JPS59191251A - 雰囲気試料運搬室 - Google Patents
雰囲気試料運搬室Info
- Publication number
- JPS59191251A JPS59191251A JP6447283A JP6447283A JPS59191251A JP S59191251 A JPS59191251 A JP S59191251A JP 6447283 A JP6447283 A JP 6447283A JP 6447283 A JP6447283 A JP 6447283A JP S59191251 A JPS59191251 A JP S59191251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- chamber
- vacuum
- sample holder
- specimen
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/18—Vacuum locks ; Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(背 景)
本発明は、透過形電子顕微鏡(以下、透過電顕と略する
)に用いられる雰囲気試料運搬室に係り、特lζサイド
エントリー傾斜装置(以下、単に傾斜装置と略する)を
備えた透過!顕に取付けられる雰囲気試料運搬室(以下
、単に試料運搬室と略する)に関する。
)に用いられる雰囲気試料運搬室に係り、特lζサイド
エントリー傾斜装置(以下、単に傾斜装置と略する)を
備えた透過!顕に取付けられる雰囲気試料運搬室(以下
、単に試料運搬室と略する)に関する。
試料運搬室とは、電子顕微鏡本体の外で、(1)検鏡し
ようとする試料の表面を清浄にするため、 (2)試料を薄く削るため、あるいは (3)試料の表面にある種の物質を蒸着するため(例え
ば、専用の真空蒸着装置等で加工した試料を、大気に露
−さないようにするため)、試料を試料ホルダーに取付
けた状態で、特殊の雰囲気(主として真空)の、電子顕
微鏡本体外にある室の中に収納し、この雰囲気を保った
まま、試料ホルダーを電子顕微鏡本体の所まで運び、こ
の試料ホルダーを鏡体内に移動、装着するための室のこ
とである。
ようとする試料の表面を清浄にするため、 (2)試料を薄く削るため、あるいは (3)試料の表面にある種の物質を蒸着するため(例え
ば、専用の真空蒸着装置等で加工した試料を、大気に露
−さないようにするため)、試料を試料ホルダーに取付
けた状態で、特殊の雰囲気(主として真空)の、電子顕
微鏡本体外にある室の中に収納し、この雰囲気を保った
まま、試料ホルダーを電子顕微鏡本体の所まで運び、こ
の試料ホルダーを鏡体内に移動、装着するための室のこ
とである。
一方、雰囲気試料作製室とは、試料を加工するためのイ
オンエツチング装置又は真空蒸着装置などを組込み、前
述の試料運搬室と同様に、室内を特殊の雰囲気に保ち、
この室の中に試料ボルダ−を保持させて、所望の試料加
工、処理(エラチン従来、走査形電子顕微鏡や、トップ
エンドIJ −ステージを備えた透過!顕のように、広
い試料室を有する装置においては、試料室に隣接して雰
囲気試料作製室を設け、雰囲気試料作製室内で加工、処
理された試料はその後大気に露されることなく、鏡体内
に持ち込まれるようになっている。
オンエツチング装置又は真空蒸着装置などを組込み、前
述の試料運搬室と同様に、室内を特殊の雰囲気に保ち、
この室の中に試料ボルダ−を保持させて、所望の試料加
工、処理(エラチン従来、走査形電子顕微鏡や、トップ
エンドIJ −ステージを備えた透過!顕のように、広
い試料室を有する装置においては、試料室に隣接して雰
囲気試料作製室を設け、雰囲気試料作製室内で加工、処
理された試料はその後大気に露されることなく、鏡体内
に持ち込まれるようになっている。
しかし、傾斜装置を備えた透過tmでは、その構造上、
試料室と称せられる部分はほとんどない。
試料室と称せられる部分はほとんどない。
それ故に、試料を加工するとすれば、これを鏡体内に挿
入した状態で行わざるを得ないが、この場合、試料は対
物レンズポールピースの内部に設置されているので、真
空蒸着などによシ、対物レンズポールピースを汚すおそ
れもあり、好ましい方法ではない。
入した状態で行わざるを得ないが、この場合、試料は対
物レンズポールピースの内部に設置されているので、真
空蒸着などによシ、対物レンズポールピースを汚すおそ
れもあり、好ましい方法ではない。
また、雰囲気試料作製室を付設するとすれば、傾斜装置
に直接取付けることが考えられるが、このようなものは
まだ実用化されていない。
に直接取付けることが考えられるが、このようなものは
まだ実用化されていない。
その理由としては、
(1)傾斜装置は機構が複雑であるのみならず、非常に
精密であるため、雰囲気試料作製室のように重いものを
、直接、傾斜装置に取付けると、試料傾斜および試料微
動の性能に悪影響を与えるおそれがあること、 (2)傾斜装置の近くに前述の真空蒸着装置などを取付
けた場合には、このような装置からの機械的な振動が電
子゛顕微鏡本体に伝わるのを防ぎきれず、電子顕微鏡の
性能低下をまねき易いこと、さらに (3)雰囲気試料作製室を付設しても、専用の真空蒸着
装置等のように複雑な試料の加工、処理は、充分に行う
ことができないこと、などの問題点が考えられる。それ
故に、前述のような問題点のない傾斜装置用の試料運搬
室の出現が強く望まれている。
精密であるため、雰囲気試料作製室のように重いものを
、直接、傾斜装置に取付けると、試料傾斜および試料微
動の性能に悪影響を与えるおそれがあること、 (2)傾斜装置の近くに前述の真空蒸着装置などを取付
けた場合には、このような装置からの機械的な振動が電
子゛顕微鏡本体に伝わるのを防ぎきれず、電子顕微鏡の
性能低下をまねき易いこと、さらに (3)雰囲気試料作製室を付設しても、専用の真空蒸着
装置等のように複雑な試料の加工、処理は、充分に行う
ことができないこと、などの問題点が考えられる。それ
故に、前述のような問題点のない傾斜装置用の試料運搬
室の出現が強く望まれている。
(目 的)
本発明の目的は、前述のような要望に応え、傾斜装置を
備えた透過電顕に使用可能な、試料運搬室を提供するに
ある。
備えた透過電顕に使用可能な、試料運搬室を提供するに
ある。
(概 要)
本発明は、試料運搬室に試料加工のための装置は取付け
ず、試料の加工は、専用の真空蒸着装置等で行ない、加
工した試料は、真空などの特殊雰囲気の試料運搬室の中
に収納して傾斜装置の所まで運び、この試料を傾斜装置
を通して鏡体内に挿入することにより、鏡体と試料運搬
室とを真空的に切離したシ、連通させたシすることがで
きるように構成すると共に、傾斜装置の性能をそこなわ
ないため、試料運搬室を傾斜装置よル切離すように構成
した点に特徴がある。
ず、試料の加工は、専用の真空蒸着装置等で行ない、加
工した試料は、真空などの特殊雰囲気の試料運搬室の中
に収納して傾斜装置の所まで運び、この試料を傾斜装置
を通して鏡体内に挿入することにより、鏡体と試料運搬
室とを真空的に切離したシ、連通させたシすることがで
きるように構成すると共に、傾斜装置の性能をそこなわ
ないため、試料運搬室を傾斜装置よル切離すように構成
した点に特徴がある。
(実施例)
以下図面によシ、本発明の一実施例を詳細に説明する。
第1図は、本実施例の試料運搬室を取付けるのに好適な
傾斜装置の横断面である。lは透過形電子顕微鏡←鏡体
であり、電子線軸Oは紙面に垂直である。
傾斜装置の横断面である。lは透過形電子顕微鏡←鏡体
であり、電子線軸Oは紙面に垂直である。
鏡体1には、傾斜装置の7ランジ2が取付けられている
。試料ホルダー3は傾斜装置の内筒4に装着されている
。5は試料である。試料5は、Oリング6.7,8.で
真空遮断された小室内にあυ、前記小室は、排気穴9か
ら矢印で示す如く真空排気される。
。試料ホルダー3は傾斜装置の内筒4に装着されている
。5は試料である。試料5は、Oリング6.7,8.で
真空遮断された小室内にあυ、前記小室は、排気穴9か
ら矢印で示す如く真空排気される。
傾斜装置が、試料5を検鏡するための試料微動機構およ
び試料を傾斜するための傾斜機構を備えていることは公
知である。
び試料を傾斜するための傾斜機構を備えていることは公
知である。
また、試料ホルダー3のツマミ 10を回転することに
よシ、回転筒11が回転しく180°回転)、これにと
もなって弁12が開き、試料5は検鏡位すなわち、回転
筒11には溝13および溝13′が設けてあり、ビン1
4が溝13内にある時だけ、試料ホルダー3が回転可能
となシ、これが180゜回転した状態では、溝13 、
13’と円筒4の溝15とが一致する。従って、ピン1
4は溝15の中を軸方向に移動可能になり、試料ホルダ
ー3の挿入が可能になる。
よシ、回転筒11が回転しく180°回転)、これにと
もなって弁12が開き、試料5は検鏡位すなわち、回転
筒11には溝13および溝13′が設けてあり、ビン1
4が溝13内にある時だけ、試料ホルダー3が回転可能
となシ、これが180゜回転した状態では、溝13 、
13’と円筒4の溝15とが一致する。従って、ピン1
4は溝15の中を軸方向に移動可能になり、試料ホルダ
ー3の挿入が可能になる。
前述のような機構はすべて公知であるので、これ以上の
詳細な説明は省略する。
詳細な説明は省略する。
以上のように構成した傾斜fc置に、本発明の試料運搬
室を取付ける手順、および試料運搬室の構造を第2図〜
第9図に示し、その詳細を説明する。
室を取付ける手順、および試料運搬室の構造を第2図〜
第9図に示し、その詳細を説明する。
第2図は、本発明の試料運搬室と共に用いるのに好適な
真空蒸着装置の概略断面図である。真空蒸着装置17の
排気穴兼試料通路23にはフランジ18が設けられる。
真空蒸着装置の概略断面図である。真空蒸着装置17の
排気穴兼試料通路23にはフランジ18が設けられる。
第3図は真空蒸着装置17の7ランジ18に試料運搬室
19を、0リング20 を介して気密に取付けた状態を
示す断面図である。
19を、0リング20 を介して気密に取付けた状態を
示す断面図である。
試料運搬室19内の第1の空間21は、フランジ18の
排気穴23を通して、真空蒸着装置17によシ真空排気
される。なお、排気穴29には弁(図示省略)が設けで
あるが、この場合は閉じている。空間工9が所定の真空
度に達すると、ピストン24 によシゲートバルブ25
が開かれ、試料運搬室19の第2の空間22も真空排気
される。
排気穴23を通して、真空蒸着装置17によシ真空排気
される。なお、排気穴29には弁(図示省略)が設けで
あるが、この場合は閉じている。空間工9が所定の真空
度に達すると、ピストン24 によシゲートバルブ25
が開かれ、試料運搬室19の第2の空間22も真空排気
される。
空間22 が所定の真空度に達した後、試+F+:15
を装着した試料ホルダー3を、操作棒26によシ真空蒸
着装置17の内部に挿入する。この状態で、試料5にあ
る種の物質を蒸着し、試料5に加工を施す。
を装着した試料ホルダー3を、操作棒26によシ真空蒸
着装置17の内部に挿入する。この状態で、試料5にあ
る種の物質を蒸着し、試料5に加工を施す。
試料加工後は、再び、第3図に示す如く、試料ホルダー
3を操作棒26によって試料運搬室19の空間22に収
納し、ゲートバルブ25を閉めてリークバルブ2T・を
抜く。これによシ、空間21は、大気圧となるため、試
料運搬室19は真空蒸着装置17のフランジ18から切
離し可能となる。
3を操作棒26によって試料運搬室19の空間22に収
納し、ゲートバルブ25を閉めてリークバルブ2T・を
抜く。これによシ、空間21は、大気圧となるため、試
料運搬室19は真空蒸着装置17のフランジ18から切
離し可能となる。
切離した試料運搬室19を傾斜装置の所まで運び、第4
図に示す如く、0リング20を介して、真空的に気密(
ご傾斜装置の取付部16に取付ける。
図に示す如く、0リング20を介して、真空的に気密(
ご傾斜装置の取付部16に取付ける。
この状態では、試料運搬室19の空間21と試料ホルダ
ー3を通す試料ホルダー挿入口28の周囲は大気圧の状
態になっている。
ー3を通す試料ホルダー挿入口28の周囲は大気圧の状
態になっている。
傾斜装置側の排気穴9か、又は試料運搬室側の排気穴2
9から真空排気し、空間21 および試料ホルダー挿入
口28内が、所定の真空に達した後、ゲートバルブ25
を開いて試着ホルダー3を前記挿入口28内に挿入する
。
9から真空排気し、空間21 および試料ホルダー挿入
口28内が、所定の真空に達した後、ゲートバルブ25
を開いて試着ホルダー3を前記挿入口28内に挿入する
。
試料ホルダー3は、先端1C装填した試料5が検鏡位置
ζζ到達するまで、操作棒26を、第5図に示すように
、左方へ押込んで十分に移動させる。
ζζ到達するまで、操作棒26を、第5図に示すように
、左方へ押込んで十分に移動させる。
その後、操作棒26を回転させて試料ホルダー3と操作
棒26との螺合を解き、第6図に示すように、操作棒2
6を右方へ引出して、試料ホルダー3を切離す。
棒26との螺合を解き、第6図に示すように、操作棒2
6を右方へ引出して、試料ホルダー3を切離す。
これによシ、試料ホルダー3は、第1図に示すように、
傾斜装置に正しく装填される。
傾斜装置に正しく装填される。
操作棒26と試料ホルダー3とを切離した後は、第7図
に示す如く、リークバルブ27を抜き、試料運搬室19
の空間21 、22を大気圧にし、傾斜装置の取付部1
6から試料運搬室19内体を取外す。
に示す如く、リークバルブ27を抜き、試料運搬室19
の空間21 、22を大気圧にし、傾斜装置の取付部1
6から試料運搬室19内体を取外す。
この状態では、前述のように、試料ホルダー3は傾斜装
置に正しく装填されているから、試料の検鏡操作を、通
常の手法によって行なうことができる。
置に正しく装填されているから、試料の検鏡操作を、通
常の手法によって行なうことができる。
検鏡後の試料5を大気に露すことなく真空外に持出すた
めには、まず、第6図に示す如く、再び試料運搬室19
を傾斜装置の取付部16に0リング20を介して真空的
に気密に取付ける。
めには、まず、第6図に示す如く、再び試料運搬室19
を傾斜装置の取付部16に0リング20を介して真空的
に気密に取付ける。
この状態では、試料運搬室19の空間21.22は大気
であるから、試料ホルダー3をそのまま引出すと試料5
は大気に露されることになる。
であるから、試料ホルダー3をそのまま引出すと試料5
は大気に露されることになる。
従って、第6図に点線矢印で示す如く、試料運搬室19
の排気穴2,9(排気穴をとじる弁は別途膜けであるが
図示は省略)から真空排気し、前記空間21および22
を真空にする。
の排気穴2,9(排気穴をとじる弁は別途膜けであるが
図示は省略)から真空排気し、前記空間21および22
を真空にする。
しかる後、排気穴29の弁を閉じ、操作棒26を左方へ
押込んで、その先端を試料ホルダー3に螺合し、さらに
、第5図に示す如く、試料ホルダー3を試料運搬室19
の内fこ移動させる。試料ホルダー3が完全に試料運搬
室19内に入った後、第4図に示す如く、ゲートバルブ
25を閉めて試料ホルダー3を空間21から真空的に遮
断し、これを空間22に収納する。
押込んで、その先端を試料ホルダー3に螺合し、さらに
、第5図に示す如く、試料ホルダー3を試料運搬室19
の内fこ移動させる。試料ホルダー3が完全に試料運搬
室19内に入った後、第4図に示す如く、ゲートバルブ
25を閉めて試料ホルダー3を空間21から真空的に遮
断し、これを空間22に収納する。
第4図の状態から、リークバルブ27を抜くと、第9図
に示す如く、傾斜装置の取付部J6から試料運搬室19
の切離しが可能となる。
に示す如く、傾斜装置の取付部J6から試料運搬室19
の切離しが可能となる。
したがって、再び第2図に示すように、試料運搬室19
を真空蒸着装置17に取付け、ゲートノ(ルブ25を開
くまでは、試料3が大気などに露されることはない。
を真空蒸着装置17に取付け、ゲートノ(ルブ25を開
くまでは、試料3が大気などに露されることはない。
(効 果)
本発明によれば、蒸着などの加工を施した試料を、大気
に露すことなしに、真空外から鏡体内に、又は鏡体内か
ら真空外へ移動、装着またし運搬することができるため
、一度検鏡した試料を再加工することも可能となる。
に露すことなしに、真空外から鏡体内に、又は鏡体内か
ら真空外へ移動、装着またし運搬することができるため
、一度検鏡した試料を再加工することも可能となる。
それ故に、試料処理の効率と効果を高めると共に、検鏡
に際しては試料運搬室の切離しが可能であるほか、試料
運搬室や傾斜装置には試料加工のための一切の装置を取
付けないため、傾斜装置と電子顕微鏡の性能に悪影響を
与えるおそれは全くなくなる。したがって、本発明は、
特に材料研究分野に用いた場合に、その効果は極めて大
である。
に際しては試料運搬室の切離しが可能であるほか、試料
運搬室や傾斜装置には試料加工のための一切の装置を取
付けないため、傾斜装置と電子顕微鏡の性能に悪影響を
与えるおそれは全くなくなる。したがって、本発明は、
特に材料研究分野に用いた場合に、その効果は極めて大
である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の試料運搬室を取付けるのに好適な傾斜
装置の横断面、第2図は真空蒸着装置の概略断面図、第
3図は真空蒸着装置に試料運搬室を取付けた状態を示す
断面図、第4図〜第9図は本発明になる試料運搬室の構
造と試料ボルダ−を出し入れする動作を説明するための
断面図である。 1・・・鏡体、 2,18 ・・フランジ、 3・
・・試料ホルダー、 4・・・円筒、 5・・・試料、
6,7゜8.20・・・0リング、 9,29・・・
排気穴、1゜・・・ツマミ、 11・・・回転筒、
12 ・・弁、13.13’、15・・・溝、 1
4・・ビン、 16・・・取付部、 17・・・真空
蒸着装置、 19・・−試料運搬室、 21.22・
・・空間、 23・・・排気穴兼試料通路、 24・・
・ピストン、 25・・・ケートバルブ、 26・
・・操作棒、 27・・・リークバルブ、28・・・試
料ボルダー挿入口 代理人弁理士 平 木 道 人 牙 1 図 1 + 2 囮 矛 7 図 + 9 図
装置の横断面、第2図は真空蒸着装置の概略断面図、第
3図は真空蒸着装置に試料運搬室を取付けた状態を示す
断面図、第4図〜第9図は本発明になる試料運搬室の構
造と試料ボルダ−を出し入れする動作を説明するための
断面図である。 1・・・鏡体、 2,18 ・・フランジ、 3・
・・試料ホルダー、 4・・・円筒、 5・・・試料、
6,7゜8.20・・・0リング、 9,29・・・
排気穴、1゜・・・ツマミ、 11・・・回転筒、
12 ・・弁、13.13’、15・・・溝、 1
4・・ビン、 16・・・取付部、 17・・・真空
蒸着装置、 19・・−試料運搬室、 21.22・
・・空間、 23・・・排気穴兼試料通路、 24・・
・ピストン、 25・・・ケートバルブ、 26・
・・操作棒、 27・・・リークバルブ、28・・・試
料ボルダー挿入口 代理人弁理士 平 木 道 人 牙 1 図 1 + 2 囮 矛 7 図 + 9 図
Claims (2)
- (1)透過形電子顕微鏡および類似装置のサイドエント
リー傾斜装置の試料ホルダー挿入口に真空的に気密に取
付けられる雰囲気試料運搬室において、前記試料ホルダ
ー挿入口および試料加工装置に、選択的に、気密に固着
され得る第1の室と、前記第1の室と一体に形成され、
試料ホルダーを内部に収納できる第2の室と、前記第1
および第2室A間を気密に封止する手段と、前記封止手
段を真空外よシ開閉する手段と、前記第2室の側壁を気
密に貫通してお9、かつ前記第2室に収納された試料ホ
ルダーと着脱可能に連結され、前記試料ホルダーを、真
空外よシ移動させて前記サイドエントリー傾斜装置の試
料ホルダー挿入口に装着したり、これから引出したシす
ることのできる操作棒と、前記第1室に設けられたリー
クバルブとを具備したことを特徴とする雰囲気試料運搬
室。 - (2)試料ホルダーと操作棒とは螺合可能であシ、操作
棒を真空外よシ押込むことによシ、試料ホルダーが試料
ホルダー挿入口の所定位置に装着されることを特徴とす
る特許 載の雰囲気試料運搬室。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6447283A JPS59191251A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 雰囲気試料運搬室 |
PCT/JP1984/000183 WO1984004203A1 (en) | 1983-04-14 | 1984-04-11 | Sample holder transporting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6447283A JPS59191251A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 雰囲気試料運搬室 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59191251A true JPS59191251A (ja) | 1984-10-30 |
Family
ID=13259201
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6447283A Pending JPS59191251A (ja) | 1983-04-14 | 1983-04-14 | 雰囲気試料運搬室 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59191251A (ja) |
WO (1) | WO1984004203A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01159947A (ja) * | 1987-12-16 | 1989-06-22 | Toshiba Mach Co Ltd | 精密処理装置 |
US6203644B1 (en) * | 1996-12-06 | 2001-03-20 | Yoshiaki Nagaura | Method and apparatus for manufacture of quartz oscillator |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3801998C1 (ja) * | 1988-01-23 | 1989-05-18 | Schertler, Siegfried, Haag, Ch | |
CN102856146B (zh) * | 2012-09-29 | 2015-05-13 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种气体回流预防装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5522685Y2 (ja) * | 1974-03-30 | 1980-05-29 |
-
1983
- 1983-04-14 JP JP6447283A patent/JPS59191251A/ja active Pending
-
1984
- 1984-04-11 WO PCT/JP1984/000183 patent/WO1984004203A1/ja unknown
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---|---|---|---|---|
JPH01159947A (ja) * | 1987-12-16 | 1989-06-22 | Toshiba Mach Co Ltd | 精密処理装置 |
US6203644B1 (en) * | 1996-12-06 | 2001-03-20 | Yoshiaki Nagaura | Method and apparatus for manufacture of quartz oscillator |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1984004203A1 (en) | 1984-10-25 |
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