JPH0228531A - 柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験方法および装置 - Google Patents

柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験方法および装置

Info

Publication number
JPH0228531A
JPH0228531A JP1087126A JP8712689A JPH0228531A JP H0228531 A JPH0228531 A JP H0228531A JP 1087126 A JP1087126 A JP 1087126A JP 8712689 A JP8712689 A JP 8712689A JP H0228531 A JPH0228531 A JP H0228531A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
base
carrier
foundation member
inertial mass
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP1087126A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0670602B2 (ja
Inventor
Patrick Bermingham
パトリック・バーミンガム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Berminghammer Corp Ltd
Original Assignee
Berminghammer Corp Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Berminghammer Corp Ltd filed Critical Berminghammer Corp Ltd
Publication of JPH0228531A publication Critical patent/JPH0228531A/ja
Publication of JPH0670602B2 publication Critical patent/JPH0670602B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M5/00Investigating the elasticity of structures, e.g. deflection of bridges or air-craft wings
    • G01M5/0041Investigating the elasticity of structures, e.g. deflection of bridges or air-craft wings by determining deflection or stress
    • G01M5/005Investigating the elasticity of structures, e.g. deflection of bridges or air-craft wings by determining deflection or stress by means of external apparatus, e.g. test benches or portable test systems
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01MTESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Aviation & Aerospace Engineering (AREA)
  • Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)
  • Testing Of Devices, Machine Parts, Or Other Structures Thereof (AREA)
  • Revetment (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Investigation Of Foundation Soil And Reinforcement Of Foundation Soil By Compacting Or Drainage (AREA)
  • Force Measurement Appropriate To Specific Purposes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ケーソン及び杭等すなわち基礎部材の地中で
の負荷支持能力を試験するための装置及びその方法に関
するものである。
基礎部材例えばケーソンの許容能力は、2つの既知の技
術のうちのいずれかによって試験することができる。先
ず、第1の既知の試験方法において、支持構体は、ケー
ソンの頂端部上方に離間して配置されていると共に、大
きな塊を詰め込むように配置されている。例えば、鋼製
の梁及び杭を概ね箱状の構体に形成して、この構体に砂
又はコンクリート製のブロックを詰め込む。続いて、液
圧ジヤツキを、ケーソンの頂部と支持構体の下側との間
に位置決めし、ジヤツキを伸ばして、重量のある構体の
下側を持ち上げ、このことによってケーソンに対して、
制御自在な下方への反撥負荷を与えている。このような
技術を利用することによって、大きな反発力を生起する
ことかで・きるが、このような装備は取扱いにくく、し
たがって、このような試験の方法の実施には、時間がか
かると共に、費用もかかる。
第2の既知の試験方法は、試験されるべきケーソンの各
側に一個づつ配置した補助基礎部材を2個使用している
。続いて、大型の梁が、位置決めされて、列形の3本の
基礎部材をかけ渡し、そして、前記梁を補助の基礎部材
に取付ける。その後、支間の中心において、試験される
べきケーソンの頂部と、梁の下側との間に液圧ジヤツキ
を配置する。補助の基礎部材に固定された梁の両端は、
ジヤツキの下方への力を張力として基礎部材に加えて、
ジヤツキの下方への反力を、試験されるべき基礎部材に
加えている。このようにして、高い反撥力を得ることが
できる。しかしながら、この試験方法の実施には、時間
がかかると共に、比較的費用もかかる。
第3の試験方法は、動的負荷が加えられている間の移動
に対する杭の抵抗を試験する方法である。
試験されるべき杭を、降下する塊で打ちつけ、そして、
杭に取付けられた装置が、杭内で発生する力及び杭の降
下速度を記録している。その結果の分析は、衝撃によっ
て移動させられる抵抗部分を決定するのに役立っている
。抗又はケーソンが高い抵抗をもっている場合において
は、杭に十分なエネルギーを導き入れて、杭の頂部に損
傷を与えることなく、しかも、杭内でテンション破壊を
引き起こすことな(、杭の全ての抵抗部分を十分に移動
させることに困難が伴う。降下する塊すなわち典型的な
降下型のハンマは、大型で取扱いにくく、しかも、作業
においても大型の装備を必要とする。
したがって、ケーソン及び類似の穿孔型の橋台用基礎部
材に対して試験する既知の方法は費用がかかる不都合を
有しているので、基礎部材の十分なスケール負荷試験を
しばしば果せなくなる。橋台/土の摩擦値は、土のイン
デックス特性の相関関係及び実験による試験結果を利用
することにより、見積られている。現場で直面する土の
状態に左右されるので、理論的な計算や実験的な計算は
、土の摩耗値及び剪断力の全てにおいてかなり低く見積
る傾向がある。その結果として、基礎部材の設計がしば
しば過剰に保守的になると共に、過剰すぎるほど高い安
全係数をもつこととなる。このことは、過剰すぎるくら
い不必要に基礎部材をコスト高にする虞れがある。
したがって、試験用基礎部材例えばケーソン及び杭に対
して更に好適で且つ安価なシステムが必要であり、した
がって、改善されて基準となるべき基本設計を実用的に
するのみならず、実験的な試験方法に基づいた現実性及
び信頼性よりも更に向上した現実性及び信顛性をもった
システムが必要となっている。
(発明の開示) したがって、本発明は、柱状をなす埋設基礎部材の負荷
支持能力を試験するための方法において、地中内に据え
付けられる柱状の基礎部材の上端で、所定の大きさの慣
性質量を支持する行程と、前記慣性質量の下側と前記基
礎部材の上側との間に形成したチャンバ内で、制限され
た期間にわたって、前記基礎部材の上端から上方へ離間
するように前記慣性質量を加速させ且つこれと同時に所
望の大きさの下方への反力を前記基礎部材に生起するの
に十分な流体圧を発生させる行程と、前記基礎部材が前
記反力により損傷を受けないような前記流体圧の増加速
度を制御する行程と、下方への前記力の大きさと前記基
礎部材の応答との両方を計測する行程とを具えたことを
特徴とする柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験方
法を与えている。
流体圧を、推進用充填物の燃焼によって好適に発生させ
、前記慣性質量を案内して、前記基礎部材を軸線方向上
方に移動させている。燃焼により発生したガスの逃がし
を制御して、燃焼によって発生した音波を小さくさせて
いる。
好適には、基礎部材の上端部は、前記流体圧の散逸の後
に、重力下で前記慣性質量が減少した場合、前記慣性f
lによる衝撃から保護されている。
また、本発明は、柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力を
試験するための装置において、前記基礎部材の上端部上
で同軸的に固着するのに適する基部と、前記基部上で同
軸的に着座させられ且つ所望の大きさの慣性質量を支持
するのに適したキャリヤと、前記基部と前記キャリヤと
の間に形成されたチャンバ手段とを具え、このチャンバ
手段は、前記基部と前記キャリヤのそれぞれを組み付け
る両端をもったシリンダを具え、前記キャリヤの増加に
つれて増加する容積をもった前記チャンバ手段が前記基
部上の着座位置から上方へ離間するように移動し、前記
キャリヤおよび慣性質量を上方へ加速させ且つこれに対
応する下方への反力を前記基部に生起するのに十分な大
きさをもつ流体圧の制御された急速な増加を、前記チャ
ンバ手段内で生起するための圧力発生手段と、下方への
前記力の大きさを前記流体圧の関数として計測するため
の圧力トランスデエーサ手段と、下方への前記力に対す
る前記基礎部材の応答を計測するための変位トランスデ
エーサ手段とを具えたことを特徴とする柱状の埋設基礎
部材の負荷支持能力の試験装置を与えている。
好適には、前記基部は、前記キャリヤの下側から開口す
る円柱状ボア部内に収容される中心軸型ピストン素子を
有している。ピストンの端部には、燃焼可能な推進用化
合物からなる充填物を収容する凹所が形成されている。
前記シリンダの外部から作動させるのに適する前記充填
物の点火手段を更に配置している。慣性質量は、コンク
リート製の一以上のトロイド状リングを構成し、このリ
ングを、シリンダの外周に位置決めして、基礎部材の垂
直軸線に整列させている。前記キャリアが、推進ガスの
圧力により上方へ加速させられた後に、重力のもとで降
下した場合、前記基部に加わるキャリアの衝撃を回避す
るために、キャリアの下側と基部の頂部との間に砂又は
砂利を介挿するための準備を整える。例えば、環状のキ
ャビティをトロイド状リングの周囲に配置し、そして、
キャリアが上昇したとき、キャリアの下側に広がってく
ずれる砂利で、キャビティは満たされている。
(実施例) 以下、本発明に係る一実施例を図面に基づいて詳細に説
明する。
第1図に示すように、地中の適切な場所に配置されて試
験される鋳物製の基礎柱すなわちケーソン10は、この
上端にグラウト結合され且つディスク状をなすスチール
プレート11を有している。発射基部12は、ケーソン
10と軸線方向に整列するように、スチールプレートの
頂部でボルト締めされている。前記基部12は、この下
端に配置された環状フランジ13と、ケーソン10と軸
線方向に整列し且つ上方に突出したピストン14とを有
している。
このピストンは、推進用充填物16を収容するために、
上面から開口した中心沈み孔15を有している。
第2図に示されるように、発射シリンダ組立体17は、
この下側で径方向に延在するプレート18を有すると共
に、このプレート18から軸線方向上方に突出する円筒
部19を有し、前記プレート18は第1図に示された発
射基部12のフランジ13上に載置できるよう構成され
ており、円筒部19は端壁20で終結している。したが
って、円柱状の膨張自在チャンバ21は、発射シリンダ
組立体17の端壁20とピストン14の上端との間に形
成されている。
発射基部12と発射シリンダ組立体17は鋼で好適に形
成され、協働する円筒壁の間でシール効果を与えるため
に、銅製のガスシール22と、位置決めされた鋼製のピ
ストンリング51とが設けられている。シリンダの端壁
20に形成した凹所内で同心的に挿入体23が配置され
ており、この挿入体23は、軸線方向に貫通するガス排
出口23aを画成している。挿入体23は、適切な腐食
性の可燃性材料たとえば鋼材で形成されており、円筒状
のサイレンサ24は、シリンダ19の頂部に位置決めさ
れて、ボルト25によりシリンダ19に固定されている
。交換自在な環状のど部52は、挿入部23上に着座さ
せられていると共に、幅広の円錐状ボア部53を存し、
こボア部は、サイレンサ24の下端内に設けたガス通路
26と連通している。このガス通路26は、断面におい
て上方に広がるよう形成されていると共に、ガス排出口
23aと整合している。更に、ガス通路26は、適切な
音減衰手段たとえば邪魔板システム54を組み入れたサ
イレンサ24の内部と連通している。サイレンサ24は
、概ね円筒形をなすと共に、シリンダ組立体17の円筒
部19の外径に対応する外径を有している。
発射用シリンダのプレート部18の上側は、平坦である
と共に、複数のコンクリート製リング30に対する反発
力を支持するような座部を形成し、前記リング30は、
シリンダ19とサイレンサ24によってケーソンlOの
軸線に整列させられている。上述した構体は、固まって
いない砂すなわち砂利31によって包囲されており、こ
の砂利31は、リング30と同心的に配置され且つリン
グから離間した円筒壁32内に収納されている。この円
筒壁32の外側の下部はリング状をなす埋め戻し材料3
3によって支持され、この材料はまた、ケーソンlOの
上端をも支持している。
第2.3図に示されているように、ピストン14は軸線
方向にボア部56を具え、このボア部を通って排出用ロ
ッド57が延在し、このロッド57は、ボア部56内に
着座させられた挿入体58と螺合している。ロッド57
は、シール構体59を貫通し、続いて、沈み孔15内に
収納された推進用充填物16を通り、挿入体23内に形
成したガス排出口23aを通り、そして、シリンダ19
の端壁20の下面から上方へ所定高さX(第2図参照)
だけ軸線方向に延在している。
シリンダ内の圧力を監視するために、3個の圧力トラン
スデユーサ61が等角度に配置され、各圧力トランスデ
ューサ61は、ピストン14の頂壁に形成した凹所内に
載置されていると共に、ピストンの発射基部12のフラ
ンジ13を貫通する適切な電気配線62を介して装置の
外部に連結されている。
排出用ロッド57は、適切な導電性材料で形成されてい
ると共に、推進用充填物16の起爆を達成するための電
流を伝えるのに役立っている。起爆を達成するために、
排出用ロッド57の下端とフランジ13の周縁部との間
に電気連結部65が形成されており、この連結部65は
外部の電気供給手段に連結することができる。抵抗線か
らなり且つ径方向に延在するリムをもった熱線組立体6
6は、ピストン14の端面の周縁部と排出用ロッド57
との間に位置決めされており、他方、ロッド57はピス
トン及びシリンダ組立体17から絶縁されている。した
がって、電流が連結部65に加えられたとき、熱線組立
体66は加熱されて、推進用充填物16の起爆が起こる
圧力トランスデユーサ61は、連続的な基準をもってチ
ャンバ21内の圧力を監視している。ケーソンの変位を
監視するために、速度変位型トランスデユーサ34がケ
ーソンの表面に取付けられている。
使用に際して、円筒形沈み孔15に、十分な燃焼特性を
もった所定量の推進用充填物16を詰め込む。
次に、発射シリンダ組立体17を、第1,2図に示され
た位置でピストンを覆うように配置し、所望の大きさの
反発質量を与えるために、コンクリート製リング30が
シリンダ組立体17に負荷を加えている。推進用充填物
16を点火した場合、チャンバ21内のガス圧が急速に
増加して、シリンダ組立体17及びリング30を推進さ
せるような垂直方向の力が上方へ加えられ、それと同時
に、前述の力と等しく且つ反対方向の力(反力)が下方
へ加えられる。
シリンダ組立体17はピストン14によって案内されて
いるので、前記反力はケーソン10と同軸をなすのはも
ちろんのことである。
燃焼の開始時において、排出口23aはそこを貫通する
排出用ロッド57によって閉鎖されているので、燃焼ガ
スはチャンバ21内で密封されることとなる。しかしな
がら、−旦、燃焼ガスにより発射シリンダ組立体17が
距離Xだけ上昇させられると、排出口23aは封鎖され
ず、サイレンサ24を通って燃焼ガスを逃がすことがで
きる。熱をもって排出口23aを流れる燃焼ガスが挿入
体23の材料を急速に腐食すると、排出口23aの断面
が広くなる。その結果、推進用充填物16の燃焼が終了
した後において、チャンバ21内のガス圧を比較的急速
に減少させることができる。
第4図は、反発質量をもったリング3oとシリンダ組立
体が推進した後の状態を概略的に示している。重力下で
、再び降下が始まる前に、リング30とシリンダ組立体
は2,3フイート(約61〜91 Cff1 )以下だ
け上昇する。しかしながら、降下が起こる前に、周囲の
砂31がシリンダ組立体の下へ崩れ込み、そして、反発
質量をもったリング30とシリンダ組立体が重力下で降
下したときに、ケーソン10の頂部とシリンダ組立体と
の間にクツションを与えることができる。したがって、
ケーソンへの衝撃損傷を回避することができる。
第5図の上側のグラフ40は、チャンバ21内の圧力ト
ランスデューサによって計測した場合における、推進用
充填物16の燃焼開始からの時間変位に対する圧力変化
を示し、下側のグラフ41は、速度トランスデユーサ3
4によって計測した場合における、燃焼開始からの時間
変位に対するケーソンの頂端の変位量を示している。チ
ャンバ21内の圧力が増加した場合、ケーソン10の下
方への変位量が増加し、チャンバ内の圧力が最大値に達
すると、これと同時にケーソン10の下方への変位量が
最大に達し、その後、変位量は減少する。そして、残留
変位量dxは、ケーソンの永久的な最小変位置を生起す
る破壊点まで、ケーソン10とこれを包囲する地中との
間の摩擦係合に力が加わっていることを示している。
チャンバ21内の圧力が増加する速度は、推進用充填物
16の特徴的な機能の一つであると共に、推進材料の適
切な選択によって変えることもできる。
好適には、所望の反発力は約40〜60ミリ秒の間にわ
たって引き出され、この期間は、類似の塊をケーソン1
0の頂部に降下させた際の衝撃を介して達成することの
できる力が加る期間より約10倍長い。
反発力が作用する期間は、排出用ロッド57が突出して
いる長さXを変えることによっである程度まで変えるこ
とができる。寸法Xを増加させることによって、チャン
バ21内で燃焼ガスを閉じ込める期間が延び、そして、
寸法Xが減少した場合は、その逆のことが起こる。
チャンバ21の寸法および推進用充填物17の特性は、
作動時において、12,000psi程度の圧力をチャ
ンバ内で引き出すように、好適に選択されている。極端
な過剰圧によって起こる虞れのあるダメージを回避する
ために、逃がし通路70がシリンダ端壁20内に設けら
れている。逃がし通路70は大気放出板71によってシ
ールされ、この板71は、所定圧例えば15,000p
siで破壊されて、チャンバ21から通路72を通って
サイレンフサ24内へガスを逃がすことができるように
形成されている。
したがって、本発明は、ケーソン10にダメージを与え
ることなしに、ケーソン10へ高いエネルギを供給する
方法を提供している。400〜600トンの範囲内にあ
る反発力は、32.000ボンド重(約14゜515キ
ログラム重)以下の反発質量をもった物を使用すること
によって、達成することができる。
この装備には、発射基部12と、本質的に軽量で且つ簡
単に移動する発射シリンダ組立体17とが不可欠である
。10,000ボンド(約4.540キログラム)以下
の反発質量をなす各コンクリート製リングを、試験用ケ
ーソン自体が鋳込み成形されると同時に、その場で直ち
に鋳込み成形すると、リングを、ある位置から別の位置
まで移す必要がなくなる。各構成要素は比較的軽いので
、試験用装置の取付けに際して、重量のある材料を取り
扱う特殊な装備は必要ない。
上述の手段を利用することに加えて、現場で変位量と圧
力のグラフを作るために、前述の試験方法をCAPWA
PC(商標名)のプログラムと一緒に使用して、ケーソ
ン10と地中形態との間の抵抗力の許容度および分布を
決定することができる。
他の実施例として、第6図に示された装置は、長いスト
ロークをもったシリンダおよび比較的小さな径のピスト
ンを具えている。この装置において、補強リブ17bを
もった細長いシリンダ17aは、ケーソン10aの上端
部内に鋳込み成形されいる。
細長いピストン14aは、シリンダ17a内に収容され
ていると共に、ピストン14aの端部で発射用プレート
18aに連結されており、そして反発質量をなすコンク
リート製リング30aは発射用プレート18a上で支持
されている。発射用プレート18aは、脆弱なボルト4
2によってピストンの端部に固定されている。細長いチ
ャンバ16a内では、ゆっ(すした燃焼による推進が与
えられている。推進用充填物が点火された場合、ボルト
42が切れる所望のレベルに達するまで、ガス圧は増加
、して、ガス圧の反力がケーソン10aに加えられる。
したがって、この装置に関して、ある落下体の衝撃によ
ってエネルギをケーソンに伝える場合の期間よりも短い
が、かなりゆっ(すした速度で、前記反力はケーソンに
加えられている 本発明に係る試験システムは、ケーソンおよび杭をこれ
までよりも安価でしかも好適に負荷試験できるような手
段を提供している。比較的小さな塊(8立方メートルの
コンクリート)をケーソンの頂部上の静止位置から大気
へ発射させることによって、ケーソン内に投入されるエ
ネルギによりケーソンが破壊されないような速度をもっ
た比較的大きな反発力(1,000トン以上)が、比較
的長期間にわたって引き出される。したがって、現場で
十分な目安となる負荷試験を比較的簡単にしかも安価な
方法で行うことができる。このことは、計画された基礎
部材の負荷に対する現実の耐負荷能力をチエツクできる
ような利点を持っている。
試験により能力過剰が判明した場合、実質的なコスト節
減を基本設計の変更によって達成することができる。上
述した試験手段と一緒にCAPWAPCプログラムを利
用することによって、シャフトの抵抗分布を決定するこ
とができ、その結果を利用して、基本設計を変更して、
不要な要素を排除し、コストのかからない適切な安全設
計を提供することができる。
上述したような構成によって、反力がケーソンの長手軸
線に集中する。更に、現出する反力は、基礎部材の軸線
方向に加わると共に、重力による影響をほとんど受けな
いので、垂直に対しである角度をもって地面に位置決め
されたケーソンまたは傾斜抗に前記試験手段を施すこと
ができる。
前記試験手段は水面下または地面に配置される基礎部材
に適応させることができる。水面下において、水の流体
抵抗は、反発質量をもつ塊の慣性力を増大させるように
作用し、したがって、小さな塊を利用することができる
更に、大気圧を利用して反力を引き出すように設計を変
更することもできるが、この場合、非常に大きな表面積
を伴うこととなる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る柱状の埋設基礎部材の負荷支持能
力の試験装置を示す縦断面図、第2図は第1図の試験装
置の要部拡大断面図、第3図は第2図の■−■線に沿う
断面図、第4図は第1図の試験装置の作動状態を示す概
略図、 第5図は試験装置の作動時における基礎部材の変位量と
圧力との関係を示すグラフ、 第6図は本発明に係る試験装置の他の実施例を示す縦断
面図である。 10、10a・・・基礎部材(ケーソン)12・・・基
部       14.14a・・・ピストン素子15
・・・凹所(中央沈み孔) 17a、 19・・・シリンダ 16.16a・・・推
進用充填物21・・・チャンバ     30.30a
・・・リング34・・・変位トランスデユーサ 56・・・ボア部     64・・・圧力トランスデ
ューサ図面の浄書(内容に変更なし) FIG、+ FIG、4 手 続 補 正 書(方式) ■、事件の表示 平成 年 特 許 願 第 号 2、発明の名称 柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験方法および装
置3、補正をする者 事件との関係

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、柱状をなす埋設基礎部材の負荷支持能力を試験する
    ための方法において、 地中内に据え付けられる柱状の基礎部材の上端で、所定
    の大きさの慣性質量を支持する行程と、 前記慣性質量の下側と前記基礎部材の上側との間に形成
    したチャンバ内で、制限された期間にわたって、前記基
    礎部材の上端から上方へ離間するように前記慣性質量を
    加速させ且つこれと同時に所望の大きさの下方への反力
    を前記基礎部材に生起するのに十分な流体圧を発生させ
    る行程と、 前記基礎部材が前記反力により損傷を受けないような前
    記流体圧の増加速度を制御する行程と、 下方への前記力の大きさと前記基礎部材の応答との両方
    を計測する行程とを具えたことを特徴とする柱状の埋設
    基礎部材の負荷支持能力の試験方法。 2、請求項1記載の方法において、前記流体圧を、推進
    用充填物の燃焼によって発生させることを特徴とする方
    法。 3、請求項1記載の方法において、前記慣性質量を案内
    して、前記基礎部材を軸線方向上方に移動させることを
    特徴とする方法。 4、請求項2記載の方法において、燃焼により発生した
    ガスの逃がしを制御して、燃焼によって発生した音波を
    小さくさせることを特徴とする方法。 5、請求項1記載の方法において、前記流体圧の散逸の
    後に、重力下で前記慣性質量が減少した場合、前記慣性
    質量による衝撃から前記基礎部材の上端部を保護するこ
    とを特徴とする方法。 6、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の方法におい
    て、下方への前記力の大きさ及び前記基礎部材の動的応
    答を連続バイアスで計測することを特徴とする方法。 7、柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力を試験するため
    の装置において、 前記基礎部材の上端部上で同軸的に固着するのに適する
    基部と、 前記基部上で同軸的に着座させられ且つ所望の大きさの
    慣性質量を支持するのに適したキャリヤと、 前記基部と前記キャリヤとの間に形成されたチャンバ手
    段とを具え、このチャンバ手段は、前記基部と前記キャ
    リヤのそれぞれを組み付ける両端をもったシリンダを具
    え、前記キャリヤの増加につれて増加する容積をもった
    前記チャンバ手段が前記基部上の着座位置から上方へ離
    間するように移動し、 前記キャリヤおよび慣性質量を上方へ加速させ且つこれ
    に対応する下方への反力を前記基部に生起するのに十分
    な大きさをもつ流体圧の制御された急速な増加を、前記
    チャンバ手段内で生起するための圧力発生手段と、 下方への前記力の大きさを前記流体圧の関数として計測
    するための圧力トランスデューサ手段と、 下方への前記力に対する前記基礎部材の応答を計測する
    ための変位トランスデューサ手段とを具えたことを特徴
    とする柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験装置。 8、請求項7記載の装置において、前記基部は、前記キ
    ャリヤの下側から開口する円柱状ボア部内に摺動して収
    容される中心軸型ピストン素子を有し、前記円柱状ボア
    部は前記シリンダの一端を形成する端壁を有し、前記ピ
    ストンの前記端部は前記シリンダの対向端部を具えたこ
    とを特徴とする装置。 9、請求項7記載の装置において、前記圧力発生手段は
    燃焼可能な推進用化合物からなる充填物を具えたことを
    特徴とする装置。 10、請求項8記載の装置において、燃焼可能な推進用
    化合物からなる充填物を構成する圧力発生手段を収容す
    るのに適した凹所を、前記ピストンを形成し、前記シリ
    ンダの外部から作動させるのに適する前記充填物の点火
    手段を設けたことを特徴とする装置。 11、請求項10記載の装置において、前記円柱状ボア
    部の前記端壁内にガス通路を設けて、前記充填物によっ
    て発生した燃焼ガスの制御された放出を与えることを特
    徴とする装置。 12、請求項11記載の装置において、前記キャリヤが
    、一以上のトロイド状リングをなす慣性質量を支持し、
    前記リングを、前記シリンダの外部と係合させることに
    よって前記基礎部材の垂直軸線に整列させることを特徴
    とする装置。 13、請求項7記載の装置において、前記キャリヤが、
    前記流体圧により上方へ加速させられた後に、重力下で
    降下した場合、前記基部に加わる前記キャリヤの衝撃を
    回避するための手段を更に有したことを特徴とする装置
    。 14、請求項7乃至9のいずれか一項に記載の装置にお
    いて、前記変位トランスデューサ手段は、連続バイアス
    上で、下方への前記力に対する前記基礎部材の動的応答
    を計測するのに適する構成を有したことを特徴とする装
    置。
JP1087126A 1988-04-07 1989-04-07 柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験方法および装置 Expired - Lifetime JPH0670602B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CA563495 1988-04-07
CA000563495A CA1296925C (en) 1988-04-07 1988-04-07 Test system for caissons and piles

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0228531A true JPH0228531A (ja) 1990-01-30
JPH0670602B2 JPH0670602B2 (ja) 1994-09-07

Family

ID=4137786

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1087126A Expired - Lifetime JPH0670602B2 (ja) 1988-04-07 1989-04-07 柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験方法および装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US4845996A (ja)
EP (1) EP0336519B1 (ja)
JP (1) JPH0670602B2 (ja)
AT (1) ATE101268T1 (ja)
CA (1) CA1296925C (ja)
DE (1) DE68912806T2 (ja)
ES (1) ES2050779T3 (ja)

Cited By (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1635218A2 (en) 2004-09-14 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern-forming method using the photosensitive composition
EP1662317A2 (en) 2004-09-30 2006-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Resist composition and method of pattern formation with the same
EP1684116A2 (en) 2005-01-24 2006-07-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
EP1684119A2 (en) 2005-01-24 2006-07-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive resist composition for immersion exposure and pattern-forming method using the same
EP1688791A2 (en) 2005-01-28 2006-08-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
EP1698937A2 (en) 2005-03-04 2006-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive resist composition and pattern-forming method using the same
EP1701214A1 (en) 2005-03-11 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition and pattern-forming method using the same
EP1703322A2 (en) 2005-03-17 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition
EP1720072A1 (en) 2005-05-01 2006-11-08 Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. Compositons and processes for immersion lithography
EP1764647A2 (en) 2005-08-19 2007-03-21 FUJIFILM Corporation Positive resist composition for immersion exposure and pattern-forming method using the same
EP1925979A1 (en) 2006-11-21 2008-05-28 FUJIFILM Corporation Positive photosensitive composition, polymer compound used for the positive photosensitive composition, production method of the polymer compound, and pattern forming method using the positive photosensitive composition
EP1939691A2 (en) 2006-12-25 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method
EP1962139A1 (en) 2007-02-23 2008-08-27 FUJIFILM Corporation Negative resist composition and pattern forming method using the same
EP1975716A2 (en) 2007-03-28 2008-10-01 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern forming method
EP1975714A1 (en) 2007-03-28 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Positive resist composition and pattern forming method
EP1980911A2 (en) 2007-04-13 2008-10-15 FUJIFILM Corporation Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method
WO2008129964A1 (ja) 2007-04-13 2008-10-30 Fujifilm Corporation パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液
EP2003509A2 (en) 2007-06-15 2008-12-17 FUJIFILM Corporation Pattern forming method
EP2003504A2 (en) 2007-06-12 2008-12-17 FUJIFILM Corporation Method of forming patterns
EP2019334A2 (en) 2005-07-26 2009-01-28 Fujifilm Corporation Positive resist composition and method of pattern formation with the same
EP2020615A1 (en) 2007-07-30 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Positive resist composition and pattern forming method
EP2020616A2 (en) 2007-08-02 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Resist composition for electron beam, x-ray, or euv, and pattern-forming method using the same
EP2020617A2 (en) 2007-08-03 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Resist composition containing a sulfonium compound, pattern-forming method using the resist composition, and sulfonium compound
EP2034361A2 (en) 2005-05-23 2009-03-11 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
EP2040122A2 (en) 2005-09-13 2009-03-25 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern-forming method using the same
WO2009038148A1 (ja) 2007-09-21 2009-03-26 Fujifilm Corporation 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
EP2090932A1 (en) 2008-02-13 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Positive resist composition for use with electron beam, X-ray or EUV and pattern forming method using the same
EP2105440A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound
EP2141544A1 (en) 2008-06-30 2010-01-06 Fujifilm Corporation Photosensitive composition and pattern forming method using same
EP2141183A1 (en) 2008-06-30 2010-01-06 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using same
EP2143711A1 (en) 2008-07-09 2010-01-13 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using same
WO2010067905A2 (en) 2008-12-12 2010-06-17 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same
WO2010067898A2 (en) 2008-12-12 2010-06-17 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the composition
US7806170B2 (en) 2004-08-19 2010-10-05 T. Rad Co., Ltd. Heat exchanger
WO2010114107A1 (en) 2009-03-31 2010-10-07 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same
EP2296039A1 (en) 2001-07-05 2011-03-16 Fujifilm Corporation Positive photosensitive composition
EP2375285A2 (en) 2004-02-05 2011-10-12 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition and pattern-forming method using the photosensitive composition
EP2434343A1 (en) 2010-09-28 2012-03-28 Fujifilm Corporation Resist composition, resist film therefrom and method of forming pattern therewith
EP3537217A2 (en) 2005-12-09 2019-09-11 FUJIFILM Corporation Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition
WO2020105505A1 (ja) 2018-11-22 2020-05-28 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5259240A (en) * 1992-04-03 1993-11-09 Exxon Production Research Company Device for in situ testing of soils that includes a vent valve adapted to close at a predetermined depth during installation
US6349590B1 (en) * 1997-09-15 2002-02-26 Yee Kong Wai Method and apparatus for estimating load bearing capacity of piles
US6129487A (en) * 1998-07-30 2000-10-10 Bermingham Construction Limited Underwater pile driving tool
US7353714B2 (en) * 2004-07-30 2008-04-08 Loadtest, Inc. Method and apparatus for automatic load testing using bi-directional testing
RU2512672C2 (ru) 2008-11-21 2014-04-10 Хадар МАГАЛИ Отбойный механизм
CA2732380C (en) * 2010-02-22 2016-10-04 Ben Kasprick Method and apparatus for load testing a pile
CN105525635B (zh) * 2016-01-18 2017-09-15 交通运输部公路科学研究所 用于桩基轴向承载力检测的加载装置
CN106049562B (zh) * 2016-07-18 2018-02-16 昆山市建设工程质量检测中心 一种用于桩基高应变检测的落锤高度调节装置
CN112525711B (zh) * 2020-11-26 2023-08-22 中国电建集团成都勘测设计研究院有限公司 双向深部土体力学参数原位测试装置及测试结构

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6080619A (ja) * 1983-10-06 1985-05-08 Inayoshi Kogyo:Kk 杭打作業における打杭の支持力測定方法及びその装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2674876A (en) * 1950-08-28 1954-04-13 Western Foundation Corp Pile testing means
US3248924A (en) * 1961-11-22 1966-05-03 William W Boynton System for dynamic loading
FR92879E (fr) * 1966-09-23 1969-01-10 Louis Francois Procédé et appareil pour la mesure du module de déformation d'un matériau et des contraintes dans ce matériau.
GB1206396A (en) * 1966-10-28 1970-09-23 Wykeham Farrance Engineering L Improvements relating to geological sample testing apparatus
US3535919A (en) * 1968-12-02 1970-10-27 John P Budlong Dynamic determination of pile load capacity
DE2139735C3 (de) * 1971-08-07 1974-02-21 Rheinmetall Gmbh, 4000 Duesseldorf Einrichtung zum Simulieren der Schußbeanspruchung von Geschützrohren
US3798962A (en) * 1972-04-19 1974-03-26 Atomic Energy Commission Method for predicting movements of structural members emplaced in the earth
DE2439782B1 (de) * 1974-08-20 1975-10-30 Fa. Franz Gloetzl, 7501 Forchheim Kraflmeßgerät für Anker im Bauwesen
US3960008A (en) * 1974-12-12 1976-06-01 Goble George G Pile capacity testing means
FR2461066A1 (fr) * 1979-07-09 1981-01-30 Coelus Gaspar Procede et appareil d'essai dynamique de pieux
US4347743A (en) * 1980-09-18 1982-09-07 Pile Dynamics, Inc. Accelerometer mounting assembly
US4379401A (en) * 1981-08-28 1983-04-12 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army System for measuring plate deformation produced by explosive shock waves, and motion-sensing accelerometer transducer used therein
US4479378A (en) * 1982-09-23 1984-10-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method and system for determining effect of underwater explosion on submerged structures
US4474052A (en) * 1982-12-13 1984-10-02 E. I. Du Pont De Nemours And Company Laboratory barricade
US4619218A (en) * 1984-01-30 1986-10-28 Hen-Jac, Inc. Embedment anchor
US4586366A (en) * 1984-03-14 1986-05-06 Milberger Lionel J Method and apparatus for measuring driving resistance and velocity of piles during driving

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6080619A (ja) * 1983-10-06 1985-05-08 Inayoshi Kogyo:Kk 杭打作業における打杭の支持力測定方法及びその装置

Cited By (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2296039A1 (en) 2001-07-05 2011-03-16 Fujifilm Corporation Positive photosensitive composition
EP2296040A1 (en) 2001-07-05 2011-03-16 Fujifilm Corporation Positive photosensitive composition
EP2375285A2 (en) 2004-02-05 2011-10-12 FUJIFILM Corporation Photosensitive composition and pattern-forming method using the photosensitive composition
US7806170B2 (en) 2004-08-19 2010-10-05 T. Rad Co., Ltd. Heat exchanger
EP1635218A2 (en) 2004-09-14 2006-03-15 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern-forming method using the photosensitive composition
EP1662317A2 (en) 2004-09-30 2006-05-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Resist composition and method of pattern formation with the same
EP1684119A2 (en) 2005-01-24 2006-07-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive resist composition for immersion exposure and pattern-forming method using the same
EP1684116A2 (en) 2005-01-24 2006-07-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
EP1688791A2 (en) 2005-01-28 2006-08-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
EP1698937A2 (en) 2005-03-04 2006-09-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive resist composition and pattern-forming method using the same
EP1701214A1 (en) 2005-03-11 2006-09-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive photosensitive composition and pattern-forming method using the same
EP1703322A2 (en) 2005-03-17 2006-09-20 Fuji Photo Film Co., Ltd. Positive resist composition and pattern forming method using the resist composition
EP1720072A1 (en) 2005-05-01 2006-11-08 Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. Compositons and processes for immersion lithography
EP2034361A2 (en) 2005-05-23 2009-03-11 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition and pattern forming method using the photosensitive composition
EP2019334A2 (en) 2005-07-26 2009-01-28 Fujifilm Corporation Positive resist composition and method of pattern formation with the same
EP2020618A2 (en) 2005-07-26 2009-02-04 Fujifilm Corporation Positive resist composition and method of pattern formation with the same
EP1764647A2 (en) 2005-08-19 2007-03-21 FUJIFILM Corporation Positive resist composition for immersion exposure and pattern-forming method using the same
EP2040122A2 (en) 2005-09-13 2009-03-25 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern-forming method using the same
EP3537217A2 (en) 2005-12-09 2019-09-11 FUJIFILM Corporation Positive resist composition, resin used for the positive resist composition, compound used for synthesis of the resin and pattern forming method using the positive resist composition
EP1925979A1 (en) 2006-11-21 2008-05-28 FUJIFILM Corporation Positive photosensitive composition, polymer compound used for the positive photosensitive composition, production method of the polymer compound, and pattern forming method using the positive photosensitive composition
EP1939691A2 (en) 2006-12-25 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Pattern forming method, resist composition for multiple development used in the pattern forming method, developer for negative development used in the pattern forming method, and rinsing solution for negative development used in the pattern forming method
EP2413195A2 (en) 2006-12-25 2012-02-01 Fujifilm Corporation Pattern forming method
EP2535771A1 (en) 2006-12-25 2012-12-19 Fujifilm Corporation Pattern forming method
EP2413194A2 (en) 2006-12-25 2012-02-01 Fujifilm Corporation Pattern forming method
EP1962139A1 (en) 2007-02-23 2008-08-27 FUJIFILM Corporation Negative resist composition and pattern forming method using the same
EP1975714A1 (en) 2007-03-28 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Positive resist composition and pattern forming method
EP1975716A2 (en) 2007-03-28 2008-10-01 Fujifilm Corporation Positive resist composition and pattern forming method
WO2008129964A1 (ja) 2007-04-13 2008-10-30 Fujifilm Corporation パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液
EP1980911A2 (en) 2007-04-13 2008-10-15 FUJIFILM Corporation Pattern forming method, resist composition to be used in the pattern forming method, negative developing solution to be used in the pattern forming method and rinsing solution for negative development to be used in the pattern forming method
EP2003504A2 (en) 2007-06-12 2008-12-17 FUJIFILM Corporation Method of forming patterns
EP2579098A1 (en) 2007-06-12 2013-04-10 Fujifilm Corporation Method of forming patterns
EP2003509A2 (en) 2007-06-15 2008-12-17 FUJIFILM Corporation Pattern forming method
EP2020615A1 (en) 2007-07-30 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Positive resist composition and pattern forming method
EP2020616A2 (en) 2007-08-02 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Resist composition for electron beam, x-ray, or euv, and pattern-forming method using the same
EP2020617A2 (en) 2007-08-03 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Resist composition containing a sulfonium compound, pattern-forming method using the resist composition, and sulfonium compound
EP2426154A1 (en) 2007-09-21 2012-03-07 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, pattern forming method using the photosensitive composition and compound for use in the photosensitive composition
WO2009038148A1 (ja) 2007-09-21 2009-03-26 Fujifilm Corporation 感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
EP2090932A1 (en) 2008-02-13 2009-08-19 FUJIFILM Corporation Positive resist composition for use with electron beam, X-ray or EUV and pattern forming method using the same
EP2468742A1 (en) 2008-03-26 2012-06-27 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound
EP2105440A2 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound
EP2141544A1 (en) 2008-06-30 2010-01-06 Fujifilm Corporation Photosensitive composition and pattern forming method using same
EP2141183A1 (en) 2008-06-30 2010-01-06 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using same
EP2143711A1 (en) 2008-07-09 2010-01-13 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using same
WO2010067898A2 (en) 2008-12-12 2010-06-17 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the composition
WO2010067905A2 (en) 2008-12-12 2010-06-17 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same
WO2010114107A1 (en) 2009-03-31 2010-10-07 Fujifilm Corporation Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same
EP2434343A1 (en) 2010-09-28 2012-03-28 Fujifilm Corporation Resist composition, resist film therefrom and method of forming pattern therewith
WO2020105505A1 (ja) 2018-11-22 2020-05-28 富士フイルム株式会社 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
ATE101268T1 (de) 1994-02-15
DE68912806T2 (de) 1994-08-11
ES2050779T3 (es) 1994-06-01
JPH0670602B2 (ja) 1994-09-07
EP0336519B1 (en) 1994-02-02
DE68912806D1 (de) 1994-03-17
CA1296925C (en) 1992-03-10
US4845996A (en) 1989-07-11
EP0336519A3 (en) 1991-07-03
EP0336519A2 (en) 1989-10-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0228531A (ja) 柱状の埋設基礎部材の負荷支持能力の試験方法および装置
US3646598A (en) Pile driver systems apparatus and method for driving a pile
EP1102902B1 (en) Underwater pile driving tool
FI92235B (fi) Järjestelmä ankkurin työntämiseksi maahan
NL2011166C2 (nl) Hei-inrichting en werkwijze voor de toepassing daarvan.
CN114383947A (zh) 多功能锚固体系动静耦合性能测试系统
EP3180478B1 (en) Hydraulically operated linear driver
KR20220016800A (ko) 파일 드라이빙 방법 및 파일 드라이빙 시스템
US4132082A (en) Piling
CN105525635A (zh) 用于桩基轴向承载力检测的加载装置
SAHRAEIAN et al. A centrifuge model study on the effects of pile installation process on seismic behavior of piled raft foundation for oil storage tanks
US20090123236A1 (en) Driver for and method of installing foundation elements and a kit of parts for assembling a driver
WO2016118760A1 (en) System and method for accelerating a mass using a pressure produced by a detonation
Sloan Dynamic Bearing Capacity of Soils: Dynamic Loading Machine and Preliminary Small-scale Footing Tests
NL2025191B1 (en) Pile-driver and method
RU2045622C1 (ru) Установка для устройства уширения сваи
NL2023409B1 (en) Pile-driver and method
JPH078400Y2 (ja) 無重力発生落下装置における制動装置
RU2357043C1 (ru) Молот для погружения в грунт строительных элементов
Chumley et al. Zero gravity apparatus Patent
Klishin Tests of inertial devices to protect hydraulic props from dynamic loading
Holeyman High-Strain Kinetic Testing of Deep Foundations
Paramasivam et al. SMRT-12/K. Kussmaul (Edito)
JPS5894521A (ja) 杭等の建込装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080907

Year of fee payment: 14

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090907

Year of fee payment: 15

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090907

Year of fee payment: 15