JPH0228774A - 多点測定パタンの入力方法 - Google Patents

多点測定パタンの入力方法

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JPH0228774A
JPH0228774A JP63178419A JP17841988A JPH0228774A JP H0228774 A JPH0228774 A JP H0228774A JP 63178419 A JP63178419 A JP 63178419A JP 17841988 A JP17841988 A JP 17841988A JP H0228774 A JPH0228774 A JP H0228774A
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measuring
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JP63178419A
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Masahide Yamazaki
山崎 正英
Tamiji Tezuka
手塚 民治
Takayuki Seki
隆行 関
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Anritsu Corp
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Anritsu Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く本発明の産業上の利用分野〉 本発明は、決められたパタンに従って複数の測定点を入
力するための多点測定パタンの入力方法に関する。
〈従来技術〉(第9図) 例えば物品の表面のソリや凹凸等を測定する測定機では
、各種の測定パタンを備えている。
測定パタンのうち、多点測定は、通常5点、8点、9点
等の測定パタンか決められている。
第9図は、このような測定パタンを備えた測定機を示す
図であり、測定部1に載置された被測定物2の測定面2
aは、制御部3を介して表示部4の画面に表示され、操
作部5の操作によって5点、8点、9点等の測定点P1
〜P9・・・が指定入力されると、制御部3の制御によ
り測定部1が作動し、この入力された測定点P1〜P9
・・・の高さ値71〜Z9・・・が検出される。
制御部3は、この高さ値を用いて、例えば5点測定にお
ける測定点P1、P3の高さ平均と測定点P5の高さと
の差および測定点P2、P4の高さ平均と測定点P5の
高さとの差を次式%式% で求め、この演算結果d1、d2に基づいて表面形状の
良否を判別している。
同様に、8点測定では [(Z1+Z3)/2]−Z2=dl [(Z3+Z5)/2]−Z4=d2 [(Z5+Z7)/2]−Z6=d3 [(Z7+21)/2]−28=d4 で求まるdl、d2、d3、d4に基づいて表面形状の
良否を判定している。
また、9点測定では [(Z1+25)/2]−29=d1 [(Z3+Z  7)  /2  コ −Z9=d2[
(Z2+26)/2] −29=d3[(Z4+28)
/2]−29=d4 で求まるdl、d2、d3、d4に基づいて表面形状の
良否を判定している。
なお、この測定点の入力は、予め5点、8点、9点等の
測定であることを操作部5より入力指定しておき、次に
、測定面2aの左上から時計回りに測定点P1、P2、
・・・、P9、・・・までを順次入力するようにしてい
る。
く本発明が解決しようとする問題点〉 しかしながら、前記のような入力方法では、予め何点の
測定かを入力指定するとともに、例えば5点測定の場合
、第1の測定点は左上、第2の測定点は右上、・・・第
5の測定点は中央という測定パタンに対する入力順序を
常に操作者が憶えていなければならず、さらに多くの多
点測点測定では、入力ミスが起こりやすいという問題が
あった。
本発明は、この問題を解決した多点測定パタンの入力方
法を提供することを目的としている。
く前記問題点を解決するための手段〉 前記問題を解決するために、本発明の多点測定パタンの
入力方法は、 複数の測定点を任意の順序で入力する段階と、入力され
た測定点の位置を表示する段階と、測定点の入力の終了
を判別する段階と、入力の終了した測定点の数を識別す
る段階と、前記任意の順序で入力された測定点を、前記
測定点の数に対応する予め決められた測定パタンのいず
れの入力点かを認識する段階とを備えている。
く作用〉 したがって、任意の順序で入力されたM個の測定点は、
M点測定パタンの各入力点に対応付けされることになる
く本発明の実施例〉(第1〜8図) 以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説明する。
第1図は、測定部10に載置された被測定物2の表面形
状を測定する測定機の構成を示すものである。
測定部10は、被測定物2をX−Y方向に移動するX−
Yステージ11と、被測定物2の表面2aにビーム光を
照射して反射光を受光し、照射点のX−Yステージ11
からのZ方向の高さを検出する光センサ−2とから構成
されている。
このX−Yステージ11は、コンピュータ構成された制
御部20の入出力インターフェイス(以下110と記す
)21からのパルス信号によって被測定物をX−Y方向
に移動し、光センサ−2のビーム照射点の位置は、X−
Y平面の原点からの座標信号としてX位置センサー3、
Y位置センサ14からl1021よりCPU22に入力
されている。
23は、キーボードおよびマウスからなる入力操作部、
24は表示部、25は測定用のプログラム等が記憶され
た記憶部である。
第2図は、この制御部20の多点測定パタンの処理手順
を示すフローチャー1〜である。
予め、被測定物2の外形形状や載置位置が入力されてい
るものとすると、ステップ1では、被測定物2の表面2
a(測定面)に対応する表示(四角形)が表示部24に
よって画面表示されるとともに数値Mが110 I+に
初期化される。
次に操作者がこの画面を見ながら、入力操作部23のキ
ーボードあるいはマウス等によって測定面内の5点測定
のパタンに応じた任意の位置に測定点P1を入力設定す
ると、測定点P1の座標(Xl、Yl)が計算されて所
定のアドレス(2M、2M+1)即ち、00,01にそ
れぞれ記憶される(ステップ2.3)。
この測定点は表示部24に画面表示され、Mが1だけ増
加する(ステップ4.5)。
この処理は、5つの測定点P1〜P5が入力されるまで
行なわれ、記憶部25のアドレスOO〜09に第3図に
示すような座標データが記憶されるとともに、画面には
第4図に示す5つの測定点が表示されることになる。
測定点の入力をさらに続ける(8点測定や9点測定の場
合)はこの処理を繰返すことになるが、測定点の入力を
終了する場合は入力操作部23からキー操作することに
より次のステップへ進む(ステップ6)。
測定点の入力が終了すると、Mの値が予め定義されてい
る数に等しいかが判定され、もし定義されていない数の
ときは入力エラーの表示がなされる(ステップ7〜10
)。
M=5と判定されると、記憶された座標データのY座標
値Y1〜Y5について最大値■と最小値Y−が抽出され
る。同様に、X座標値×1〜×5について最大値X+と
最小値X−が抽出される。座標(X−1Y−Jと(X+
、Yl−)ハ5ツノ測定点P1〜P1を囲む最小の長方
形の左下座標と右上座標を示す(ステップ11)。
前記長方形領域を第5図に示すように4等分に分割した
時の交点位置01〜θ9を次の計算式により求める(ス
テップ12)。
θ1ミ (凶0、%(1)−(X−1Y−)θ2ミ(X
2o= Y2o) −(<X/ 2 ) + (X+/
 2 )、Y−) θ3ミ(Xがη。)−(X+、Y−) θ4ミ(騙■。)−(<X−1(Y−/2)+(■/2
)) θ5ミ< X、、、Y@o) = ((X / 2 )
 + (X+/ 2 >、(Y−/ 2 ) + (Y
+/ 2 > )θ” = (x4A1y、。) −(
(X+、(Y−/2 > + (Y+/2)) θ7三(Xqo、 Yqo) = (X−1Y+−)θ
 8 ミ (Xs=、   Y8o)  −((X−/
  2  >  +   (X十/  2  >  、
Y+) θ9ミ(XyolYto) = (X+、Y+)ステッ
プ13では、01〜θ9の各点を中央とじ横敬縦套牙の
長方形小領域a1〜a9の左下座標と右上座標が第6図
のように計算して求められ、アドレスa1〜a9に記憶
される。
但 し 、     ム=   [(X+)   −(
X−)   コ  / 4ち−[(Y+) −(Y−)
 ] /4ステップ14では、測定点P1〜P5が小領
域a1〜a9のいずれに含まれるかの対応を示す対応表
を、第7図のようにa1〜a9のいずれでもないアドレ
スaOで初期化する。
ステップ15では、測定点ら(j−1〜5)の座標値(
X、4、Y/)がそれぞれ小領域a1〜a9のいずれに
含まれるかを順次求め、aシ(i = 1〜9)に含ま
れているならaしを対応表のらアドレスに記憶する。q
の座標値がaj(!=1〜9)のいずれにも含まれてい
ない場合にはうアドレスにはaOが残される。
ステップ16では、対応表のPJ (J = 1〜5)
アドレスに記憶されているat(i=o〜9)を順次読
取り、aQ、a2、a4、aO、a8のいずれかを含む
ときにはステップ17の入力エラー表示に移行すること
で、5点バタン形状であることをテストする。
5点バタン形状であると判定されると、対応表の帆(i
−1〜9)を読取り、5点パタンの測定順に従ったa7
 (Ql )→a9 (Q2)→a3(Q3)→a1 
(Q4) →a5 (Q5)の順番で次々に対応するり
・(j−1〜5)を抽出し、第3図に示す3の測定点デ
ータを第8図のようにアドレス100〜109に記憶し
てぃく(ステップ18)。
図示しないが8点測定、9点測定の場合も5点測定の場
合と同様に処理される。即ち、同一のステップ名で説明
すると、ステップ11では、P1〜P8あるいはP1〜
P9を対象ニ(X−1Y−)と(X+、1/+)を求め
、ステップ12〜ステツプ14は5点測定の場合の同一
処理で良く、ステップ15では、P1〜P8あるいはP
1〜P9の対応表を作り、ステップ16〜ステツプ18
では、8点バタン形状あるいは9点バタン形状の定義に
従ったバタン形状テストおよびアドレス1oo〜115
あるいはアドレス100〜119への8点測定、9点測
定で定義されている入力点の番号順に従ったP1〜P8
あるいはP1〜P9の測定点データ記憶を実行する。
このようにして、任意の順序で入力された測定点P1〜
P5は、5点測定パタンの第1〜第5の入力点に対応付
けられ、第8図に示すように入力点の番号順に配列記憶
されることになる。
ステップ19以降は、この番号順に記憶された各入力点
に基づいてその座標位置の測定を行なう手順であり、ス
テップ1つで数値11Nがそれぞれ1.100に初期化
された後、ステップ20でN)N+1のアドレスに記憶
された入力点Q+の座標値(xi、yi)に対応するパ
ルス信号がXYステージ11に送られ、X−Yステージ
11が移動して、被測定物2の第1の入力点Q1の座標
位置(xl、yl)に光ビームが照射される。
ステップ21では、検出された入力点Q1の高さ値Z1
が所定のアドレスに記憶され、iが1だけ増加し、Nが
2だけ増加してステップ20に戻る(ステップ23)。
この繰返し処理によって、第1〜第5の入力点01〜Q
5の順でその高さ値Z1、Z2、z3、z4、z5が記
憶され、i=5がステップ22で判定されるとステップ
24で次式の演算、dl−[(z1+z3)/2]−z
5 d2−[(z2+z4)/2]−z5 がなされ、dl、d2の値は被測定物2の凹凸の度合い
を示す値としてステップ25で判定され、その判定結果
は表示部24に画面表示される(ステップ26)。
なお、第2図のステップ8.9からの8点測定、9点測
定の処理手順は省略して示したが、前述したように5点
測定の手順とほぼ同様に各測定点と測定パタンの入力点
との対応付けをした後、その高さ値を測定して演算した
結果を判定することになる。
く本発明の他の実施例〉 なお、前記実施例は、本発明を被測定物の表面形状を測
定する測定機について適用していたが、入力点の測定対
象が前記実施例のように物品の高さだけでなく、他の情
報を測定する装置についても同様に適用することができ
る。
また、前記実施例では5点測定パタンについて説明した
が、8点、9点あるいはさらに多くの測定パタンについ
ても本発明は同様に適用することができる。
く本発明の効果〉 本発明の多点測定パタンの入力方法は、前記説明のよう
に測定点を任意の順序で入力でき、何点測定であるかの
入力指定を行なわずに済むため、入力操作が容易でミス
を未然に防ぐことができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を適用した測定機の構成を
示すブロック図、第2図は、第1図構成の処理手順を示
すフローチャート図である。 第3図は第2図の要部の処理結果を示す対応図、第4図
は第2図の要部の処理結果を示す画面表示図、第5図は
第2図の要部の処理を説明するための図、第6〜8図は
第2図の要部の処理結果を示す対応図である。 第9図は、従来の入力方法による測定機の動作状態を示
すブロック図である。 10・・・・・・測定部、11・・・・・・X−Yステ
ージ、12・・・・・・光センサ、20・・・・・・制
御部、21・・・・・・入出力インターフェイス、22
・・・・・・CPIJ、23・・・・・・入力操作部、
24・・・・・・表示部、25・・・・・・記憶部。 特許出願人    アンリツ株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 複数の測定点を任意の順序で入力する段階と、入力され
    た測定点の位置を表示する段階と、測定点の入力の終了
    を判別する段階と、 入力の終了した測定点の数を識別する段階と、前記任意
    の順序で入力され測定点を、前記測定点の数に対応する
    予め決められた測定パタンのいずれの入力点かを認識す
    る段階とを備えた多点測定パタンの入力方法。
JP63178419A 1988-07-18 1988-07-18 多点測定パタンの入力方法 Pending JPH0228774A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150115909A (ko) 2013-02-05 2015-10-14 바스프 에스이 Mww 골격 구조를 가진 티탄 함유 제올라이트 물질의 제조 방법

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20150115909A (ko) 2013-02-05 2015-10-14 바스프 에스이 Mww 골격 구조를 가진 티탄 함유 제올라이트 물질의 제조 방법

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