JPH02297100A - Ｘ線取出し窓付ゲートバルブ - Google Patents
Ｘ線取出し窓付ゲートバルブInfo
- Publication number
- JPH02297100A JPH02297100A JP1119674A JP11967489A JPH02297100A JP H02297100 A JPH02297100 A JP H02297100A JP 1119674 A JP1119674 A JP 1119674A JP 11967489 A JP11967489 A JP 11967489A JP H02297100 A JPH02297100 A JP H02297100A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- partition
- ray
- window
- passage hole
- gate valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims abstract description 84
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 37
- 239000001307 helium Substances 0.000 claims abstract description 37
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 37
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 52
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 claims description 11
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 abstract description 20
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70975—Assembly, maintenance, transport or storage of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70841—Constructional issues related to vacuum environment, e.g. load-lock chamber
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明はシンクロトロンからＸ線を取出すビームライン
に関し、特に超高真空部のＸ線取出し窓に関する。
に関し、特に超高真空部のＸ線取出し窓に関する。
［従来の技術］
第６図は、従来のＸ線取出し窓を用いたシンクロトロン
放射光取出し用ビームラインの斜視図、第７図は第６図
に示すＸ線取出し窓９１の縦断面図である。
放射光取出し用ビームラインの斜視図、第７図は第６図
に示すＸ線取出し窓９１の縦断面図である。
このシンクロトロン放射光取出し用ビームラインはミラ
ーチェンバー４、長直線部１９、ヘリウムチェンバー１
０を含むメインバイブ２と、Ｘ線反射ミラー３と、ミラ
ー駆動系５と、真空ポンプ６．１３と、ゲートバルプ７
．８，１２．１４と、シャッター１１と、ヘリウム導入
口１７と、Ｘ線取出し窓９１．１５からなり、シンクロ
トロンの蓄積リング１からＸ線がこのビームラインに放
射され、Ｘ線取出し窓９１．１５を経て露光用アライナ
１６に到達し、ここでウェハとマスクがアラインされて
露光に供される。
ーチェンバー４、長直線部１９、ヘリウムチェンバー１
０を含むメインバイブ２と、Ｘ線反射ミラー３と、ミラ
ー駆動系５と、真空ポンプ６．１３と、ゲートバルプ７
．８，１２．１４と、シャッター１１と、ヘリウム導入
口１７と、Ｘ線取出し窓９１．１５からなり、シンクロ
トロンの蓄積リング１からＸ線がこのビームラインに放
射され、Ｘ線取出し窓９１．１５を経て露光用アライナ
１６に到達し、ここでウェハとマスクがアラインされて
露光に供される。
ここで、蓄積リング１、ミラーチェンバー４、長直線部
１９は１０−”Ｔｏｒｒの超高真空となっており、Ｘ線
取出し窓９１と１５との間には１気圧のヘリウムが満た
され、露光用アライナ１６は一般に大気中露光方式が主
に用いられているため、超高真空と１気圧とを隔てるＸ
線取出し窓９１が設けられている。Ｘ線取出し窓９１は
Ｘ線の透過率が高いＳｉＮ、ＳｉＣ等の無機膜やポリイ
ミド、ポリプロピレン等の有機膜が用いられ、高効率な
Ｘ線取出しを行なうため、膜厚が１０〜２０μｍの薄い
膜が使用されている。また、これらＸ線取出し窓９１．
１５は長時間放射光によって照射されると劣化するので
ときどき交換する必要がある。
１９は１０−”Ｔｏｒｒの超高真空となっており、Ｘ線
取出し窓９１と１５との間には１気圧のヘリウムが満た
され、露光用アライナ１６は一般に大気中露光方式が主
に用いられているため、超高真空と１気圧とを隔てるＸ
線取出し窓９１が設けられている。Ｘ線取出し窓９１は
Ｘ線の透過率が高いＳｉＮ、ＳｉＣ等の無機膜やポリイ
ミド、ポリプロピレン等の有機膜が用いられ、高効率な
Ｘ線取出しを行なうため、膜厚が１０〜２０μｍの薄い
膜が使用されている。また、これらＸ線取出し窓９１．
１５は長時間放射光によって照射されると劣化するので
ときどき交換する必要がある。
［発明が解決しようとする課題］
上述した従来のビームラインの超高真空の長直線部と１
気圧のヘリウムチェンバーとの間に固定して取付けられ
ているＸ線取出し窓は、超高真空側を大気圧にしなけれ
ば窓の取替えができず、また、Ｘ線取出し窓が直接ビー
ムラインに固定して取付けられているのでビームライン
を切離して取替λることになり、多数のボルトを外すた
め、作業時間がかかるとともに交換後のリークの発生も
考えられ、さらに超高真空側の真空工程にはベーキング
を要し、最低２日が必要となり、長時間を要するという
欠点がある。
気圧のヘリウムチェンバーとの間に固定して取付けられ
ているＸ線取出し窓は、超高真空側を大気圧にしなけれ
ば窓の取替えができず、また、Ｘ線取出し窓が直接ビー
ムラインに固定して取付けられているのでビームライン
を切離して取替λることになり、多数のボルトを外すた
め、作業時間がかかるとともに交換後のリークの発生も
考えられ、さらに超高真空側の真空工程にはベーキング
を要し、最低２日が必要となり、長時間を要するという
欠点がある。
本発明の目的は、長時間をかけず、容易にＸ線取出し窓
の取替えができるＸ線取出し窓付ゲートバルプを提供す
ることである。
の取替えができるＸ線取出し窓付ゲートバルプを提供す
ることである。
［課題を解決するための手段］
本発明のＸ線取出し窓付ゲートバルプは長直線部の軸線
に交わり、互いに対向し、対向する面が互いに平行な側
壁で囲まれた空間を有し、両側壁にはそれぞれ長直線部
、ヘリウムチェンバーに連なる第１、第２のＸ線通過孔
が設けられ、ヘリウムチェンバー側の側壁の、ヘリウム
チェンバーとのフランジ面を除く部分に開口が設けられ
ているボディと、 一方の側面は第１のＸ線通過孔を閉塞するだけの大きさ
があり、該側面の中央部から他方の側面に貫通するＸ線
通過孔が設けられ、該Ｘ線通過孔を取囲むシールリング
を保持し、他方の側面にはＸ線取出し窓がシールリング
を介して取外し可能に取付けられている第１の隔壁と、 一方の側面がシールリングを保持し、第１のＸ線通過孔
を該シールリングを介して閉塞するだけの大きさを有す
る第２の隔壁と、 ボディの前記開口を外側から閉塞する、取外し可能な閉
塞板と、 第１、第２の隔壁とともにボディ内に収容され、第２の
隔壁がボディの第１のＸ線通過孔にあるとき第１の隔壁
がボディの前記開口と対向可能な位置関係に第１、第２
の隔壁を保持し、ボディの第１のＸ線通過孔と対峙する
位置にある隔壁の側面なボディの内面に押当てる作用を
する隔壁押し当て部材と、 第１の隔壁が第１のＸ線通過孔と対峙する位置にあると
き、第２の隔壁がボディの前記開口と反対側に位置し、
第２の隔壁が第１のＸ線通過孔と対峙する位置にあると
き第１の隔壁がボディの前記開口と対峙するように、隔
壁押し当て部材を移動させる駆動機構とを有し、 前記開口は第１の隔壁のＸ線取出し窓をボディの外から
取外せるだけの大きさである。
に交わり、互いに対向し、対向する面が互いに平行な側
壁で囲まれた空間を有し、両側壁にはそれぞれ長直線部
、ヘリウムチェンバーに連なる第１、第２のＸ線通過孔
が設けられ、ヘリウムチェンバー側の側壁の、ヘリウム
チェンバーとのフランジ面を除く部分に開口が設けられ
ているボディと、 一方の側面は第１のＸ線通過孔を閉塞するだけの大きさ
があり、該側面の中央部から他方の側面に貫通するＸ線
通過孔が設けられ、該Ｘ線通過孔を取囲むシールリング
を保持し、他方の側面にはＸ線取出し窓がシールリング
を介して取外し可能に取付けられている第１の隔壁と、 一方の側面がシールリングを保持し、第１のＸ線通過孔
を該シールリングを介して閉塞するだけの大きさを有す
る第２の隔壁と、 ボディの前記開口を外側から閉塞する、取外し可能な閉
塞板と、 第１、第２の隔壁とともにボディ内に収容され、第２の
隔壁がボディの第１のＸ線通過孔にあるとき第１の隔壁
がボディの前記開口と対向可能な位置関係に第１、第２
の隔壁を保持し、ボディの第１のＸ線通過孔と対峙する
位置にある隔壁の側面なボディの内面に押当てる作用を
する隔壁押し当て部材と、 第１の隔壁が第１のＸ線通過孔と対峙する位置にあると
き、第２の隔壁がボディの前記開口と反対側に位置し、
第２の隔壁が第１のＸ線通過孔と対峙する位置にあると
き第１の隔壁がボディの前記開口と対峙するように、隔
壁押し当て部材を移動させる駆動機構とを有し、 前記開口は第１の隔壁のＸ線取出し窓をボディの外から
取外せるだけの大きさである。
［作 用］
Ｘ線取出し窓を取替える場合、ヘリウムチェンバーを１
０−’Ｔｏｒｒ台の高真空にし、本Ｘ線取出し窓付ゲー
トバルプの第１の隔壁なボディの開口部へ移動させ、連
動して第１のＸ線通過孔に対峙した第２の隔壁をボディ
の内壁に押当て、ヘリウムチェンバーを大気圧にし、開
口の閉塞板を取外してＸ線取出し窓を取替える。その後
、開口の閉塞板を取付け、ヘリウムチェンバーを再び１
Ｏ−６Ｔｏｒｒ台の高真空にし、第１の隔壁を第１のＸ
線通過孔の位置に移動させてボディの内壁に押当て、ヘ
リウムチェンバーをヘリウム１気圧に戻すことにより、
容易にＸ線取出し窓の取替えが行なわれる。
０−’Ｔｏｒｒ台の高真空にし、本Ｘ線取出し窓付ゲー
トバルプの第１の隔壁なボディの開口部へ移動させ、連
動して第１のＸ線通過孔に対峙した第２の隔壁をボディ
の内壁に押当て、ヘリウムチェンバーを大気圧にし、開
口の閉塞板を取外してＸ線取出し窓を取替える。その後
、開口の閉塞板を取付け、ヘリウムチェンバーを再び１
Ｏ−６Ｔｏｒｒ台の高真空にし、第１の隔壁を第１のＸ
線通過孔の位置に移動させてボディの内壁に押当て、ヘ
リウムチェンバーをヘリウム１気圧に戻すことにより、
容易にＸ線取出し窓の取替えが行なわれる。
［実施例］
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明のＸ線取出し窓付ゲートバルプの一実施
例が取付けられたシンクロトロン放射光取出し用ビーム
ラインの斜視図、第２図は第１図に示すベリリウム窓２
３と可視光線透過窓４１とが取付けられたゲートバルプ
１８＋の縦断面図、第３図は第２図の隔壁３２がフラン
ジ２７の位置に対峙した状態のゲートバルプ１８．の縦
断面図、第４図は第３図の隔壁３７＋の近傍の拡大縦断
面図である。
例が取付けられたシンクロトロン放射光取出し用ビーム
ラインの斜視図、第２図は第１図に示すベリリウム窓２
３と可視光線透過窓４１とが取付けられたゲートバルプ
１８＋の縦断面図、第３図は第２図の隔壁３２がフラン
ジ２７の位置に対峙した状態のゲートバルプ１８．の縦
断面図、第４図は第３図の隔壁３７＋の近傍の拡大縦断
面図である。
このシンクロトロン放射光取出し用ビームラインは第６
図に示す従来のシンクロトロン放射光取出し用ビームラ
インのＸ線取出し窓９１の代りにベリリウム窓２３が取
付けられた隔壁３２と可視光線通過窓４１が取付けられ
た隔壁３７１を含むゲートバルプ１８．が取付けられた
ものである。
図に示す従来のシンクロトロン放射光取出し用ビームラ
インのＸ線取出し窓９１の代りにベリリウム窓２３が取
付けられた隔壁３２と可視光線通過窓４１が取付けられ
た隔壁３７１を含むゲートバルプ１８．が取付けられた
ものである。
ゲートバルプ１８．は、ボディ４０と、バルブ駆動ノブ
３０と、隔壁駆動棒２６と、隔壁３２゜３７１と、隔壁
カム押板２４からなる。ボディ４０は、メインバイブ２
の長直線部１９の下流側端部のフランジと、ヘリウムチ
ェンバー１０の上流側端部のフランジにそれぞれ接続さ
れる接続フランジ２５．．２５□と、ビームラインの上
流側と下流側とに設けられ、長直線部１９の軸線に垂直
な内壁面を有し、接続フランジ２５１，２５２をそれぞ
れ含む側壁４８１．４８□と、側壁４８□上の接続フラ
ンジ２５２の上部と下部に設けられ、それぞれに閉塞板
２８と４２が止ねじ２９１．２９゜で取外し可能に取付
けられたフランジ２７と４６と、上端中央部に真空ベロ
ーズ４９が設けられた筒状の連絡孔を有し、０リング５
０を介して取外し可能に取付けられた頭部と、側壁４８
１の内壁の上端部と下端部近傍にストッパ３４．３３を
有している。隔壁３２はボディ４０内に上昇・下降可能
に設けられ、ボディ４０のＸ線通過孔４３を完全に覆う
大きさの外径を有し、中央にＸ線通過孔４３の直径より
小さい直径のＸ線通過孔４４が、設けられ、上流側の面
にＸ線通過孔４４と同心円の溝に保持された２０リング
３９を有し、他方の面にＸ線通過孔４４を覆うベリリウ
ム窓２３がＯリング２１ ｌを介してベリリウム窓保持
板２ｏと止ねじ２２＋により取外し可能に取付けられて
いる。隔壁３７．は、隔壁３２と同様の構造を有し、ベ
リリウム窓２３の代りに可視光線透過窓４１が設けられ
、隔壁３２と接続され、そのベリリウム窓２３の中心点
と可視光線透過窓４１の中心点との距離はボディ４０の
接続フランジ２５□の中心点とフランジ２７の中心点と
の距離と等しい。
３０と、隔壁駆動棒２６と、隔壁３２゜３７１と、隔壁
カム押板２４からなる。ボディ４０は、メインバイブ２
の長直線部１９の下流側端部のフランジと、ヘリウムチ
ェンバー１０の上流側端部のフランジにそれぞれ接続さ
れる接続フランジ２５．．２５□と、ビームラインの上
流側と下流側とに設けられ、長直線部１９の軸線に垂直
な内壁面を有し、接続フランジ２５１，２５２をそれぞ
れ含む側壁４８１．４８□と、側壁４８□上の接続フラ
ンジ２５２の上部と下部に設けられ、それぞれに閉塞板
２８と４２が止ねじ２９１．２９゜で取外し可能に取付
けられたフランジ２７と４６と、上端中央部に真空ベロ
ーズ４９が設けられた筒状の連絡孔を有し、０リング５
０を介して取外し可能に取付けられた頭部と、側壁４８
１の内壁の上端部と下端部近傍にストッパ３４．３３を
有している。隔壁３２はボディ４０内に上昇・下降可能
に設けられ、ボディ４０のＸ線通過孔４３を完全に覆う
大きさの外径を有し、中央にＸ線通過孔４３の直径より
小さい直径のＸ線通過孔４４が、設けられ、上流側の面
にＸ線通過孔４４と同心円の溝に保持された２０リング
３９を有し、他方の面にＸ線通過孔４４を覆うベリリウ
ム窓２３がＯリング２１ ｌを介してベリリウム窓保持
板２ｏと止ねじ２２＋により取外し可能に取付けられて
いる。隔壁３７．は、隔壁３２と同様の構造を有し、ベ
リリウム窓２３の代りに可視光線透過窓４１が設けられ
、隔壁３２と接続され、そのベリリウム窓２３の中心点
と可視光線透過窓４１の中心点との距離はボディ４０の
接続フランジ２５□の中心点とフランジ２７の中心点と
の距離と等しい。
隔壁駆動棒２６は、上端部がバルブ駆動ノツプ３０に接
続され雌ねじ４５を有する心棒で、ボディ４０の筒状の
連絡孔にベアリングを介して保持される上部と、雌ねじ
４５に螺合するねじを有する下部とからなっている。隔
壁カム押板２４は上端に隔壁駆動棒２６の下端が回動可
能に取付けられ、隔壁３２．３７．と隔壁押当用カム３
１．。
続され雌ねじ４５を有する心棒で、ボディ４０の筒状の
連絡孔にベアリングを介して保持される上部と、雌ねじ
４５に螺合するねじを有する下部とからなっている。隔
壁カム押板２４は上端に隔壁駆動棒２６の下端が回動可
能に取付けられ、隔壁３２．３７．と隔壁押当用カム３
１．。
３１＊、３６＋、３６□を介して接続され、隔壁駆動棒
２６の駆動により隔壁３２．３７＋を上昇および下降さ
せ、隔壁３２．３７＋のいずれかのＸ線通過孔４４の中
心線がＸ線通過孔４３の中心線に一致したとき該隔壁を
ボディ４０の側壁４８．に押当てる。
２６の駆動により隔壁３２．３７＋を上昇および下降さ
せ、隔壁３２．３７＋のいずれかのＸ線通過孔４４の中
心線がＸ線通過孔４３の中心線に一致したとき該隔壁を
ボディ４０の側壁４８．に押当てる。
次に、このゲートバルプ１８１のＸ線取出し窓の交換操
作について説明する。
作について説明する。
いま、隔壁３２のＸ線取出し窓であるベリリウム窓２３
を取替えるものとすると、まず、ゲートバルプ７．８．
１２を閉じ、ゲートバルプ１４を開いて真空ポンプ１３
によってヘリウムチェンバー１０をｌ Ｏ−’Ｔｏｒｒ
台の高真空にする０次に、ゲートバルプ１４を閉じ、ゲ
ートバルプ１８．のバルブ駆動ノツプ３０を回して隔壁
カム押板２４を引上げる。隔壁カム押板２４が上方に引
上げられると、隔壁押当用カム３１＋、３１＊の長軸側
が立上げられ側面４８．に対する圧力が緩められて隔壁
３２．３７＋が引上げられ、隔壁３２の頂部がストッパ
３４に突当ると、隔壁３２．３７＋が停止し、さらに隔
壁カム押板２４が引上げられると隔壁押当用カム３Ｂ＋
、３６＊の長軸側が横に押倒されて隔壁３７．をボディ
４０の側壁４８１に押付け、可視光線透過窓４ＩでＸ線
通過孔４３を密閉する。その後、ヘリウム導入口１７を
開いてヘリウムチェンバー１０内を大気圧とし、止ねじ
２９を全部抜取って閉塞板２８を取外し、止ねじ２２を
抜いてベリリウム窓２３を取外し、新しいベリリウム窓
を止ねじ２２で取付け、閉塞板２８を止ねじ２９１によ
り取付ける０次に、シャッター１１を閉じ、ゲートバル
プ１４を開き、真空ポンプ１３を動作させてヘリウムチ
ェンバー１０をＩ Ｏ−’Ｔｏｒｒ台の高真空にし、ゲ
ートバルプ１４を閉じ、バルブ駆動ノツプ３０を下降方
向に回転する。この回転により隔壁カム押板２４が下方
に動くと、隔壁押当用カム３６．．３６２の長軸側が立
上げられ、隔壁３７ Ｉの側壁４８１に対する圧力が緩
み、隔壁３２，３７１が下降する。この下降が進んで隔
壁３７１の下端部がストッパー３３に突当ると、隔壁３
２．３７．が停止し、さらに隔壁カム押板２４が下へ押
下げられると、隔壁押当用カム３１１．３１□の長軸側
が横に押倒されて作動し、隔壁３２が胴体４０のＸ線通
過孔４３を覆う位置に来ているので側壁４８＋の内壁に
Ｏリング３９を介して押当てられる０次に、ヘリウム導
入口１７を開いてヘリウムチェンバー１０をヘリウムの
１気圧にし、また、ゲートバルプ８゜１２を開き、ゲー
トバルプ７を開いてＸ線の取出しを行なう。
を取替えるものとすると、まず、ゲートバルプ７．８．
１２を閉じ、ゲートバルプ１４を開いて真空ポンプ１３
によってヘリウムチェンバー１０をｌ Ｏ−’Ｔｏｒｒ
台の高真空にする０次に、ゲートバルプ１４を閉じ、ゲ
ートバルプ１８．のバルブ駆動ノツプ３０を回して隔壁
カム押板２４を引上げる。隔壁カム押板２４が上方に引
上げられると、隔壁押当用カム３１＋、３１＊の長軸側
が立上げられ側面４８．に対する圧力が緩められて隔壁
３２．３７＋が引上げられ、隔壁３２の頂部がストッパ
３４に突当ると、隔壁３２．３７＋が停止し、さらに隔
壁カム押板２４が引上げられると隔壁押当用カム３Ｂ＋
、３６＊の長軸側が横に押倒されて隔壁３７．をボディ
４０の側壁４８１に押付け、可視光線透過窓４ＩでＸ線
通過孔４３を密閉する。その後、ヘリウム導入口１７を
開いてヘリウムチェンバー１０内を大気圧とし、止ねじ
２９を全部抜取って閉塞板２８を取外し、止ねじ２２を
抜いてベリリウム窓２３を取外し、新しいベリリウム窓
を止ねじ２２で取付け、閉塞板２８を止ねじ２９１によ
り取付ける０次に、シャッター１１を閉じ、ゲートバル
プ１４を開き、真空ポンプ１３を動作させてヘリウムチ
ェンバー１０をＩ Ｏ−’Ｔｏｒｒ台の高真空にし、ゲ
ートバルプ１４を閉じ、バルブ駆動ノツプ３０を下降方
向に回転する。この回転により隔壁カム押板２４が下方
に動くと、隔壁押当用カム３６．．３６２の長軸側が立
上げられ、隔壁３７ Ｉの側壁４８１に対する圧力が緩
み、隔壁３２，３７１が下降する。この下降が進んで隔
壁３７１の下端部がストッパー３３に突当ると、隔壁３
２．３７．が停止し、さらに隔壁カム押板２４が下へ押
下げられると、隔壁押当用カム３１１．３１□の長軸側
が横に押倒されて作動し、隔壁３２が胴体４０のＸ線通
過孔４３を覆う位置に来ているので側壁４８＋の内壁に
Ｏリング３９を介して押当てられる０次に、ヘリウム導
入口１７を開いてヘリウムチェンバー１０をヘリウムの
１気圧にし、また、ゲートバルプ８゜１２を開き、ゲー
トバルプ７を開いてＸ線の取出しを行なう。
また、ビームライン立上げ時やミラー交換時にビームラ
インの光軸調整が必要な場合、隔壁３７、にあらかじめ
取付けられている石英、サファイヤ等の可視光透過窓４
１を第３図に示すように、隔壁３２を上昇させたときと
同様の操作によって隔壁３７ ｉを胴体部４０のＸ線通
過孔４３に対峙させ、露光用アライナ１６の位置で放射
線の可視光領域の可視光線を観察しながら光軸調整を行
なうことができる。この隔壁３７１の窓の取替え手順は
隔壁３２の場合と同様で、隔壁３７゜がフランジ４６と
対峙する位置にセットされたときヘリウムチェンバー１
０を大気圧にして閉塞板４２を止ねじ２９□を外して取
除き、窓４１を取替え、閉塞板４２を取付け、ヘリウム
チェンバー１０を真空にしその後ヘリウム導入口１７か
らヘリウムを１気圧に満たす、また、隔壁３７１にもベ
リリウム等のＸ線取出し窓を設置すればヘリウムチェン
バー１０を一度高真空とするだけでＸ線取出し窓の交換
ができる。さらに、ベリリウム等の厚さを違えておけば
異なる波長のＸ線を取出せ、フィルターの効果も持たせ
ることが可能である。
インの光軸調整が必要な場合、隔壁３７、にあらかじめ
取付けられている石英、サファイヤ等の可視光透過窓４
１を第３図に示すように、隔壁３２を上昇させたときと
同様の操作によって隔壁３７ ｉを胴体部４０のＸ線通
過孔４３に対峙させ、露光用アライナ１６の位置で放射
線の可視光領域の可視光線を観察しながら光軸調整を行
なうことができる。この隔壁３７１の窓の取替え手順は
隔壁３２の場合と同様で、隔壁３７゜がフランジ４６と
対峙する位置にセットされたときヘリウムチェンバー１
０を大気圧にして閉塞板４２を止ねじ２９□を外して取
除き、窓４１を取替え、閉塞板４２を取付け、ヘリウム
チェンバー１０を真空にしその後ヘリウム導入口１７か
らヘリウムを１気圧に満たす、また、隔壁３７１にもベ
リリウム等のＸ線取出し窓を設置すればヘリウムチェン
バー１０を一度高真空とするだけでＸ線取出し窓の交換
ができる。さらに、ベリリウム等の厚さを違えておけば
異なる波長のＸ線を取出せ、フィルターの効果も持たせ
ることが可能である。
これまで、Ｘ線取出し窓の材料にベリリウムを中心に述
べてきたが、当然アルミニウム等の軽金属、ＳｉＮ、Ｓ
ｉＣ，ＢＮ等の無機膜、ポリイミド、ポリエステルフィ
ルム等の有機膜でも放射光により劣化するため、ベリリ
ウム窓２３と同様に交換が行なわれる。
べてきたが、当然アルミニウム等の軽金属、ＳｉＮ、Ｓ
ｉＣ，ＢＮ等の無機膜、ポリイミド、ポリエステルフィ
ルム等の有機膜でも放射光により劣化するため、ベリリ
ウム窓２３と同様に交換が行なわれる。
第５図はＸ線取出し窓付きゲートバルプの他の実施例の
縦断面図である。
縦断面図である。
このゲートバルプ１８．はＸ線通過孔が閉じられた隔壁
３７．を有し、隔壁３７□がＸ線通過孔４３に対峙して
押当てられるとＸ線通過孔４３を０リング３８２を介し
て閉塞する最も簡単な構造で、隔壁３２のベリリウム窓
２３の取替えのみを目的としたものである。
３７．を有し、隔壁３７□がＸ線通過孔４３に対峙して
押当てられるとＸ線通過孔４３を０リング３８２を介し
て閉塞する最も簡単な構造で、隔壁３２のベリリウム窓
２３の取替えのみを目的としたものである。
［発明の効果］
以上説明したように本発明はＸ線取出し窓が取外し可能
に取付られた第１の隔壁と、Ｘ線取出し窓、可視光線透
過窓、メクラ窓等が取外し可能に取付けられた第２の隔
壁とが相互に長直線部の超高真空の漏洩を防ぐように設
けられ、かつ、該隔壁の窓の取替用に閉塞板が取外し可
能に取付けられているフランジが設けられたゲートバル
プをビームラインの長直線部とヘリウムチェンバーの境
界部に設置することにより、下記の効果がある。
に取付られた第１の隔壁と、Ｘ線取出し窓、可視光線透
過窓、メクラ窓等が取外し可能に取付けられた第２の隔
壁とが相互に長直線部の超高真空の漏洩を防ぐように設
けられ、かつ、該隔壁の窓の取替用に閉塞板が取外し可
能に取付けられているフランジが設けられたゲートバル
プをビームラインの長直線部とヘリウムチェンバーの境
界部に設置することにより、下記の効果がある。
（１）超高真空を維持できるので、Ｘ線取出し窓の交換
を短時間で行なうことができる。
を短時間で行なうことができる。
（２）可視光線透過窓を予め第２の隔壁に取付けておく
と、何時でも容易に光軸の調整を行なうことができる。
と、何時でも容易に光軸の調整を行なうことができる。
（３）ビームラインの接続を切離すことがないので光軸
の変化や真空系の異常を発生する機会が減する。
の変化や真空系の異常を発生する機会が減する。
（４）Ｘ線取出し窓を第２の隔壁に取付けると、Ｘ線取
出し窓の交換のための所要時間が更に短縮できる。
出し窓の交換のための所要時間が更に短縮できる。
（５）第２の隔壁に第１の隔壁のベリリウムと厚さの異
なるベリリウムを用いたベリリウム窓を取付けることに
より、波長の異なるＸ線を取出すことも可能となる。
なるベリリウムを用いたベリリウム窓を取付けることに
より、波長の異なるＸ線を取出すことも可能となる。
第１図は本発明のＸ線取出し窓付ゲートバルプの一実施
例が取付けられたシンクロトロン放射光取出し用ビーム
ラインの斜視図、第２図は第１図に示すベリリウム窓２
３と可視光線透過窓４１とが取付けられたゲートバルプ
１８．の縦断面図、第３図は第２図の隔壁３２がフラン
ジ２７の位置に対峙した状態のゲートバルプ１８．の縦
断面図、第４図は第３図の隔壁３７．の近傍の拡大縦断
面図、第５図はＸ線取出し窓付ゲートバルプの他の実施
例の縦断面図、第６図はシンクロトロン放射光取出し用
ビームラインの従来例の斜視図、第７図は第６図のＸ線
取出し窓９１の拡大縦断面図である。 １・・・シンクロトロン放射光蓄積リング、２・・・メ
インパイプ、 ３・・・Ｘ線反射ミラー ４・・・ミラーチェンバー ５・・・ミラー駆動系、 ６．１３・・・真空ポンプ、 ７．８，１２，１４．１８＋、１８ａ・・・ゲートバル
プ、 ０・・・ヘリウムチェンバー ト・・シャッター ５・・・Ｘ線取出し窓、 ６・・・露光用アライナ、 ７・・・ヘリウム導、入孔、 ９・・・長直線部、 ０・・・ベリリウム導入孔、 １ ＋、２１＊、３８＋、３８ｉ、３９．５０・・・０
リング、 ２・・・止めネジ、 ３・・・ベリリウム窓、 ４・・・隔壁カム押板、 ５、．２５２・・・接続フランジ、 ６・・・隔壁駆動棒、 ７．４６・・・フランジ、 ２８．４２・・・閉塞板、 ２９＋、２９＊・・・止めネジ、 ３０・・・バルブ駆動ノツプ、 ３１、．３１□、３６＋、３６諺・・・隔壁押当用カム
、３２．３７＋、３７ｉ・・・隔壁、 ３３．３４・・・ストッパー ４３．４４・・・Ｘ線通過孔、 ４５・・・雌ねじ、 ４８ ＋ 、 ４８ ｔ・・・側壁、 ４９・・・真空ベローズ。 特許出願人 日本電信電話株式会社
例が取付けられたシンクロトロン放射光取出し用ビーム
ラインの斜視図、第２図は第１図に示すベリリウム窓２
３と可視光線透過窓４１とが取付けられたゲートバルプ
１８．の縦断面図、第３図は第２図の隔壁３２がフラン
ジ２７の位置に対峙した状態のゲートバルプ１８．の縦
断面図、第４図は第３図の隔壁３７．の近傍の拡大縦断
面図、第５図はＸ線取出し窓付ゲートバルプの他の実施
例の縦断面図、第６図はシンクロトロン放射光取出し用
ビームラインの従来例の斜視図、第７図は第６図のＸ線
取出し窓９１の拡大縦断面図である。 １・・・シンクロトロン放射光蓄積リング、２・・・メ
インパイプ、 ３・・・Ｘ線反射ミラー ４・・・ミラーチェンバー ５・・・ミラー駆動系、 ６．１３・・・真空ポンプ、 ７．８，１２，１４．１８＋、１８ａ・・・ゲートバル
プ、 ０・・・ヘリウムチェンバー ト・・シャッター ５・・・Ｘ線取出し窓、 ６・・・露光用アライナ、 ７・・・ヘリウム導、入孔、 ９・・・長直線部、 ０・・・ベリリウム導入孔、 １ ＋、２１＊、３８＋、３８ｉ、３９．５０・・・０
リング、 ２・・・止めネジ、 ３・・・ベリリウム窓、 ４・・・隔壁カム押板、 ５、．２５２・・・接続フランジ、 ６・・・隔壁駆動棒、 ７．４６・・・フランジ、 ２８．４２・・・閉塞板、 ２９＋、２９＊・・・止めネジ、 ３０・・・バルブ駆動ノツプ、 ３１、．３１□、３６＋、３６諺・・・隔壁押当用カム
、３２．３７＋、３７ｉ・・・隔壁、 ３３．３４・・・ストッパー ４３．４４・・・Ｘ線通過孔、 ４５・・・雌ねじ、 ４８ ＋ 、 ４８ ｔ・・・側壁、 ４９・・・真空ベローズ。 特許出願人 日本電信電話株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、シンクロトロン放射光からＸ線を取出すシンクロト
ロン放射光取出しビームラインの長直線部とヘリウムチ
ェンバーの境界部に設けられるＸ線取出し窓付ゲートバ
ルプであって、 長直線部の軸線に交わり、互いに対向し、対向する面が
互いに平行な側壁で囲まれた空間を有し、両側壁にはそ
れぞれ長直線部、ヘリウムチェンバーに連なる第１、第
２のＸ線通過孔が設けられ、ヘリウムチェンバー側の側
壁の、ヘリウムチェンバーとのフランジ面を除く部分に
開口が設けられているボディと、 一方の側面は第１のＸ線通過孔を閉塞するだけの大きさ
があり、該側面の中央部から他方の側面に貫通するＸ線
通過孔が設けられ、該Ｘ線通過孔を取囲むシールリング
を保持し、他方の側面にはＸ線取出し窓がシールリング
を介して取外し可能に取付けられている第１の隔壁と、 一方の側面がシールリングを保持し、第１のＸ線通過孔
を該シールリングを介して閉塞するだけの大きさを有す
る第２の隔壁と、 前記開口をボディの外側から閉塞する、取外し可能な閉
塞板と、 第１、第２の隔壁とともにボディ内に収容され、第２の
隔壁がボディの第１のＸ線通過孔にあるとき第１の隔壁
がボディの前記開口と対向可能な位置関係に第１、第２
の隔壁を保持し、ボディの第１のＸ線通過孔と対峙する
位置にある隔壁の一方の側面をボディの内面に押当てる
作用をする隔壁押し当て部材と、 第１の隔壁が第１のＸ線通過孔と対峙する位置にあると
き、第２の隔壁がボディの前記開口と反対側に位置し、
第２の隔壁が第１のＸ線通過孔と対峙する位置にあると
き第１の隔壁がボディの前記開口と対峙するように、隔
壁押し当て部材を移動させる駆動機構とを有し、 前記開口は第１の隔壁のＸ線取出し窓をボディの外から
取外せるだけの大きさであるＸ線取出し窓付ゲートバル
プ。 ２、第２の隔壁には、シールリングを保持する側面の中
央部から他方の面に貫通するＸ線通過孔が設けられ、他
方の面には可視光線透過窓あるいはＸ線取出し窓がシー
ルリングを介して取外し可能に取付けられており、 ボディには、第１の隔壁が第１のＸ線通過孔と対峙する
位置にあるとき、第２の隔壁が対峙する、ボディのヘリ
ウムチェンバー側の側壁に前記可視光線透過窓あるいは
Ｘ線取出し窓をボディの外から取外せるだけの大きさの
開口が設けられ、 該開口をボディの外側から閉塞する、取外し可能な閉塞
板を有する請求項１記載のＸ線取出し窓付ゲートバルプ
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11967489A JP2744065B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | Ｘ線取出し窓付ゲートバルブ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11967489A JP2744065B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | Ｘ線取出し窓付ゲートバルブ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02297100A true JPH02297100A (ja) | 1990-12-07 |
| JP2744065B2 JP2744065B2 (ja) | 1998-04-28 |
Family
ID=14767246
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11967489A Expired - Fee Related JP2744065B2 (ja) | 1989-05-12 | 1989-05-12 | Ｘ線取出し窓付ゲートバルブ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2744065B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-12 JP JP11967489A patent/JP2744065B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2744065B2 (ja) | 1998-04-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH03234979A (ja) | 仕切り弁 | |
| US2200095A (en) | Photographic device for vacuum apparatus | |
| US5560586A (en) | Main valve | |
| JPH02297100A (ja) | Ｘ線取出し窓付ゲートバルブ | |
| JP2766935B2 (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| RU192228U1 (ru) | Вакуумная установка для нанесения тонкопленочных покрытий на подложку | |
| US2666539A (en) | Rapid operation air lock for closed vessels | |
| US3102194A (en) | Shutter for electron microscopes | |
| JPH0522834Y2 (ja) | ||
| JP2513528B2 (ja) | Ｘ線取出し装置 | |
| DE914881C (de) | Filmschleuse fuer Korpuskularstrahlgefaesse, insbesondere UEbermikroskope | |
| JP2868542B2 (ja) | 真空配管 | |
| US2091826A (en) | Oscillograph film holder mechanism | |
| US2472316A (en) | Electron optical instrument | |
| JP2756536B2 (ja) | 隔壁の駆動装置 | |
| JPS5912597Y2 (ja) | 電子分光装置 | |
| JPH01225118A (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| US3405623A (en) | Photographic exposure control apparatus | |
| JPH09210246A (ja) | 真空ゲートバルブ | |
| JPH03190045A (ja) | 仕切り弁装置 | |
| WO1984004203A1 (en) | Sample holder transporting device | |
| JP5025454B2 (ja) | エアロック扉装置 | |
| DE832091C (de) | Anordnung zum Untersuchen des Inneren von Gasleitungen | |
| JPS6062116A (ja) | Ｘ線露光装置 | |
| US3194624A (en) | Method of evacuating an x-ray tube having a thin window |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |