JPH02294602A - カラーフィルター製造方法 - Google Patents

カラーフィルター製造方法

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Publication number
JPH02294602A
JPH02294602A JP1116917A JP11691789A JPH02294602A JP H02294602 A JPH02294602 A JP H02294602A JP 1116917 A JP1116917 A JP 1116917A JP 11691789 A JP11691789 A JP 11691789A JP H02294602 A JPH02294602 A JP H02294602A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing
ink
irradiation
cleaning
peeling
Prior art date
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Pending
Application number
JP1116917A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiro Kitahara
北原 高弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH02294602A publication Critical patent/JPH02294602A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ガラス基板上に印刷方式により着色皮膜を形
成して、液晶ディスプレイ、その他、精密電子装置の電
気光学指示装置用カラーフィルターの製造方法に関する
〔従来の技術〕
カラーフィルターの製造方法には、フォトリソ法、電着
法、印刷法、等があるが近年は簡略化された製造工程、
低コスト化、大面積化、等の理由により印刷法によるカ
ラーフィルター製造方法が、注目されている。印刷法と
しては、平版オフセット法、フレキソ凹版法、グラビヤ
凹版法、シルクスクリーン法、等が考案実施されており
、従来では不可能とされていた数10μm程度の印刷も
可能となってきている。
カラーフィルターの製造工程では、製造方法の、いかん
を問わず基板の洗浄は重要な工程であり、通常は、■デ
ィボッシュ超音波浸漬、■同刷毛洗浄、■シャワー水洗
、■流水性、■純水超音波水洗、■純水シャワー水洗、
■IPA浸漬、■ダイフロン蒸気洗浄の順序で洗浄を行
う。その後2時間以内に印刷等の処理を行うのが、従来
の方法であった。
〔発明が解決しようとする課題〕
現在の印刷プロセスでは、洗浄後、2時間以内に印刷等
の処理をする事は、作業の都合上、或いは工程能力上、
無理な場合があり結果として洗浄したガラス基板上に、
在機物等の汚れが付着して、印刷インキの基板への密着
性が阻害され、印刷面のビンホール、インキハジキ、基
板よりのインキ剥げ等が発生するという問題点を有して
いた。
そこで本発明は、従来の、この様な問題点を解決するも
ので、その目的とするところは、印刷されたCFパター
ンに、ビンホール、インギハジキ、インキ剥げの無いカ
ラーフィルターを提供するところにある。
〔課題を解決する為の手段〕
本発明は、蒸気の問題点を解決する為に、印刷方式によ
り、基板上に着色インキによる所定のパターンのCF層
を形成する印刷プロセスに於いて、ガラス基板への、イ
ンキの密着性を向上させる為の手段として、R−G−B
各色の印刷前に、2537nm,と1847nmを主波
長とするUV照11を行う事を特徴とする。
〔作 用〕
本発明では従来の洗浄工程で洗浄後、印刷前にガラス基
板に、2537nmと1847nmを主波長とするUV
照射を行う。従来の製造プロセスでは洗浄後、2時間以
上経過すると有機物等の付着により、第2図に示す様に
印刷面にビンホ〜ル、インキハジキ、インキ剥げが発生
する事があった。
そこで印刷前に前記波長のUV照射を行ったところ、基
板表面上の有機汚染物か照射により、種々の分子結合が
分解され、これら励起状態の物質、或いは光分解反応で
生成した汚染物のフリーラジカルと、0,から発生した
原子状態の酸素Oが反応し、CO、HO、Noの様な単
純な分子を形成し、気相化され除去される事により、第
1図に示す通り、ビンホール、インキハジキ、インキ剥
げの無い印刷が可能となり、これが原因の光モレによる
色調不良が解決された。
〔実 施 例〕
実施例−1 300X300XO.lm/mtのガラスを、前記の通
常洗浄法にて洗浄し、6時間経過後、2537nmと1
847nmを主波長とするUV照射をし、オフセット印
刷を行った。UV照射及び印刷条件は以下の通りである
UV照射機は、オーク製作所の紫外線乾式表面洗浄装置
、HMW−544を使用した。ランプは、低圧水銀灯¥
UV−100−06SX16灯(主波長、2537nm
.1847nm)照射距M15 m / m、照射時間
、5分である。印刷機は紅羊社、600CL,を使用、
版は東レ、水ナシ平版(ネガ型)で製版したものである
。パターンは、240XO。13m/mの画素サイズを
、ストライブ状に配列したものを使用した。印刷インキ
は、東洋インキ、水ナシ平版用、R,G,Bの三色を使
用し、印刷圧力は、0.1m/mで、前記条件にてUV
照射後、R印刷し、180℃×30分で乾燥した。更に
同様にUV照射を行い乾燥後、G印刷、B印刷を行った
。三色印刷後、印刷面を顕@鏡×100にて、全面検査
を行った結果、第1図に示す如く、汚れ付着による、ビ
ンホール、インキハジキ、インキ剥げ、は発生せず所定
の密着強度テスト(クロスカット)にも合格、前記、欠
陥による点灯光モレ色調不良は認められず、良好な結果
が得られた。
実施例−2 300X300XO.lm/mtのガラスを、前記の通
常洗浄法にて洗浄し、4時間経過後、2537nmと1
847nmを主波長とするUV照射をし、オフセット印
刷を行った。
UV照射機は、オーク製作所の紫外線乾式表面洗浄装置
、HMW−544を使用した。ランプは、低圧水銀灯、
VUV−1.00−06SX16灯(主波長、2537
nm,1847nm)照射距離15m/m、照射時間、
2,5分である。印刷機は紅羊社、600CL,を使用
、版は東レ、水ナシ平版(ネガ型)で製版したものであ
る。
パターンは、240X0.13m/mの画素サイズを、
ストライプ状に配列したものを使用した。
印刷インキは、東洋インキ、水ナシ平版用、R1G,B
の三色を使用し、印刷圧力は、0.1m/mで、前記条
件にてUV照射後、R印刷し、180℃×30分で乾燥
した。更に同様にUV照射を行い乾燥後、G印刷、B印
刷を行った。三色印刷後、印刷面を、顕微鏡×100に
て、全面検査を行った結果、第1図に示す如く、汚れ付
着による、ビンホール、インキハジキ、インキ剥げ、は
発生せず、所定の密着強度テスト(クロスカット)にも
合格、前記欠陥による点灯光モレ色調不良は認められず
、良好な結果が得られた。
〔発明の効果〕
以上詳記したとおり本発明によれば、所定のパターンの
、カラーフィルター形成を行う場合に、印刷前に主波長
、2537nmと1847nmのUV照射を行う事によ
り、ガラス基板上の有機物等による汚れが分解、気相化
されてインキの密着性が向上し、画素のビンホール、イ
ンキハジキ、インキ剥げが防止できるという効果を有す
る。
図、第2図(a)、(b)は、基板汚れの為、ピンホー
ル、インキハジキの発生した印刷パターンを示す図。
以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴 木 喜三郎(他1名)
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明により基板上より汚染物が除去され清
浄な面に印刷された印刷パターンを示す−・正I犀 C
 FiXOクーン 牛21コ(O、) )・・・4冫〜ハジl代 チ 2a(しっ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ガラス基板に所定のパターンのCF層を形成する印刷プ
    ロセスを用いるカラーフィルター製造方法に於いて、ガ
    ラス基板へのインキの密着性を向上させる為の手段とし
    て、R・G・B各色の印刷前に、2537nm、と18
    47nmを主波長とするUV照射を行う事を特徴とした
    カラーフィルター製造方法。
JP1116917A 1989-05-10 1989-05-10 カラーフィルター製造方法 Pending JPH02294602A (ja)

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JP1116917A JPH02294602A (ja) 1989-05-10 1989-05-10 カラーフィルター製造方法

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JP (1) JPH02294602A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5279913A (en) * 1991-01-21 1994-01-18 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing a colour filter
WO1994006037A1 (en) * 1992-09-08 1994-03-17 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Color filter and production method therefor
JP2002250810A (ja) * 2001-02-26 2002-09-06 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタの欠陥修正方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5279913A (en) * 1991-01-21 1994-01-18 U.S. Philips Corporation Method of manufacturing a colour filter
WO1994006037A1 (en) * 1992-09-08 1994-03-17 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Color filter and production method therefor
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