JPH02294602A - カラーフィルター製造方法 - Google Patents
カラーフィルター製造方法Info
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- JPH02294602A JPH02294602A JP1116917A JP11691789A JPH02294602A JP H02294602 A JPH02294602 A JP H02294602A JP 1116917 A JP1116917 A JP 1116917A JP 11691789 A JP11691789 A JP 11691789A JP H02294602 A JPH02294602 A JP H02294602A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 17
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 15
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 abstract description 5
- 239000003086 colorant Substances 0.000 abstract description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 abstract description 2
- 238000003853 Pinholing Methods 0.000 abstract 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 235000019646 color tone Nutrition 0.000 abstract 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 abstract 1
- 239000007792 gaseous phase Substances 0.000 abstract 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 abstract 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 2
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 2
- 230000001846 repelling effect Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N chlorotrifluoroethylene Chemical compound FC(F)=C(F)Cl UUAGAQFQZIEFAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000013020 steam cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ガラス基板上に印刷方式により着色皮膜を形
成して、液晶ディスプレイ、その他、精密電子装置の電
気光学指示装置用カラーフィルターの製造方法に関する
。
成して、液晶ディスプレイ、その他、精密電子装置の電
気光学指示装置用カラーフィルターの製造方法に関する
。
カラーフィルターの製造方法には、フォトリソ法、電着
法、印刷法、等があるが近年は簡略化された製造工程、
低コスト化、大面積化、等の理由により印刷法によるカ
ラーフィルター製造方法が、注目されている。印刷法と
しては、平版オフセット法、フレキソ凹版法、グラビヤ
凹版法、シルクスクリーン法、等が考案実施されており
、従来では不可能とされていた数１０μｍ程度の印刷も
可能となってきている。
法、印刷法、等があるが近年は簡略化された製造工程、
低コスト化、大面積化、等の理由により印刷法によるカ
ラーフィルター製造方法が、注目されている。印刷法と
しては、平版オフセット法、フレキソ凹版法、グラビヤ
凹版法、シルクスクリーン法、等が考案実施されており
、従来では不可能とされていた数１０μｍ程度の印刷も
可能となってきている。
カラーフィルターの製造工程では、製造方法の、いかん
を問わず基板の洗浄は重要な工程であり、通常は、■デ
ィボッシュ超音波浸漬、■同刷毛洗浄、■シャワー水洗
、■流水性、■純水超音波水洗、■純水シャワー水洗、
■ＩＰＡ浸漬、■ダイフロン蒸気洗浄の順序で洗浄を行
う。その後２時間以内に印刷等の処理を行うのが、従来
の方法であった。
を問わず基板の洗浄は重要な工程であり、通常は、■デ
ィボッシュ超音波浸漬、■同刷毛洗浄、■シャワー水洗
、■流水性、■純水超音波水洗、■純水シャワー水洗、
■ＩＰＡ浸漬、■ダイフロン蒸気洗浄の順序で洗浄を行
う。その後２時間以内に印刷等の処理を行うのが、従来
の方法であった。
現在の印刷プロセスでは、洗浄後、２時間以内に印刷等
の処理をする事は、作業の都合上、或いは工程能力上、
無理な場合があり結果として洗浄したガラス基板上に、
在機物等の汚れが付着して、印刷インキの基板への密着
性が阻害され、印刷面のビンホール、インキハジキ、基
板よりのインキ剥げ等が発生するという問題点を有して
いた。
の処理をする事は、作業の都合上、或いは工程能力上、
無理な場合があり結果として洗浄したガラス基板上に、
在機物等の汚れが付着して、印刷インキの基板への密着
性が阻害され、印刷面のビンホール、インキハジキ、基
板よりのインキ剥げ等が発生するという問題点を有して
いた。
そこで本発明は、従来の、この様な問題点を解決するも
ので、その目的とするところは、印刷されたＣＦパター
ンに、ビンホール、インギハジキ、インキ剥げの無いカ
ラーフィルターを提供するところにある。
ので、その目的とするところは、印刷されたＣＦパター
ンに、ビンホール、インギハジキ、インキ剥げの無いカ
ラーフィルターを提供するところにある。
本発明は、蒸気の問題点を解決する為に、印刷方式によ
り、基板上に着色インキによる所定のパターンのＣＦ層
を形成する印刷プロセスに於いて、ガラス基板への、イ
ンキの密着性を向上させる為の手段として、Ｒ−Ｇ−Ｂ
各色の印刷前に、２５３７ｎｍ，と１８４７ｎｍを主波
長とするＵＶ照１１を行う事を特徴とする。
り、基板上に着色インキによる所定のパターンのＣＦ層
を形成する印刷プロセスに於いて、ガラス基板への、イ
ンキの密着性を向上させる為の手段として、Ｒ−Ｇ−Ｂ
各色の印刷前に、２５３７ｎｍ，と１８４７ｎｍを主波
長とするＵＶ照１１を行う事を特徴とする。
本発明では従来の洗浄工程で洗浄後、印刷前にガラス基
板に、２５３７ｎｍと１８４７ｎｍを主波長とするＵＶ
照射を行う。従来の製造プロセスでは洗浄後、２時間以
上経過すると有機物等の付着により、第２図に示す様に
印刷面にビンホ〜ル、インキハジキ、インキ剥げが発生
する事があった。
板に、２５３７ｎｍと１８４７ｎｍを主波長とするＵＶ
照射を行う。従来の製造プロセスでは洗浄後、２時間以
上経過すると有機物等の付着により、第２図に示す様に
印刷面にビンホ〜ル、インキハジキ、インキ剥げが発生
する事があった。
そこで印刷前に前記波長のＵＶ照射を行ったところ、基
板表面上の有機汚染物か照射により、種々の分子結合が
分解され、これら励起状態の物質、或いは光分解反応で
生成した汚染物のフリーラジカルと、０，から発生した
原子状態の酸素Ｏが反応し、ＣＯ、ＨＯ、Ｎｏの様な単
純な分子を形成し、気相化され除去される事により、第
１図に示す通り、ビンホール、インキハジキ、インキ剥
げの無い印刷が可能となり、これが原因の光モレによる
色調不良が解決された。
板表面上の有機汚染物か照射により、種々の分子結合が
分解され、これら励起状態の物質、或いは光分解反応で
生成した汚染物のフリーラジカルと、０，から発生した
原子状態の酸素Ｏが反応し、ＣＯ、ＨＯ、Ｎｏの様な単
純な分子を形成し、気相化され除去される事により、第
１図に示す通り、ビンホール、インキハジキ、インキ剥
げの無い印刷が可能となり、これが原因の光モレによる
色調不良が解決された。
実施例−１
３００Ｘ３００ＸＯ．ｌｍ／ｍｔのガラスを、前記の通
常洗浄法にて洗浄し、６時間経過後、２５３７ｎｍと１
８４７ｎｍを主波長とするＵＶ照射をし、オフセット印
刷を行った。ＵＶ照射及び印刷条件は以下の通りである
。
常洗浄法にて洗浄し、６時間経過後、２５３７ｎｍと１
８４７ｎｍを主波長とするＵＶ照射をし、オフセット印
刷を行った。ＵＶ照射及び印刷条件は以下の通りである
。
ＵＶ照射機は、オーク製作所の紫外線乾式表面洗浄装置
、ＨＭＷ−５４４を使用した。ランプは、低圧水銀灯￥
ＵＶ−１００−０６ＳＸ１６灯（主波長、２５３７ｎｍ
．１８４７ｎｍ）照射距Ｍ１５ ｍ ／ ｍ、照射時間
、５分である。印刷機は紅羊社、６００ＣＬ，を使用、
版は東レ、水ナシ平版（ネガ型）で製版したものである
。パターンは、２４０ＸＯ。１３ｍ／ｍの画素サイズを
、ストライブ状に配列したものを使用した。印刷インキ
は、東洋インキ、水ナシ平版用、Ｒ，Ｇ，Ｂの三色を使
用し、印刷圧力は、０．１ｍ／ｍで、前記条件にてＵＶ
照射後、Ｒ印刷し、１８０℃×３０分で乾燥した。更に
同様にＵＶ照射を行い乾燥後、Ｇ印刷、Ｂ印刷を行った
。三色印刷後、印刷面を顕＠鏡×１００にて、全面検査
を行った結果、第１図に示す如く、汚れ付着による、ビ
ンホール、インキハジキ、インキ剥げ、は発生せず所定
の密着強度テスト（クロスカット）にも合格、前記、欠
陥による点灯光モレ色調不良は認められず、良好な結果
が得られた。
、ＨＭＷ−５４４を使用した。ランプは、低圧水銀灯￥
ＵＶ−１００−０６ＳＸ１６灯（主波長、２５３７ｎｍ
．１８４７ｎｍ）照射距Ｍ１５ ｍ ／ ｍ、照射時間
、５分である。印刷機は紅羊社、６００ＣＬ，を使用、
版は東レ、水ナシ平版（ネガ型）で製版したものである
。パターンは、２４０ＸＯ。１３ｍ／ｍの画素サイズを
、ストライブ状に配列したものを使用した。印刷インキ
は、東洋インキ、水ナシ平版用、Ｒ，Ｇ，Ｂの三色を使
用し、印刷圧力は、０．１ｍ／ｍで、前記条件にてＵＶ
照射後、Ｒ印刷し、１８０℃×３０分で乾燥した。更に
同様にＵＶ照射を行い乾燥後、Ｇ印刷、Ｂ印刷を行った
。三色印刷後、印刷面を顕＠鏡×１００にて、全面検査
を行った結果、第１図に示す如く、汚れ付着による、ビ
ンホール、インキハジキ、インキ剥げ、は発生せず所定
の密着強度テスト（クロスカット）にも合格、前記、欠
陥による点灯光モレ色調不良は認められず、良好な結果
が得られた。
実施例−２
３００Ｘ３００ＸＯ．ｌｍ／ｍｔのガラスを、前記の通
常洗浄法にて洗浄し、４時間経過後、２５３７ｎｍと１
８４７ｎｍを主波長とするＵＶ照射をし、オフセット印
刷を行った。
常洗浄法にて洗浄し、４時間経過後、２５３７ｎｍと１
８４７ｎｍを主波長とするＵＶ照射をし、オフセット印
刷を行った。
ＵＶ照射機は、オーク製作所の紫外線乾式表面洗浄装置
、ＨＭＷ−５４４を使用した。ランプは、低圧水銀灯、
ＶＵＶ−１．００−０６ＳＸ１６灯（主波長、２５３７
ｎｍ，１８４７ｎｍ）照射距離１５ｍ／ｍ、照射時間、
２，５分である。印刷機は紅羊社、６００ＣＬ，を使用
、版は東レ、水ナシ平版（ネガ型）で製版したものであ
る。
、ＨＭＷ−５４４を使用した。ランプは、低圧水銀灯、
ＶＵＶ−１．００−０６ＳＸ１６灯（主波長、２５３７
ｎｍ，１８４７ｎｍ）照射距離１５ｍ／ｍ、照射時間、
２，５分である。印刷機は紅羊社、６００ＣＬ，を使用
、版は東レ、水ナシ平版（ネガ型）で製版したものであ
る。
パターンは、２４０Ｘ０．１３ｍ／ｍの画素サイズを、
ストライプ状に配列したものを使用した。
ストライプ状に配列したものを使用した。
印刷インキは、東洋インキ、水ナシ平版用、Ｒ１Ｇ，Ｂ
の三色を使用し、印刷圧力は、０．１ｍ／ｍで、前記条
件にてＵＶ照射後、Ｒ印刷し、１８０℃×３０分で乾燥
した。更に同様にＵＶ照射を行い乾燥後、Ｇ印刷、Ｂ印
刷を行った。三色印刷後、印刷面を、顕微鏡×１００に
て、全面検査を行った結果、第１図に示す如く、汚れ付
着による、ビンホール、インキハジキ、インキ剥げ、は
発生せず、所定の密着強度テスト（クロスカット）にも
合格、前記欠陥による点灯光モレ色調不良は認められず
、良好な結果が得られた。
の三色を使用し、印刷圧力は、０．１ｍ／ｍで、前記条
件にてＵＶ照射後、Ｒ印刷し、１８０℃×３０分で乾燥
した。更に同様にＵＶ照射を行い乾燥後、Ｇ印刷、Ｂ印
刷を行った。三色印刷後、印刷面を、顕微鏡×１００に
て、全面検査を行った結果、第１図に示す如く、汚れ付
着による、ビンホール、インキハジキ、インキ剥げ、は
発生せず、所定の密着強度テスト（クロスカット）にも
合格、前記欠陥による点灯光モレ色調不良は認められず
、良好な結果が得られた。
以上詳記したとおり本発明によれば、所定のパターンの
、カラーフィルター形成を行う場合に、印刷前に主波長
、２５３７ｎｍと１８４７ｎｍのＵＶ照射を行う事によ
り、ガラス基板上の有機物等による汚れが分解、気相化
されてインキの密着性が向上し、画素のビンホール、イ
ンキハジキ、インキ剥げが防止できるという効果を有す
る。
、カラーフィルター形成を行う場合に、印刷前に主波長
、２５３７ｎｍと１８４７ｎｍのＵＶ照射を行う事によ
り、ガラス基板上の有機物等による汚れが分解、気相化
されてインキの密着性が向上し、画素のビンホール、イ
ンキハジキ、インキ剥げが防止できるという効果を有す
る。
図、第２図（ａ）、（ｂ）は、基板汚れの為、ピンホー
ル、インキハジキの発生した印刷パターンを示す図。
ル、インキハジキの発生した印刷パターンを示す図。
以上
出願人 セイコーエプソン株式会社
代理人 弁理士 鈴 木 喜三郎（他１名）
第１図は、本発明により基板上より汚染物が除去され清
浄な面に印刷された印刷パターンを示す−・正Ｉ犀 Ｃ
ＦｉＸＯクーン 牛２１コ（Ｏ、） ）・・・４冫〜ハジｌ代 チ ２ａ（しっ
浄な面に印刷された印刷パターンを示す−・正Ｉ犀 Ｃ
ＦｉＸＯクーン 牛２１コ（Ｏ、） ）・・・４冫〜ハジｌ代 チ ２ａ（しっ
Claims (1)
- ガラス基板に所定のパターンのＣＦ層を形成する印刷プ
ロセスを用いるカラーフィルター製造方法に於いて、ガ
ラス基板へのインキの密着性を向上させる為の手段とし
て、Ｒ・Ｇ・Ｂ各色の印刷前に、２５３７ｎｍ、と１８
４７ｎｍを主波長とするＵＶ照射を行う事を特徴とした
カラーフィルター製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1116917A JPH02294602A (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | カラーフィルター製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1116917A JPH02294602A (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | カラーフィルター製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02294602A true JPH02294602A (ja) | 1990-12-05 |
Family
ID=14698861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1116917A Pending JPH02294602A (ja) | 1989-05-10 | 1989-05-10 | カラーフィルター製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02294602A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5279913A (en) * | 1991-01-21 | 1994-01-18 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing a colour filter |
| WO1994006037A1 (en) * | 1992-09-08 | 1994-03-17 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Color filter and production method therefor |
| JP2002250810A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
-
1989
- 1989-05-10 JP JP1116917A patent/JPH02294602A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5279913A (en) * | 1991-01-21 | 1994-01-18 | U.S. Philips Corporation | Method of manufacturing a colour filter |
| WO1994006037A1 (en) * | 1992-09-08 | 1994-03-17 | Idemitsu Kosan Co., Ltd. | Color filter and production method therefor |
| JP2002250810A (ja) * | 2001-02-26 | 2002-09-06 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの欠陥修正方法 |
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