JPH02292238A - ギ酸メチルの製法 - Google Patents

ギ酸メチルの製法

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JPH02292238A
JPH02292238A JP9988089A JP9988089A JPH02292238A JP H02292238 A JPH02292238 A JP H02292238A JP 9988089 A JP9988089 A JP 9988089A JP 9988089 A JP9988089 A JP 9988089A JP H02292238 A JPH02292238 A JP H02292238A
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JP
Japan
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catalyst
methanol
copper
methyl formate
chromium
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JP9988089A
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English (en)
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Kensho Chin
陳 顯彰
Manshi Tei
鄭 萬枝
Fukushin Rin
福伸 林
Fukujo Ko
黄 福助
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DALIAN KAGAKU KOGYO KOFUN YUGENKOSHI
Original Assignee
DALIAN KAGAKU KOGYO KOFUN YUGENKOSHI
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、酸化銅および酸化クロム触媒の存在下にメタ
ノールを気相において脱水素化させることからなるギ酸
メチルの製法に関する。
ギ酸メチルについての従来からの製造方法は、ギ酸とメ
タノールのエステル化による乙のであって多量の水を生
成するのに対し、本発明の製法は、化学原料やクリーン
な燃料として使用できるような、高純度の水素を生成す
るものであり、また、ギ酸メチルの選択率が高く、しか
も触媒寿命が長い。
(従来の技術) 公知のギ酸メチルの製法には、以下に記載のらのが包含
される;(a)銅およびセメント含有触媒の存在下にメ
タノールを脱水素化する方法(米国特許第423217
1号)、(b)酸化銅からなる前駆体と、亜鉛酸化物お
よびアルミニウム酸化物からなるスビネル型構造の支持
体との還元により製造された触媒上でメタノールを脱水
素化する、ギ酸メチルの製法(前駆体は10〜80%の
銅を含有し、脱水素化温度は235〜350℃である。
)(米国特許第4480122号)、(c)銅および亜
鉛含有触媒の存在下にメタノールを脱水素化する、ギ酸
メチルの製法(特開昭52−108916号)、(d)
特開昭54−12315号に開示のような銅、亜鉛およ
びアルミニウム含有触媒上でメタノールを脱水素化する
、ギ酸メチルの製法、(e)特開昭56−7741号に
記載のような銅、ジルコニウムおよびカルシウム含有触
媒上でメタノールを脱水素化する、ギ酸メヂルの製法、
(f)特開昭57−203034号記載のような液相に
おいてクロム含存触媒上でメタノールを脱水素化する、
ギ酸メチルの製法。
(発明が解決しようとする課題) 上記方法のうち、方法(a)は、24時間の操作運転後
にメタノールの転化率およびギ酸メヂルの収率が著しく
減少するようである。方法(b)は反応温度が約235
〜約3qO℃である旨を開示しているが、これは、温度
が235℃以下の場合にはメタノールの転化率が著しく
減少する一方、より高温では選択率か低下することを意
味している。
方法(C)、(d)および(e)は、本発明において使
用される触媒とは全く異なる触媒を用いているようであ
る。方法(f)は、反応を液相で行う旨を記載している
が、これは、触媒の分離工程が必要なことを意味してい
るのである。
(発明の目的および概要2 本発明の第1の目的は、ギ酸メチルをメタノールから簡
単な工程で得られる該ギ酸メチルの製法を提供すること
である。
本発明の第2の目的は、ギ酸メチルに対する選択率が高
くしかもいずれの副生成物をも形成しないギ酸メチルの
製法を提供することである。
本発明の第3の目的は、触媒活性の劣化が著しく小さく
したがってその操作寿命を延長しうるギ酸メチルの製法
を提供することである。
本発明者らは、メタノールの気相脱水素化によるギ酸メ
チルの製法を開発すべく鋭意検討した結果、酸化銅およ
び酸化クqムからなる触媒がギ酸メヂルに対して非常に
高い選択性を示すことを見出だし、この知見に基づき本
発明を完成するに至ったのである。
(発明の詳説) 本発明では、酸化銅および酸化クロム含有触媒を使用す
る。
かかる触媒を構成する銅成分として、種々の銅化合物を
使用することができる。銅化合物の例には銅の、水酸化
物、酸化物、炭化物、無機酸塩、a機酸塩などが包含さ
れる。
該触媒を構成するクロム成分として、種々のクロム化合
物を使用することができる。クロム化合物の例にはクロ
ムの、酸化物、無機酸塩、a機酸塩などが包含される。
酸化銅二酸化クロムの重量比は、約95:5〜約75:
25であって、約92:8〜約80 20の比率が最も
好ましい。
本発明に使用される触媒は、通常の工業的方法で製造す
ることができる。好ましい方法は以下のとおりである。
まず銅化合物溶液をクロム化合物溶液に添加し、得られ
た溶液のpttを調節して沈澱物を形成する。沈澱物を
水洗し、次いで約70゜Cで乾燥する。乾燥した沈澱物
を空気または窒素中、温度約450℃で焼成し、次いで
焼成した沈澱物を水素ガス中、温度約200℃で化学的
に還元して活性化する。
メタノールの脱水素化は、触媒をメタノールと気相中で
接触させて行い、ギ酸メチルを生成4゛る。
反応温度は約140〜約280℃、好ましくは約180
〜約240℃とすることかでき、メタノールのガス空間
速度は約50〜5 0 0 0 0hr−1、好ましく
は約500〜約5 Q 0 0hr”とすることができ
、また、反応は約1〜約10気圧の範囲で行うことがで
きる。
本発明に用いられる触媒は、長時間安定で、ギ酸メチル
の選択性が高い。したがって、本発明の製法は、工業的
に非常に有用である。
(実施例および比較例) つぎに、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳
しく説明する。本発明は、これら実施例に限定されるも
のではな《、本発明の精神および範囲を逸脱しない限り
、いかなる変形例および改良例も実施することができる
塩Δ匹上 米国特許第4232171号の実施例記載p方法に従い
、触媒を調製した。成分比率は、酸化銅が78重…%で
セメントが22重量%となるように調整した。
内径23.5.vmの反応器1こ、上記方法で調製した
触媒20m(lを充填した。
大気圧下、温度200℃で、水素ガスをガス空間速度5
 0 0 0hr−1にて8時間連続的に導入しながら
、触媒を還元した。
次いで、メタノールを反応器内にガス空間速度2 5 
0 0hr”で供給し、大気圧下、温度180℃で16
時間保持した。テスト結果を第1表に示す。
比較例2 米国特許第4480122号の実施例記載の方法に従い
、触媒を調製した。成分比率は、酸化銅が60重潰%で
酸化亜鉛が30重量%でアルミナがlO重M%となるよ
うに、調整した。
反応は、比較例l記載と同じ条件で行った。テスト結果
を第1表に示す。
比較例3 日本特許58−163444の実施例記載のように、触
媒を調製した。成分比率は、つぎのように調整した。酸
化銅:837J]%、酸化亜鉛:4.2重量%、アルミ
ナ:8.3重量%、リン酸銅:2,8重量%およびリン
酸ナトリウム:1,7重徂%。
反応条件は、比較例Iと同様である。テスト結果を第1
表に示す。
実施例! 触媒は、以下の方法で調製した。
(1)硝酸銅(Cu(N03)=・3リ,O)2101
Fを脱イオン水400z(lに溶解し、約70℃に加熱
する。
(2)クロム酸アンモニウム((NHJtCrO4) 
2 3 gを脱イオン水100Jj(に溶解し、70℃
に加熱する。
(3)溶液(2)を溶液(1)に、充分に撹はんしなが
ら徐々に添加する。
(4)溶液(3)のpH値をアンモニア溶液で9〜lO
に調節する。
(5)得られた沈澱物を間斗でろ過し、脱イオン水で洗
浄する。
(6)湿潤沈澱物を温度70℃にて一夜オーブン中で乾
燥し、次いで450℃で4時間か焼した。
(7)粉末を直径3mx×高さ3mmのンリンダー内に
圧縮する。
(8)酸化銅(Cub) :酸化クロム(CrzO3)
の重量比は86・14である。
直径23.5x*の反応器に、」二記方法で調製した触
媒20村を充填した。
大気圧下、温度200℃で、水素ガスをガス空間速度5
 0 0 0hr”にて8時間連続的に導入しながら、
触媒を還元した。
次いで、メタノールを反応器内にガス空間速度2 5 
0 0hr”で供給し、大気圧下、温度180℃で48
時間保持した。テスト結果を第2表に示す。
笈敗鯉λ 実施例lに記載したと同じ方法で触媒を調製した。たた
し、実施例lの硝酸銅およびクロム酸アンモニウムに代
えて、塩化銅および硝酸クロムを使用した。酸化銅二酸
化クロムの重量比は75;25である。
触媒の還元を実施例l記載と同じ条件で行った。
実施例1に記載したと同じ条件で脱水素化反応を行った
。ただし、2 5 0 0hr”に代えて50hrのガ
ス空間速度を用いた。テスト結果を第2表に示す。
実施例3および4 実施例1に記載したと同じ方法で2つの触媒を調製した
。ただし、他の種類の銅化合物およびクロム化合物を使
用した。得られた2つの触媒は、酸化銅:酸化クロムの
重量比がそれぞれ95:5および80:20である。
触媒の還元を実施例!記載と同じ条件で行った。
実施例lに記載したと同じ条件で脱水素化反応を行った
。ただし、各々、2 5 0 0hr”に代えて5 0
 0 0 0hr”および2 5 0 0hr−’のガ
ス空間速度を用いた。テスト結果を第2表に示す。
実施例5 実施例!に記載したと同じ方法で触媒を調製した。ただ
し、硝酸銅および硫酸アンモニウムクロムを使用した。
酸化銅二酸化クロムの重虫比は83:17である。
触媒の還元を実施例l記載と同じ条件で行った。
実施例l記載の条件で反応を行った。ただし、反応温度
は140℃で、ガス空間速度は1000hr− ’とし
た。テスト結果を第2表に示す。
実施例6 実施例lに記載したと同じ方法で触媒を調製した。ただ
し、銅化合物として酢酸銅を用い、クロム化合物として
硫酸クロムを使用した。酸化銅二酸化クロムの重量比は
95:5である。
触媒の還元を実施例I記載の方法で行った。
実施例l記載と同じ条件で反応を行った。ただし、28
0℃の反応温度奔用い、ガス空間速度は1 0 0 0
 0hr”とした。テスト結果を第2表に示す。
実施例7 実施例lに記載したと同じ方法で触媒を調製した。ただ
し、硫酸銅および酸化クロムを用い、酸化銅二酸化クロ
ムの重量比(よ81:19とした。
触媒の還元を実施例l記載と同じ条件で行った。
而記と同じ条件で脱水素化反応を行った。ただし、圧力
は10気圧で、ガス空間速度は25000hr”とした
。テスト結果を第2表に示す。
第1表 比較例 温度(”C) 圧力(ate) G H S V (hr−’) 転化率(モル%) 選択率(モル%) 収率(モル%) l 88.2

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、酸化銅および酸化クロムからなる触媒の存在下にメ
    タノールを気相脱水素化させることを特徴とするギ酸メ
    チルの製法。 2、脱水素化が、温度140〜280℃で行なわれる請
    求項1記載の製法。 3、脱水素化が、圧力1〜10気圧で行なわれる請求項
    1記載の製法。 4、脱水素化が、メタノールのガス空間速度50〜50
    000hr^−^1で行なわれる請求項1記載の製法。 5、酸化銅:酸化クロムの重量比が、95:5〜75:
    25の範囲である請求項1記載の製法。
JP9988089A 1989-04-18 1989-04-18 ギ酸メチルの製法 Pending JPH02292238A (ja)

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