JPH0229742B2 - Denkyokujochakuhoho - Google Patents
DenkyokujochakuhohoInfo
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- JPH0229742B2 JPH0229742B2 JP20061981A JP20061981A JPH0229742B2 JP H0229742 B2 JPH0229742 B2 JP H0229742B2 JP 20061981 A JP20061981 A JP 20061981A JP 20061981 A JP20061981 A JP 20061981A JP H0229742 B2 JPH0229742 B2 JP H0229742B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- electrode
- vapor deposition
- forming surface
- electrode forming
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- Expired - Lifetime
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 6
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007688 edging Methods 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
- C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
- C23C14/044—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks using masks to redistribute rather than totally prevent coating, e.g. producing thickness gradient
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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- Transducers For Ultrasonic Waves (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は同心の多重電極の作成に適した電極
蒸着方法に関する。
蒸着方法に関する。
例えば周知の超音波送受素子として第１図に示
すように柱状の音響素子１の端面に同心の多重電
極２を形成した所謂多重電極構造のものが用いら
れている。
すように柱状の音響素子１の端面に同心の多重電
極２を形成した所謂多重電極構造のものが用いら
れている。
しかして、従来このような送受素子では音響素
子１に多重電極２を形成するのにフオトエツジン
グの手法が多く用いられている。
子１に多重電極２を形成するのにフオトエツジン
グの手法が多く用いられている。
ところが、このようなフオトエツジングは多重
電極を得るのに多数の工程を要するため多大の手
間がかり極めて面倒な欠点があつた。
電極を得るのに多数の工程を要するため多大の手
間がかり極めて面倒な欠点があつた。
この発明は上記欠点を除去するためになされた
もので、同心の多重電極を簡単に作成できる電極
蒸着方法を提供することを目的とする。
もので、同心の多重電極を簡単に作成できる電極
蒸着方法を提供することを目的とする。
以下、この発明の一実施例を説明する。
この場合、かかる実施例では超音波顕微鏡に用
いられる超音波送受素子の同心二重電極を蒸着す
る方法について述べる。
いられる超音波送受素子の同心二重電極を蒸着す
る方法について述べる。
まず、第２図に示すような二重電極作用の蒸着
マスク１１を用意する。この蒸着マスク１１は板
面の略中央部に円形のスリツト１１１を形成する
とともにこのスリツト１１１を中心として複数
（図示例では３個）の円弧状スリツト１１２を円
周方向に所定間隔をおいて形成している。
マスク１１を用意する。この蒸着マスク１１は板
面の略中央部に円形のスリツト１１１を形成する
とともにこのスリツト１１１を中心として複数
（図示例では３個）の円弧状スリツト１１２を円
周方向に所定間隔をおいて形成している。
そして、このような蒸着マスク１１を第３図に
示すように音響素子１２の電極形成面１２１上に
セツトする。この場合音響素子１２はホルダー１
３に保持されるととも電極形成面１２１の中心に
上記マスク１１の中心つまり円形状スリツト１１
１の中心が一致するようにしている。
示すように音響素子１２の電極形成面１２１上に
セツトする。この場合音響素子１２はホルダー１
３に保持されるととも電極形成面１２１の中心に
上記マスク１１の中心つまり円形状スリツト１１
１の中心が一致するようにしている。
この状態から、一度マスク１１を介して音響素
子１２の電極形成面１２１に電極材料例えば金を
真空蒸着する。この結果、第４図ａに示すような
電極パターンが得られる。
子１２の電極形成面１２１に電極材料例えば金を
真空蒸着する。この結果、第４図ａに示すような
電極パターンが得られる。
次に、音響素子１２の電極形成面１２１又はマ
スク１１を所定角度例えば90゜回転させる。この
場合、予め一致させた電極形成面１２１の中心と
マスク１１の中心がずれないようにすることが必
要である。
スク１１を所定角度例えば90゜回転させる。この
場合、予め一致させた電極形成面１２１の中心と
マスク１１の中心がずれないようにすることが必
要である。
この状態から、再度音響素子１２の電極形成面
１２１に電極材料を真空蒸着する。この結果第４
図ｂに示すような同心の二重電極パターンが得ら
れる。
１２１に電極材料を真空蒸着する。この結果第４
図ｂに示すような同心の二重電極パターンが得ら
れる。
したがつて、このような方法によれば円形のス
リツトを形成するとともにこのスリツトを中心と
して複数個の円弧状スリツトを円周方向に所定間
隔をおいて形成した蒸着マスクを用い、このマス
クを音響素子の電極形成面上にセツトし一度蒸着
を行ないこの後、マスクの中心がずれないように
してマスク又は電極形成面を相対的に所定角度回
転して再度蒸着を行なうのみで同心の二重電極パ
ターンが得られるので、従来の工程の多い時間の
かかるフオトエツジング手法に比べ簡単に且つ短
時間に二重電極を作成することができる。
リツトを形成するとともにこのスリツトを中心と
して複数個の円弧状スリツトを円周方向に所定間
隔をおいて形成した蒸着マスクを用い、このマス
クを音響素子の電極形成面上にセツトし一度蒸着
を行ないこの後、マスクの中心がずれないように
してマスク又は電極形成面を相対的に所定角度回
転して再度蒸着を行なうのみで同心の二重電極パ
ターンが得られるので、従来の工程の多い時間の
かかるフオトエツジング手法に比べ簡単に且つ短
時間に二重電極を作成することができる。
なお、この発明は上記実施例にのみ限定されず
要旨を変形しない範囲で適宜変形して実施でき
る。例えばこの方法は超音波の集束手段として用
いられるAZP（Acoustic Zone Plate）の三重リ
ング状電極の作成にも適用できる。この場合第５
図に示すように円周方向に所定間隔をおいて形成
した複数個の円弧状スリツト２１１を三重に形成
した蒸着マスク３を用い、このマスク２１を上述
と同様音響素子の電極形成面にセツトし一度蒸着
を行なつたのちマスクの中心がずれないようにし
てマスク又は電極形成面を所定角度界回転しつつ
蒸着を繰返していけば三重のリング状電極を作成
できることになる。
要旨を変形しない範囲で適宜変形して実施でき
る。例えばこの方法は超音波の集束手段として用
いられるAZP（Acoustic Zone Plate）の三重リ
ング状電極の作成にも適用できる。この場合第５
図に示すように円周方向に所定間隔をおいて形成
した複数個の円弧状スリツト２１１を三重に形成
した蒸着マスク３を用い、このマスク２１を上述
と同様音響素子の電極形成面にセツトし一度蒸着
を行なつたのちマスクの中心がずれないようにし
てマスク又は電極形成面を所定角度界回転しつつ
蒸着を繰返していけば三重のリング状電極を作成
できることになる。
以上述べたようにこの発明によれば同心の多重
電極を簡単に作成できる電極蒸着方法を提供でき
る。
電極を簡単に作成できる電極蒸着方法を提供でき
る。
第１図は一般的な多重電極構造の一例を説明す
るための概略的構成図、第２図はこの発明の一実
施例に用いられる蒸着マスクを示す正面図、第３
図および第４図ａ，ｂは同実施例を説明するため
の説明図、第５図はこの発明の他実施例に用いら
れる蒸着マスクを示す正面図である。 １……音響素子、２……多重電極、１１，２１
……マスク、１１１……スリツト、１１２，２１
１……円弧状スリツト、１２……音響素子、１２
１……電極形成面、１３……ホルダー。
るための概略的構成図、第２図はこの発明の一実
施例に用いられる蒸着マスクを示す正面図、第３
図および第４図ａ，ｂは同実施例を説明するため
の説明図、第５図はこの発明の他実施例に用いら
れる蒸着マスクを示す正面図である。 １……音響素子、２……多重電極、１１，２１
……マスク、１１１……スリツト、１１２，２１
１……円弧状スリツト、１２……音響素子、１２
１……電極形成面、１３……ホルダー。
Claims (1)
- １ 複数の円弧状スリツトを円周方向に所定間隔
をおいて形成した蒸着マスクを電極形成面上にセ
ツトし、一度マスクを通して電極形成面に電極材
を蒸着し、こののちマスクの中心がずれないよう
にしてマスク又は電極形成面を相対的に所定角度
回転して上記蒸着を繰返すようにしたことを特徴
とする電極蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20061981A JPH0229742B2 (ja) | 1981-12-12 | 1981-12-12 | Denkyokujochakuhoho |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20061981A JPH0229742B2 (ja) | 1981-12-12 | 1981-12-12 | Denkyokujochakuhoho |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58104178A JPS58104178A (ja) | 1983-06-21 |
| JPH0229742B2 true JPH0229742B2 (ja) | 1990-07-02 |
Family
ID=16427383
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20061981A Expired - Lifetime JPH0229742B2 (ja) | 1981-12-12 | 1981-12-12 | Denkyokujochakuhoho |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0229742B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61158944U (ja) * | 1985-03-26 | 1986-10-02 | ||
| JPH04187753A (ja) * | 1990-11-21 | 1992-07-06 | Daihatsu Motor Co Ltd | 溶射用線材 |
| JPH0479691U (ja) * | 1990-11-26 | 1992-07-10 | ||
| JP2008275728A (ja) * | 2007-04-26 | 2008-11-13 | Konica Minolta Opto Inc | 光学膜形成用治具及び光学素子 |
-
1981
- 1981-12-12 JP JP20061981A patent/JPH0229742B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS58104178A (ja) | 1983-06-21 |
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