は、一般的には、kき換え可能回数で表
されるが、標準的なメモリセルの、充電及び放電状態の
ゲート閾値電圧Vtc(V)を書き換えサイクル数の関
数として示すと、後述する第2図(a)のようになり、
通常、104〜106程度までの書換が可能である。な
お、第2図の(a)において、THOは、電荷がフロー
ティングゲートにないときの閾値であって、THhは、
フローティングゲートに電子が注入されてメモリセルが
消去状態にあるときの閾値、THLは、フローティング
ゲートに電荷(正孔)が注入され(或はフローティング
ゲートから電子が逃げ)でメモリセルに書込みが行われ
たときの閾値である。
ところで、EEPROM%ROM等のメモリを製造する
ときに、欠陥ビット(或は不良ビット)が発生する原因
としては、メモリセルの配線等の断線やショート、素子
形成領域の形成不良等によることもあるが、製造技術が
向丘した現在では、多くの場合このような原因の欠陥よ
りもフローティングゲートに対して電荷(或は電子)の
充電。
放電が1分にできないメモリセルによるものと考えられ
、前記の書換えサイクルの場合と同様に電荷抜けが発生
して、ゲート閾値電圧が目的とする値に設定されないで
欠陥ビットセルとなるものかはと゛んどと言える。そし
て、このことは、正常に閾値電圧が設定できないような
メモリセルに対して誤り訂正をすればほとんどのメモリ
の救済が可能であることを意味する。
また、最近では、製造技術の向りにより、欠陥ビットセ
ルの数が減少しているにもかかわらず、従来のように、
冗長セルやパリディセルを多く設けて自己訂正機能を持
たせることはチップ面積当たりの製造コストを増加させ
る一因にもなっている。したがって、前記の構成のよう
にセンス電圧を印加してメモリセルに記憶されたデータ
を読出す第1の読出し回路及び第2の読出し回路を設け
て第1の読出し回路が電荷抜けでビット誤りとなるメモ
リセルに流れる電流値より小さな電流値を検出し、第2
の読出し回路が電荷抜けでビット誤りとなるメモリセル
に流れる電流値より大きな電流値を検出するようにして
いるので、電荷抜けで閾値が変化して欠陥となるメモリ
セルが内部に存在していてもいずれか一方の読出し回路
により正しいデータを読出すことが可能である。しかも
、データが正しいか否かは1ビツトのパリディを付加し
て記憶しておけば判別できるので、メモリセルの容量も
増加させないで済む。
その結果、パリディセルに大きな容量を必要とせずに、
FCC回路等が不要で、チップ占有面積の小さなメモリ
を実現することができる。
[実施例] 以下、この発明の一実施例について図面を用いて詳細に
説明する。
第1図は、この発明の自己訂正機能を有する半導体記憶
装置を適用した一実施例のEEPROMのブロック図、
第2図(a)及び(b)は、EEPROMの動作閾値−
書込み回数特性及びメモリセル電流−センスアンプ電流
特性の説明図、第3図は、その訂正原理の説明図である
第1図において、1は、メモリセルアレイであって、そ
の横に図示する2は、メモリアレイを構成する各メモリ
セルの構造であって、メモリセルlは、メモリセル2に
示されるようにフローティングゲートのMOSで、その
ドレイン上に局所的に薄いトンネル酸化膜2Cを有した
メモリセルが配列されている。なお、2aは、その選択
トランジスタであり、2bは、その記憶トランジスタで
ある。
また、このメモリセルアレイ1は、データを記憶するデ
ータメモリセル1a、1a、  ・・・のほかに、パリ
ディメモリセル1bと、ワード線I C%ビット線1d
、センス線le1セル接地線1f等を備えている。そし
て、ワード線ICは、ローデコーダ3に接続され、ビッ
ト線1dは、カラムデコーダ4によりスイッチングされ
るスイッチ群4aの各スイッチにそれぞれ接続され、こ
れらスイッチを介してそれぞれに対応する一対の第1.
第2のセンスアンプ5a、6’a、5b+ 8b、  
φm。
5+ e 6t 、***、5n+ Onに接続されて
いる。また、センス線1eは、スイッチ群4aのうちの
所定のスイッチを経てセンス電圧線9に接続されている
ここで、第1のセンスアンプ(SAI )5a。
5b、  ・会、51.・・Φ、5nと第2のセンスア
ンプ(SA2 ) eat 8b、  * *、 as
 、  舎*・、6nとは、それぞれ検出電流値が相違
していて、後述するように、第1のセンスアンプ5(5
a +  5 b +  ・番・、5nを代表するもの
として)がEEPROMとして通常検出するレベルの所
定の閾値と相違する第1の電流値の閾値を有していて消
去吠態(記憶値″O”)からの電荷抜けでビット誤り(
“l”)となるメモリセルに流れる電流値より小さな電
流値を検出し、第2のセンスアンプ6 (8a = 6
 b *  ・・ga、 Onを代表するものとして)
が同様に通常検出するレベルの所定の閾値との相違する
第1の電流値の閾値を有していて書込み吠態(記憶値“
1”)からの電荷抜けでビット誤り(“0”)となるメ
モリセルに流れる電流値より大きな電流値を検出するよ
うに設定されている。なお、これら第1及び第2のセン
スアンプ5,6のうちの1つは、パリディメモリセル1
bから1ビツトのパリディデータを受ける。
7は、パリディ検査回路であって、各センスアンプ5の
出力を受けてこれら出力のEXORを採るEXOR回路
7aと、各センスアンプ6の出力を受けてこれら出力の
EXORを採る一EXOR回路7bとで構成され、これ
らEXOR回路? a +7bの出力は、出力切換回路
8に入力される。
10は、第1及び第2のセンスアンプ5,6に対応して
設けられたゲート同郡からなる出力選択回路であって、
ゲート回路10a、lla、10b+  1lbt  
*@*、10nt、llnで構成され、前記の出力切換
回路8からのゲート信号(G、G)に応じて、第1のセ
ンスアンプ5に対応するゲート回路10(10at  
Job、1141@l  Ionを代表するものとして
)側或は第2のセンスアンプ6に対応するゲート回路1
1(lla、llb。
・・・、llnを代表するものとして)側の出力のいず
れか一方を選択することで第1及び第2のセンスアンプ
5.6のいずれか一方の出力を有効なちととして通過さ
せ、これら出力に対応してそれぞれ設けられたバッファ
12a、12bt  ・・・、12nにそれぞれの出力
を送出する。
次に、その動作について、第2図及び第3図を参照して
詳細に説明する。
第2図(a)は、トンネル酸化膜を有するフローティン
グゲートのEEPROMの書換え回数と閾値の関係を示
すものである。横軸に示す書換え回数に対して消去/書
込みの閾値電圧の変化THh 、THo 、THLを示
している。105以上から書換回数が増加するにつれて
、これらの閾値に差がなくなり、その特性が劣化する。
なお、前述したように、THoは、電荷がフローティン
グゲートに帯電されていないときの閾値であって、通常
、1v程度の値である。THhは、フローティングゲー
トに電子が注入されてメモリセルが消去吠態にあるとき
の閾値であり、通常、7v程度の値である。THLは、
フローティングゲートに電荷(正孔)が注入され(或は
フローティングゲートから電子が逃げ)でメモリセルに
書込みが行われたときの閾値であり、通常、−4V程度
の値である。
ここで、書換回数105以上における前記の特性の劣化
は、フローティングゲートに電荷(正孔或は電子)が充
電された電荷が抜ける(電荷抜け)ことから生じる。こ
れと同様なことが欠陥ビットのメモリセルには生じてい
ると言える。
第2図の(b)は、この場合の電荷抜けとそうなっては
いない場合のメモリセルに流れる電流値とセンスアンプ
に流れる検出電流値との関係を示している。なお、その
縦軸はメモリセルに流れる電流値[μA]である。
ここで、IOは、フローティングゲートに帯電される電
荷が完全に抜けた場合あメモリセル2に流れる電流値で
あり、Itは、正の電荷が蓄積された場合のメモリの電
流値であり、I2は、負の電荷が蓄積された場合の同様
な電流値である。また、lstは、第1のセンスアンプ
5の検出基準となる電流値であり、前記の第1の電流値
の閾値に対応する。IS2は、第2のセンスアンプ6の
検出基準となる電流値であり、前記の第2の電流値の閾
値に対応する。なお、この例は、例えば、センス線1d
(センス電圧線9)に加える電圧を一定、例えば、2v
とした場合である。
さて、ここでは、これら各センスアンプの検出基準電流
値IS1.IS2と前記の電荷が完全に抜けた場合のメ
モリセルの電流値IOとの間には、次の関係が成立して
いる必要がある。
IS2>IO>ISI このような関係にあれば、メモリセルの電流がIS2を
越えているときには、第2のセンスアンプ6は、読出し
データ“1”を検出して“0”を出力することができ、
メモリセルの電流がIS2未満のときには、読出しデー
タ“0”を検出して“1”を出力することができる。な
お、センスアンプの出力は、電流値に応じて反転動作を
する関係から書込みデータの内容とは逆にデータ書込み
状態で“0”、消去状態で“1”となるのが一般的であ
る。そこで、前記と同様に、メモリセルの電流がISl
を越えているときには、第1のセンスアンプ5は、読出
しデータ“1”を検出して“0”出力を、メモリセルの
電流がISI未溝のときには、読出しデータ“0”を検
出して“1”出力を発生することができる。
以上は、電荷抜けの生じない状態(前記の第2図の(a
)のグラフで105程度までの特性)に対応するような
メモリセル2について、一定のセンス電圧、例えば2v
程度の電圧をセンス線1eに加えて第1及び第2の電流
値の閾値に応じて各センスアンプに流れる電流の大小に
より“O” (書込み状態)か、“1” (消去状態)
を検出する場合である。しかし、欠陥ビットの発生する
メモリセルはこれと異なり、電荷抜は状態が生じている
。すなわち、第2図の(b)の(イ)〜(ハ)のO→・
で示すように、フローティングゲートに電荷抜けが生じ
て、書込み状態にある正の電荷(正孔)が放電されてメ
モリセルに流れる電流値が電流値IO側にシフトしてい
る。また、あるメモリセルでは、逆に、(ニ)、  (
ホ)の0→・で示すように、フローティングゲートに電
荷抜けが生じて、書込み状態にある負の電荷(電子)が
放電されて電流値が同様に電流値10側にシフトしてい
る。
しかし、このような状態は、第1及び第2のセンスアン
プ5,6のいずれかにより正確なデータとして読出すこ
とが可能である。
すなわち、(イ)〜(ハ)の状態が生じているときには
、第1のセンスアンプ5の検出基準電流値(第1の電流
値閾値)ISI より上側に電荷抜は状態の各電流値が
位置することからこの第1の電流値閾値■S1によりこ
の電荷抜けがあっても正確なデータを読出すことができ
る。また、(ニ)、(ホ)の状態が生じているときには
、第2のセンスアンプ6の検出基準電流値(第2の電流
値閾値)IS2よりF側に電荷抜は状態の各電流値が位
置することからこの第2の電流値閾値IS2によりこの
電荷抜けがあっても正確なデータを読出すことができる
第3図は、このような電荷抜は状態についての動作を説
明するものであって、メモリアレイ1に書込まれたある
1ワード(8ビツトで各桁をDo+D1.D21  D
31  D41  D51  D61  D7とする)
の正しいデータビットが、例えば、第3図(a)の(イ
)に示す、”10100111”であって、偶数パリデ
ィとして、この場合のパリディビット(P)が“1”に
なっているとする。そして、この正しいデータビットで
は、偶数パリディが成立しているが%D3のメモリセル
のデータに電荷抜けが発生し、′0”が“1″の状態に
変化していると仮定すれば、このような(イ)のデータ
“totoottt”を第2のセンスアンプ6で読出し
たときには、第2図の(b)の(イ)。
(ロ)の関係では、D3のビット“0”が“1″に変化
して誤ったデータとして読出される。これは、(ロ)に
示すように、“10110111”となる。このとき、
パリディビ・ットは“1”のままであり、パリディ検査
回路7のEXOR回路7bにおけるパリディは成立しな
い。一方、前記のような電荷抜けのある(イ)のデータ
“10100111”を第1のセンスアンプ5で読出し
たときに、D3のビット“0”は“O”のままきなり、
(ハ)に示すように、その読出しデータは、′1010
0111”となり、正しいデータが得られる。このとき
のパリディビットは“1”のままであり、パリディ検査
回路7のEXOR回路7aにおけるパリディは成立する
。そこで、パリディの成立した正しいデータをEXOR
回路7aの出力に応じて選択すれば、誤り訂正がなされ
た正しいデータ(ニ)を得ることができる。
このようなことから、第1のセンスアンプ5と第2のセ
ンスアンプ6とのデータをパリディ検査回路7において
パリディ検査をしてそれぞれの検出出力(EXOR回路
7 a + 7 bの出力)を出力切換回路8の端子A
、Hにそれぞれ加えてパリディが成立した側の出力に対
応する側のゲート信号を出力切換回路8の端子G、Gか
らそれぞれ発生させ、これらを出力選択回路10の各ゲ
ート回路に送出してそれぞれのデータ選択選択信号(同
時にパリディが成立していない側の出力を他のゲート回
路に送出して非選択信号)とする。このことにより出力
選択回路10の各ゲート回路(10a。
10b、・−・、10n或はlla、llb、@・・、
11nの−・方)が正しいデータを通過させて各バッフ
y12(12a、12b、I”、12nを代表して)に
正しいデータを転送することができる。
第3図の(b)は、(a)の場合とは逆にデータビット
が“1”である記憶データについて電荷抜けが発生し、
D5の“1”が“0”となっている場合、(ホ)のデー
タ“10100111”を第2のセンスアンプ6で読出
したときに、D5のビット“1”は“1”として(へ)
に示す、“610100111”の正しいデータが読出
され、パリディも成立している。一方、(ホ)のデータ
“10100111”を第1のセンスアンプ5で読出し
たときには、D5のビット“l”は“0”に変化して、
(ト)に示すように、”10100011”の誤ったデ
ータが得°られ、パリディの不成立となる。そこで、こ
の場合には、(へ)の正しいデータが出力選択回路lO
で選択されてデータビット(チ)としてバッファ12に
転送されることになる。
以E説明してきたが、実施例では、EEFROMの例を
挙げているが、この発明は、第1及び第2のセンスアン
プを設けて、これらセンスアンプの検出電流値に次の関
係が成立するようなメモリであれば、どのようなメモリ
であっても適用でき、EEPROMに限定されるもので
はない。
IS2>IO>ISI ただし、ISlは、第1のセンスアンプの検出基草とな
る電流値であり%IS2は、第2のセンスアンプの検出
基窄となる電流値であり、Ioは、“1”又は“0”の
情報を正又は負の電荷で記憶するメモリセルにおいて電
荷が完全に抜けた場合のメモリセルの電流値である。
実施例では、800回路を用いずに誤り訂正を行ってい
るが、電荷抜は以外の欠陥メモリセルについて救済する
ために多少の誤り訂正を行うため、この発明の実施例に
示すようなセンスアンプにより正しいデータを読出すこ
とに加えて、さらに、800回路を付加することをこの
発明はさまたげるものではない。
[発明の効果コ この発明にあっては、センス電圧を印加してメモリセル
に記憶されたデータを読出す第1の読出し回路及び第2
の読出し回路を設けて第1の読出し回路が電荷抜けでビ
ット誤りとな′るメモリセルに流れる電流値より小さな
電流値を検出し、第2の読出し回路が電荷抜けでビット
誤りとなるメモリセルに流れる電流値より大きな電流値
を検出するようにしているので、電荷抜けで閾値が変化
して欠陥となるメモリセルが内部に存在していてもいず
れか一方の読出し回路により正しいデータを読出すこと
が可能である。しかも、データが正しいか否かは1ピツ
トのパリディを付加して記憶しておけば判別できるので
、メモリセルの容量モ増加させないで済む。
その結果、パリディセルに大きな容量を必要とせずに、
800回路等が不要で、チップ占有面積の小さなメモリ
を実現することができる。
【図面の簡単な説明】 第1図は、この発明の自己訂正機能を有する半導体記憶
装置を適用した一実施例のEEPROMのブロック図、
第2図(a)及び(b)は、EEPROMの動作閾値−
書込み回数特性及びメモリセル電流−センスアンプ電流
特性の説明図、第3図は、その訂正原理の説明図である
。 1・・・メモリセルアレイ、1a・・・データメモリセ
ル、1b・・・バリディメモリセル、1c・・・ワード
線、ld・・・ビット線、1e・・・センス線、2・・
・メモリセル、2a・・・選択トランジスタ、2b・・
・記憶トランジスタ、3・・・ローデコーダ、4・・・
カラムデコーダ、 5*  5a+  5b、5n−・・第1のセンスアン
プ、e、eat 6b* 6n−・・第2のセンスアン
プ、7・・・パリディ検査回路、8・・・出力選択回路
、9・・・ゲート回路群。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ゲート電極に電子又は正孔の電荷を帯電すること
    により情報を記憶する不揮発性のメモリセル複数と、こ
    れら複数のメモリセルの少なくとも1つを選択するため
    に前記メモリセルに接続されたワード線と、これら複数
    のメモリセルのうち選択されたメモリセルとの間でデー
    タの授受を行うために前記メモリセルに接続されたビッ
    ト線と、前記ゲート電極に接続されたセンス線とを具え
    る、複数のメモリセルの一部にパリテイデータを記憶す
    るメモリアレイと、前記センス線にセンス電圧を印加し
    て前記メモリセルに記憶されたデータを読出す第1の読
    出し回路及び第2の読出し回路と、第1の読出し回路か
    ら得られる読出しデータ及び第2の読出し回路から得ら
    れる読出しデータのそれぞれについてパリディ検査を行
    うパリディ検査回路と、このパリディ検査回路の検査結
    果に応じて正しいとされる第1及び第2の読出し回路の
    一方の出力を選択する選択回路とを備え、第1の読出し
    回路は“1”又は“0”の情報を記憶している前記ゲー
    ト電極に帯電された電荷が抜けた状態のときに前記セン
    ス電圧をかけて前記メモリセルに流れる電流値より小さ
    い値を前記“1”又は“0”の検出基準としてデータを
    読出すものであり、第2の読出し回路は“1”又は“0
    ”の情報を記憶している前記ゲート電極に帯電された電
    荷が抜けた状態のときに前記センス電圧をかけて前記メ
    モリセルに流れる電流値より大きい値を前記“1”又は
    “0”の検出基準としてデータを読出すものであること
    を特徴とする自己訂正機能を有する半導体記憶装置。
  2. (2)メモリセルはMOSで構成され、ゲート電極は前
    記MOSのドレイン上に局所的に設けられたトンネル酸
    化膜を介して形成されたフローティングゲートであって
    、メモリアレイはデータを記憶するメモリセルとパリデ
    ィを記憶するメモリセルとで構成されるEEPROMで
    あり、第1及び第2の読出し回路はビット線に接続され
    るセンスアンプであり、選択回路はパリディ検査回路か
    ら検査結果を受けて第1及び第2の読出し回路のうちパ
    リディが成立している側の読出し回路の出力を有効とす
    るゲート回路であることを特徴とする請求項1記載の自
    己訂正機能を有する半導体記憶装置。
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