JPH02295149A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は搬送にエアベアリングを利用した基板搬送装置
に関し， より迅速，かつ正確に位置決めを決定することを目的と
し， エアを噴出する斜め孔を有し，且つ，該基板の処理位置
において，該基板を落とし込む凹部を形〔産業上の利用
分野〕 本発明は，搬送にエアベアリングを利用した基板搬送装
置に関する。

基板の移送時に，正確な停止機構が要求されている。

このため，容易に簡単に動作し．且つ正確に，確実に停
止する機構を考案する必要がある。

〔従来の技術〕

第３図は従来例の説明図である。

図において，１８は搬送ステージ，　１９はエアベアリ
ング，２０は基板，２１は位置決めピン，２２はチャン
バー，２３は真空反応室である。

従来のエアベアリング搬送について，第３図により説明
する． 搬送ステージ１８上に設けられたエアベアリングｌ９に
より基板２０が搬送されるが，所定の位置に基板２０が
送られると，エアが停止し，位置決めビン２ｌが上昇し
て．基板２０を固定する構造になっている． 次に搬送ステージｌ８が上昇して．チャンバー２２とド
ッキングして真空反応室２３を構成する．真空反応室２
３内は減圧されて．プラズマ処理等の反応が行われるが
，一般にセンタリング等の位置決めは行われない。

そのため．プラズマが真空反応室２３の周辺部において
は密度が小さくなり．基板２０が機械振動等で処理中に
僅かでもずれてこの密度の小さい領域に入ると処理が充
分に行われず．レジストの残渣等が残ってプロセス障害
が発生する恐れがある。

この基板２０のずれは．真空反応室２３を減圧するため
に，真空引きをする際に気体の激しい動きにより基板２
０が移動したり，アッシング処理中に基板２０がプラズ
マ中において移動することによると見られる．これは静
電的なもの，或いはレジスト気化のエネルギーによると
思われる。

〔発明が解決しようとする課題〕

そのため，基板の停止機構としての位置決めピンの上下
機構が複雑となり．プラズマ処理等を行う場合に，突出
した位置決めピンに電界が集中して異常放電の原因とな
り．また，センタリングを行っていない場合は，基板が
反応室内で動いてしまい．処理が不均一となり．処理時
間も長《なるといった問題を生じていた。

本発明は，このエアベアリングによる基板搬送時の停止
機構を簡単かつ容易な手段で実現することを目的として
，提供されるものである。

〔課題を解決するための手段〕

第１図は本発明の原理説明図である。

図において，■は基板，２は斜め孔．３は凹部，４は搬
送ステージ，５は真空チャックである。

本来エア搬送のステージでは，搬送障害を少なくするた
め．滑らかな表面が要求されていたが．本発明は．従来
，エアベアリングによる搬送での基板の位置決めを，第
１図に示すように．＊送に支障がない程度に段差をつけ
た凹部を設けて．位置決めに利用するものである． 段差の寸法とエア搬送のエア圧力との関連において，段
差に要求される機能は．反応室の真空引きの時，及びア
ッシング処理中に基板がずれない事及び搬送時に引っ掛
からない事で，上記を満足する段差の寸法，エア圧力は
，基板の大きさ．重さ等により実験的に決められる． 〔作用〕 本来，エアベアリングによる搬送ステージは，搬送障害
をなくするために，滑らかな表面が要求されていたが，
本発明では，搬送の支障にならない程度の浅い段差を作
ることにより，位置決めピン等の突起物を使用しないで
，ｌ！実に所定の位置に停止できる． 又，従来のエアベアリングによる搬送では，基板の位置
決め固定に真空チャックを使用する例が多いが，本発明
の如く，真空室内で処理する場合は，真空チャックが利
用できず．本発明により真空中での位置決めが可能とな
った。

〔実施例〕

第２図は本発明の一実施例の装置模式図である。

図において．６はローダー，７はアンローダ−８はウエ
ハー，９は反応室５１０は搬送ベルト１１は搬送ステー
ジ，１２はエアベアリング，１３は段差，ｌ４は真空チ
ャック，１５はエアシリンダー．　１６はチャンバー，
１７は搬送ベルトである。

第２図に示すように，レジストアッシング装置の両サイ
ドにローダー６，アンローダークと呼ばれるウエハー８
を収納するカセットのステーシランがある．又，装置の
中央部に反応室９があり，この中でプラズマによるレジ
ストのアッシングが行われる． 以下，工程順に動作の説明を行う． ローグー６側のカセットに入ったウエハー８は搬送ベル
ト１０によって，Ｂ送ステージｌｌ上に送られる．搬送
ステージ１ｌにはエアベアリング１２の搬送機構がつい
ていて．これによりウエハー８は搬？ステージｌｌ上を
移動する。

センシングは搬送ステージ１１の中心部にある透過形の
センサーでウエハーの移動を検知しており，所定の位置
に形成された浅い段差１３の位置に来ると，真空チャッ
ク１４によりウエハー８は固定され，それとともに，エ
アヘアリング１２のエアも停止する。

次に，搬送ステージ１１がエアシリンダー１５により上
昇して，搬送ステージｌ１とチャンバー１６により．真
空のプロセスの反応室９が構成される。

先ず．排気バルプが開いて，反応室９内を減圧する。例
えば３ｘｌＯ−　”Ｔｏｒｒ迄減圧し．酸素０■或いは
，０２と四弗化炭素ＣＦ，の混合した反応ガスを反応室
内に供給する。そして，制御バルブにより，約ｌＴｏｒ
ｒの設定圧力に調整する。

この状態で周波数２．４５　ＧＨ．　，出力１〜１．５
ｋｗのマイクロ波が印加され，反応室９内でレジストの
アッシングが行われる。

アッシングが終了すると．マイクロ波及び反応ガスの供
給が停止され，ガス抜きが行われる。３ｘＩＦｚ　Ｔｏ
ｒｒ程度に減圧したら，真空排気バルプが閉じられ．代
わりに，窒素（Ｎ２）ガスが供給される．反応室内が大
気圧になると＋　ＮＺガスを停止し．搬送ステージ１ｌ
は再び下降して，元の位置に戻ると，エアベアリング１
２のエアが送られ，ウェハー８はアンローダー７側の搬
送ベルト１７に送られ搬送ベルトｌ７よりアンローダー
７のカセットに収納される。， 以上が１枚のウェハーを処理するシーケンスで，この動
作がローグーカセット内の数十枚のウェハーが空になる
まで続けられる。

この装置において，段差の寸法は０．２ｍｍ　−　０　
．３ｓａｔ，エア圧力は１〜１．５ｋｇ／ａｍ”であり
，基板は搬送時に２〜３ＩＩＩＩＩｌ上昇して搬送され
る。

〔発明の効果〕

従来，反応室内で処理するウェハーのセンタリングは行
っていなかったが．本発明の機構を採用することにより
，反応室を真空にする際や．アッシング処理中のウェハ
ーの横ずれが完全になくなり．その結果，ウェハー内の
レジストのアッシングの不均一がなくなり，プロセス障
害の発生もなく，スループットも上昇した。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理説明図， 第２図は本発明の一実施例の装置模式図第３図は従来例
の説明図 である。 図において， １は基板，　　　　　　２は斜め孔， ３は凹部，　　　　　　４はステージ．５は真空チャッ
ク．　　６はローグー ７はアンローダー，　　８はウェハー ９は反応室，　　　　　１０は搬送ベルト，１１は搬送
ステージ，１２はエアベアリング，１３は段差，１４は
真空チャッ先 ｌ５はエアシリンダー，　１６はチャンバーｌ７は搬送
ベルト ″″′６゜　　　　　　　　イ・・ ′Ｉ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. エアベアリングにより基板（１）を搬送する装置であっ
   て、エアを噴出する斜め孔（２）を有し、且つ、該基板
   （１）の処理位置において、該基板を落とし込む凹部（
   ３）を形成した搬送ステージ（４）を有することを特徴
   とする基板搬送装置。