JPH02294620A - 電気光学装置 - Google Patents

電気光学装置

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JPH02294620A
JPH02294620A JP11690589A JP11690589A JPH02294620A JP H02294620 A JPH02294620 A JP H02294620A JP 11690589 A JP11690589 A JP 11690589A JP 11690589 A JP11690589 A JP 11690589A JP H02294620 A JPH02294620 A JP H02294620A
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JP
Japan
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electro
optical device
monomer
organic polymer
polymer monomer
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Application number
JP11690589A
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English (en)
Inventor
Hidekazu Kobayashi
英和 小林
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の111用分野] 本発明は強誘電性液晶を用いた電気光学装置の配向方法
に関する. 【従来の技術〕 従来,強誘電性液晶を用いた電気光学装置の液晶配同法
として、有機高分子配向膜を電極基板上に形成しこの配
向膿を布で擦る方法(ラビング2去)が知られている(
 Ferroelectrics, 1984 , V
ol .59,pp.I37−144 ) .この方法
によれば、高分子配向膜を布でこする配同法に於で,ナ
イロンを配向膜に用いた場合最も配同性が優れる.しか
しナイロンを用いた場合配向状態がツイスト状態となり
充分なコントラストを得ることができない(第3図中点
線で示した応答を参照).またポリビニルアルコール等
を配向膜に用い通電配向処理を施すことにより2安定状
態間の開き角を大きくすることが出来る方法も提案され
ている.これは第2図に示したように、通常の有機高分
子促向膜を用いると強誘電性液晶分子の安定状態は23
と24であるが,通電配向処理(数十V 数十Hzの交
流電界な印加)を施すと安定状態が21と22になり開
き角が最も広い状態になる(第14回液晶討論会予稿集
3Bl22).その結果高コントラスト高透過率の表示
が可能となった(第3図中実線参照). [発明が解決しようとする課題] しかしポリビニルアルコールを用いる従来技術では,i
i界印加後のメモリー状態の安定性が悪く数日でメモリ
ー状態を反転することが出来なくなる.またポリビニル
アルコールは湿度に弱い.そこで本発明は上述の問題点
を解決するもので,その目的とするところは,安価で、
長期信頼性の高い高コントラスト高透過率の表示素子を
提供することにある. [課題を解決するための手段1 本発明の電気光学装置は, ■ 強誘電性液晶を用いた電気光学装置において,%t
極基板に有機配向膜を形成しラビング法を組合わせる液
晶配向処理において,有機高分子モノ7−あるいはその
溶液を電極基板に塗布し、その後紫外線あるいは可視光
を照射し光重合することにより有機配向膜を形成し素子
化した後に電界を印加して配向状態を改良したことを特
徴とする. ■ 前記有機高分子モノマーがアミノアルキル基および
ビニル基を有する有機化合物であることを特徴とする. ■ 前記有機高分子モノマーが尿素アルキル基およびビ
ニル基を有する有{幾化合物であることを特徴とする. ■ 萌記有機高分子モノマーが1成分ではなく多成分を
含むことを特徴とする. ■ 前記有機高分子モノマーが3− (N.N−ジメチ
ルアミノ)−プロピルアクリレート、3−エテニルカル
ボキシ−プロピル尿素などのアクリレート系化合物であ
ることを特徴とする.■ 前記有機高分子モノマーが2
− (N.N−ジメチルアミノ)−エチルアクリルアミ
ドあるいはCH2=CHCONHC.H4Nl−1cO
NH.などのアクリルアミド系化合物であることを特徴
とする. ■ 前記有機高分子モノマーが架橋剤を含むことを特徴
とする. ■ 前記架橋剤がビニル基を複数含む化合物からなるこ
とを特徴とする. ■ 前記架橋剤がジビニルベンゼンあるいはエチレング
リコールジアクリレートであることを特徴とする. 〔作 用1 本発明の上記の構成によれば,基板に配向剤を塗布する
段階では配向剤はモノマーであり,従って溶媒に溶け容
易に塗布できる.またスチレンのような粘度の低い液体
の場合では溶媒を必要とせずそのまま塗布できる.配向
剤を塗布した後溶媒を用いた場合は溶媒を除去し、紫外
線あるいは可視光を照射する.するとモノマーは′光重
合し架橋剤を高分子中に取り込んで3次元横造化して不
溶化する.これにより液晶に溶けない信頼性の高い配向
膜を形成することができるのである.また配向剤を塗布
する際溶媒を必要としないモノマーを用いれば配向膜中
に溶媒が残留する恐れもなくなり液品の寿命が長くなる
。また通電配向処理を行う際,配向膜中にアミノ基が存
在すると通電処理後も通電配向状態が安定に存在する. 以下.実施例により本発明の詳細を示す。
[実施例1] 第1図は本発明の実施例における基本構成を示す電気光
学装置の断面図である.ここでは、配向剤モノマーとし
てN.N−ジメチルアミノエチルアクリレートを用いた
実施例を示す. 電極(ITOを使用したがこれに限らない)2と絶縁膜
(Sj02を使用したがこれに限らない)3を設けた基
板1にN,N−ジメチルアミノエチルアクリレートをス
ピンコーターにより塗布した.この基板に4ワット紫外
線ランプ2本で紫外線を30分照射した.こうして得ら
れた2枚の基板を布でこすり、こすった方向が上下基板
で反平行となる様に組み合わせた.間隔幅は2 t1m
としたが1μmからloumの間であればよい.次に液
晶を封入するが、ここで用いた液晶は大日本インキ(…
製のDOFOOO4である。もちろん{也の液晶でもよ
い.液晶封入後±30V15Hzの矩形波を印加し通電
配向処理した.通電睨向処理の方法はここに示した条件
に限らない.光学特性を第3図(b)に示した.図中の
破線は,有機高分子配向膜を用いた場合の光学応答を示
しでいる.配向剤に5%のジビニルベンゼンを添加して
3次元架橋化して配向膜を硬化させても同様の結果が得
られる.また、アミノブ口ビル基を尿素プロビル基に変
^でも同様の効果かえられた.またこれらのアルキル基
の長さは炭素数3個以上でも同様の効果が得られる. 本実施例におけるコントラストは15:1.透過率70
%(gi光子と検光子を平行にした場合をlOO%とし
て)であった.従来例で有機高分子配向膜を用いた場合
のコントラストは8,l、透過率15%であるから格段
に改善されている.[実施例21 ここでは、配向剤モノマーとしてN.N−ジメチルアミ
ノブロビルアクリルアミド,架橋剤としてエチレングリ
コールジアクリレートを用いた実施例を示す. 電極(!Toを使用したがこれに限らない)2と絶縁膜
(Si02’を使用したがこれに限らない)3を設けた
基板lにN.N−ジメチルアミノブロビノレアク’Jノ
レアミドのl Owt%キシレン冫容液にエチレングリ
コールジアクリレートlwt%加えスピンコーターによ
り塗布した.次にこの基板を120℃で30分乾燥する
.この基板に4ワット紫外線ランプ2本で紫外線を30
分照射した.こうして得られた2枚の基板を布でこすり
こすった方向が上下基板で反平行となる様に組み合わせ
た.間隔幅は2μmとしたがlLLmからlOumの間
であハばよい.次に液晶を封入するが,ここで用いた液
晶はチッソ■製のCS I O 15である.もちろん
他の液晶でもよい.また,アミノプ口ビル基を尿素プロ
ビル基に変^ても同様の効果が^られた.またこれらの
アルキル基の長さは炭素数3個以上でも同様の効果が得
られる。
その後実施例lに示した方法により通電配向処理を施し
た.本実施例におけるコントラストは2o:I,透過$
75%であった. [実施例3] 本実施例では配向剤モノマーが?!数成分から成る場合
について述べる.配向剤モノマーとしてN.N−ジメチ
ルアミノエチルアクリレートおよびN.N−ジメチルア
ミノブロビルアクリルアミドなl:1で混合し、エタノ
ールを用い50wt%溶液とする.これにジビニルベン
ゼンを5 w t%加え基板に塗布する.以下の処理は
実施例lに同じである.用いた液晶はチッソ(alDO
FOO04であるがこの限りではない.その後実施例1
に示した方法により通電配向処理を施した。本実施例に
おけるコントラスl−は15:I.透過率は60%であ
った. 以上実施例を述べたが、架##剤についてはビニル基を
2つ以上もつものであればここに述べたものに限らない
. 〔発明の効果J 以上述べたように本発明によれば、アミノ基を含むアク
リレート及びアクリルアミド誘電体モノマーを基板に塗
布した後紫外線で光重合することにより,通電配向処理
の施し安い信頼性の高い高コントラスト高透過率の表示
素子を作成する事ができる.
【図面の簡単な説明】
第1図は,本発明の基本構成を表す電気光学装置の断面
図である. 第2図は、強誘電性液晶を用いた電気光学素子の動作原
理図である. 第3図は,本発明の電気光学装置を評価する際に用いた
駆動波形と光学応答を示す図である.■・・・・・基板 2・・・・・電極 3・・・・・絶縁層 23, 24 ・ 配向層 液晶層 配向層 絶縁層 電極 基板 電界印加時あるいは通電処理後 電界除去後の安定状態の分子位 置 有機高分子を用いた場合の電界 除去後の安定状態の分子位置 上下基板 液晶分子の動き得る範囲 液晶分子の自発分極 液晶分子 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)強誘電性液晶を用いた電気光学装置において、電
    極基板に有機配向膜を形成しラビング法を組合わせる液
    晶配向処理において、有機高分子モノマーあるいはその
    溶液を電極基板に塗布し、その後紫外線あるいは可視光
    を照射し光重合することにより有機配向膜を形成し素子
    化した後に電界を印加して配向状態を改良したことを特
    徴とする電気光学装置。
  2. (2)上記有機高分子モノマーがアミノアルキル基およ
    びビニル基を有する有機化合物であることを特徴とする
    請求項1記載の電気光学装置。
  3. (3)上記有機高分子モノマーが尿素アルキル基および
    ビニル基を有する有機化合物であることを特徴とする請
    求項1記載の電気光学装置。
  4. (4)上記有機高分子モノマーが1成分ではなく多成分
    を含むことを特徴とする請求項1記載の電気光学装置。
  5. (5)上記有機高分子モノマーが3−(N,N−ジメチ
    ルアミノ)−プロピルアクリレート、3−エテニルカル
    ボキシ−プロピル尿素などのアクリレート系化合物であ
    ることを特徴とする請求項1記載の電気光学装置。
  6. (6)上記有機高分子モノマーが2−(N,N−ジメチ
    ルアミノ)−エチルアクリルアミドあるいはCH_2=
    CHCONHC_2H_4NHCONH_2などのアク
    リルアミド系化合物であることを特徴とする請求項1記
    載の電気光学装置。
  7. (7)上記有機高分子モノマーが架橋剤を含むことを特
    徴とする請求項1記載の電気光学装置。
  8. (8)上記架橋剤がビニル基を複数含む化合物からなる
    ことを特徴とする請求項7記載の電気光学装置。
  9. (9)上記架橋剤がジビニルベンゼンあるいはエチレン
    グリコールジアクリレートであることを特徴とする請求
    項7記載の電気光学装置。
JP11690589A 1989-05-10 1989-05-10 電気光学装置 Pending JPH02294620A (ja)

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