JPH02301570A - 無電解複合めっき装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ＡＱ、Ｏ，、ＳｉＣ，ポリテトラフルオロエ
チレン等の複合材を共析した無電解複合ニッケルめっき
皮膜などの無電解複合めっき皮膜を得るための無電解複
合めっき装置に関する。

〔従来の技術〕

従来より、無電解ニッケルめっき等の無電解めっき浴中
にＡＱ、○、、ＳｉＣ，ポリテトラフルオロエチレン等
の複合材を分散してめっきを行ない、無電解めっき皮膜
中に該複合材を共析、複合し、無電解めっき皮膜に複合
材の特性を付与することが知られている。

この場合、複合材を無電解めっき浴中に均一に分散させ
るためにノニオン系、アニオン系、カチオン系等の界面
活性剤を添加することが行われている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、無電解めっき、特に無電解ニッケルめっ
きは、９０℃程度の高温でめっきを行なうため、還元反
応が激しく、これにより多量の水素ガスが発生する。こ
の場合、めっき浴中に界面活番剤が含まれていなければ
水素ガスの発生はめっき作業上特別な支障を生じず、ま
た複合電気めっきの場合は、複合材を分散させるために
界面活性剤を添加していても、水素ガスの発生が殆んど
ないので、同様にめっき作業上支障がないが、無電解複
合めっき浴中には上述したように界面活性剤が添加され
ているので、水素ガスの多量発生により多量の泡が発生
し、めっき浴の液面を覆う。

この際、泡の消失速度は、めっき反応により生じた多量
の水素発生に伴なう泡生成速度に追いつかないので、泡
はめっき液面を越えて高く盛り上がる。

そして、このように泡がめつき液面を覆うことはめっき
浴の蒸発を抑えるため、補給液の補給上に問題を生じさ
せる。即ち、めっき反応によりニッケルが還元析出され
ていくにつれ、めっき浴中のニッケルイオン及び還元剤
濃度が低下し、かつｐＨも低下していくため、めっき浴
組成を正常に戻すためにニッケルイオン、還元剤、アル
カリを補給しなければならない。通常、これら補給成分
はそれぞれ別個の水溶液として補給するが、泡によって
めっき浴の蒸発が抑えられ、めっき浴の減量がほとんど
ないので、補給液の補給によりめっき浴が増量し、遂に
はめつき浴の一部を廃棄しないと補給ができなくなると
いう事態が生じる。また、泡の発生はめっき洛中に分散
している粒子が浮１ｉ！！鉱状になるので、浴中の分散
量が減少する。

本発明はかかる問題を解決するためになされたもので、
効率よく泡を除去し、めっき浴の蒸発を適度なものにし
て補給液の補給に支障を生じさせないようにし、かつ複
合材の浴中の分散性を均一にするようにした無電解複合
めっき装置を提供することを目的とする。

（課題を解決するための手段〕 本発明は、上記目的を達成するため、粉粒状又は繊維状
複合材とこれを分散させる界面活性剤とを含有する無電
解複合めっき浴を収容するめっき槽と、このめっき槽の
一側方に連設された泡排出用のオーバーフロー槽と、上
記めっき槽のオーバーフロー槽連設側の壁部と対向する
他側壁部の上側にその噴射口から上記めっき浴の液面方
向に沿って噴射流体が噴出するように配設されたスプレ
ー装置とを具備し、上記めっき槽内のめっき浴の液面を
越えて生じた泡を上記スプレー装置から噴出した流体に
より吹き飛ばして上記オーバーフロー槽内に排出するよ
う構成したものである。

〔作　用〕

本発明装置を用いて無電解複合めっきを行なう場合、従
来と同様にめっき反応により水素ガスが発生し、めっき
洛中には界面活性剤が含まれているので、水素ガスの発
生に伴なって泡が生成するが、本発明装置においては、
めっき槽の一側方にオーバーフロー槽を連設すると共に
、めっき槽の該オーバーフロー槽連設側の壁部と対向す
る他側壁部の上側にその噴射口から上記めっき浴の液面
方向に沿って噴射流体が噴出するようにスプレー装置を
配設しているので、めっき浴の液面を越えて泡が生じて
も、上記スプレー装置より水、めっき液、或いは空気等
の流体を噴出させることにより泡を吹き飛ばしてオーバ
ーフロー槽内に排出することができる。

従って、めっき浴の液面を泡が覆ってその蒸発を妨げる
ことが防止され、めっき浴が適度に蒸発するので、補給
液を補給してもめっき浴が増量することがなく、従って
補給を支障なく行なうことができると共に、複合材の分
散量の低下がないものである。

以下、本発明の一実施例につき図面を参照して説明する
。

〔実施例〕

図中１は、内部に無電解複合めっき液２を収容する四角
箱型のめっき槽で、ステンレススチール又は耐熱性樹脂
により形成されている。このめっき槽１の一側壁３はオ
ーバーフロー壁として他の側壁より低く形成され、この
オーバーフロー壁３を共通の一側壁とするオーバーフロ
ー槽４がめつき槽１と一体に連設されている。上記めっ
き槽１の底壁には、その−隅部近傍に存してめっき液吸
込口５が形成され、該吸込口５にはポンプ６を介装する
循環パイプ７の一端部が連結され、このバイブ７の他端
部はめっき槽１の上記−隅部と対向する他階部近傍の下
部に配置されている。なお、上記ポンプ６の接液部は耐
熱性のセラミック又はステンレススチールにて形成され
る。また、ポンプ７に粗いメツシュのフィルターを設け
、金屈粒などの不純物を常時取り除くようにすることが
できる。

上記めっき槽１の互に対向する他方の両隅部近傍にはそ
れぞれプロペラ撹拌機８，９が配設され、一方のプロペ
ラ撹拌機８の近傍にはヒーター、加熱用フィン等の加熱
装置１０が配設されていると共に、他方のプロペラ撹拌
機９の近傍には補給液供給用パイプ１１が配設されてい
る。なお、該パイプ１１と共に水面調整用の水補充パイ
プを配設することもできる。

上記オーバーフロー槽４内には、ステンレススチール又
は耐熱性樹脂製の網、多数の小孔やスリットが形成され
た板等の消泡装置１２が配設されており、また該槽４の
底壁には液排出口１３が形成され、これにバルブ１４を
介装する排出用パイプ１５の一端部が連結されていると
共に、該パイプ１５の他端部は上記循環パイプ７に連結
されている。

上記めっき槽１には、オーバーフロー壁３と対向する他
側壁には、めっき槽１内のめっき液２液面と相応する位
置に該他側壁を貫通してスプレー装置１６が配設されて
いる。該スプレー装置１６には、上記循環パイプ７から
分岐する分岐９１７が連結され、この分岐管１７に介装
するバルブ１８を開くことにより、めっき液２がスプレ
ー装置１６から水平方向に（めっき槽１内のめっき液２
液而に沿って）噴出されるようになっている。

ここで、めっき液は、粉粒状又は繊維状複合材、例えば
ＡＱ２０）　＋　Ｓ　ｘ　Ｃｔその他の無機粒子、ボイ
スカー、ポリテトラフルオロエチレン、そのイ也の有機
粒子、繊維などを分散し、かつ複合材を分散する界面活
性剤を含有する無電解ニッケルめっき浴等の公知の無電
解複合めっき浴とすることができる。この場合、界面活
性剤としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン系９
両性イオン系等のいずれでもよいが１本発明にあっては
水素ガスの多量発生により多量の泡を生成する界面活性
剤を有効に使用し得る。

上述しためっき装置を用いて無電解複合めっきを行なう
場合は、加熱装置１０によりめっき液２を例えば９０℃
に加熱し、ポンプ６を作動させてめっき槽１中のめっき
液２を循環パイプ７により循環させ、これによりめっき
液２を流動撹拌させて、めっき液２中に複合材を均一に
分散させた状態でめっきを行なう。なお、めっき液の撹
拌は同時にプロペラ撹拌機８，９を作動させることによ
っても行なわれる。この場合、めっき槽の各隅部及び内
底面と各内側面との縁部をいずれも丸味を持って形成す
れば、めっき液の流動がよどみなくスムーズに行なわれ
、より確実に複合材をめっき液中に均一分散できる。

めっきは、被めっき物をめっき液２中に浸漬することに
より行なわれるが、めっきの進行と共にめっき液２中に
はめっき反応により多量の水素ガスが発生する。水素ガ
スはめっき液２中を上昇して大気に放出されるが、この
際めっき液２中には界面活性剤が添加されているので、
水素の発生と共に泡が生成し、泡はめっき液２の液面を
覆う。

このように泡がめつき液２の液面を覆った場合は、バル
ブ１７を開き、循環パイプ７を流れるめっき液２の一部
を分岐管１７に導入し、該めっき液２をスプレー装置１
６により噴出させ、泡を吹き飛ばし、オーバーフロー槽
４内に排出する。泡はこのオーバーフロー槽４の消泡装
置１２により消泡され、オーバーフロー槽４の底に溜っ
ためっき液２は、バルブ１４を開くことにより、パイプ
１５及び７内を通ってめっき槽１内に戻される。

めっきの進行につれ、めっき液２中の金属塩、還元剤濃
度が低下し、ｐＨが低下するので、補給液を添加し、め
っき液組成を元の状態に戻す必要がある。補給液は補給
液供給用パイプ１１を通して行なわれるが１本発明にお
いては、泡がスプレー装置１６によってめっき液２の液
面から適宜排出されるので、めっき液の蒸発が阻害され
ず、適度に蒸発される。このため、補給液の供給によっ
てめっき液２が最初の量を越えて増量することがなく、
従って補給液の補給によりめっき液濃度が良好に調整さ
れると共に、めっき液量も適度なものに保持される。こ
の場合、めっき液量が初期の量よりも少なくなれば、め
っき液面を調整するために水を加えることができる。

それ故１本発明によれば、めっき液を泡が覆ってめっき
液の蒸発を妨げることがないので、補給が支障なく行な
われ、めっき作業を連続してスムーズに実施することが
できると共に、複合材分散量の低下もな（、所定の共析
量を持った複合めっきが行なわれる。

なお１本発明の装置は第１，２図に示すものに限られる
ものではなく、例えばスプレー装置は複数個配設するよ
うにしてもよく、また泡を吹き飛ばすめっき液としては
、例えば循環パイプ７から分岐管１７を分岐させず、オ
ーバーフロー槽４の排出用パイプ１５をスプレー装置１
６に直結し、該オーバーフロー槽４内のめっき液をスプ
レー装置Ｆ１６に直接供給するようにしてもよく、また
めっき液の代わりに水や空気を別途供給してもよく、要
は泡を吹き飛ばし得る流体であれば差し支えない。この
場合、これら流体はスプレー装置から常時連続的に噴出
するようにしてもよく、適宜間隔毎に間欠的に噴出する
ようにしてもよい。なおまた、その他の構成についても
本発明の要旨の範囲内で種々変更することができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明によれば、無電解複合めっ
き液中に界面活性剤が添加され、めっき反応により生じ
る水素ガスに起因して泡が生成し、泡がめつき浴の液面
を覆うようになっても、直ちに泡を吹き飛ばし、液面を
顕わすことができるので、めっき浴の蒸発が妨げられず
、補給液の補給に支障が生じることがないと共に、複合
材分散量の低下もない、このため、めっき浴組成が良好
に維持され、良好な無電解めっきが行なわれるものであ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す概略平面図、第２図は
第１図Ａ−ＡＩＩＡに沿った断面図である。 １１１．めっき槽　　　　　　２・・・無電解複合めっ
き液３・・・オーバーフロー壁　　４・・・オーバーフ
ロー槽１２・・・消泡袋＠　　　　　１６・・スプレー
装置出願人　　上　村　工　業　株式会社 代理人　　弁理士　小　島　降　司 （他１名） 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １．粉粒状又は繊維状複合材とこれを分散させる界面活
   性剤とを含有する無電解複合めっき浴を収容するめっき
   槽と、このめっき槽の一側方に連設された泡排出用のオ
   ーバーフロー槽と、上記めっき槽のオーバーフロー槽連
   設側の壁部と対向する他側壁部の上側にその噴射口から
   上記めっき浴の液面方向に沿って噴射流体が噴出するよ
   うに配設されたスプレー装置とを具備し、上記めっき槽
   内のめっき浴の液面を越えて生じた泡を上記スプレー装
   置から噴出した流体により吹き飛ばして上記オーバーフ
   ロー槽内に排出するよう構成したことを特徴とする無電
   解複合めっき装置。