JPH02273A - チオホルムアミド誘導体 - Google Patents

チオホルムアミド誘導体

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JPH02273A
JPH02273A JP63318316A JP31831688A JPH02273A JP H02273 A JPH02273 A JP H02273A JP 63318316 A JP63318316 A JP 63318316A JP 31831688 A JP31831688 A JP 31831688A JP H02273 A JPH02273 A JP H02273A
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JP63318316A
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David C Cook
デビツド・チヤールズ・クツク
Terance W Hart
テランス・ウイリアム・ハート
Iain M Mclay
イアン・マクフアーラン・マクレイ
Malcolm N Palfreyman
マルコム・ノーマン・パルフライマン
Roger J A Walsh
ロジヤー・ジヨン・エイチソン・ウオルシユ
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May and Baker Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、治療学的に有用なチオホルムアミド誘導体、
その製造法、及びそれを含有する製薬学的組成物に関す
る。
本発明の新規なチオホルムアミド誘導体は前述した一般
式(I)の化合物及びその製薬学的に許容しうる塩であ
る。ここに式中、Rは炭素数1〜4の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基を表わし、Arは随時置換されたフェニル基を
表わし、Yはエチレン又はメチレン基或いは1つの原子
価結合を表わし、モしてXはカルボニル又はヒドロキシ
メチレン基或いは式>C−NOR’、>C−NN(R1
)!又は)C−NN(R凰)CON (R’)zの基を
表わし、但しR1は同一でも異なってもよく且つそれぞ
れ水素原子或いは未置換であり又は1つもしくはそれ以
上のC3,アルケニル、カルボキシ、C!〜、アルコキ
シカルボニル、ヒドロキシ、C1−4アルコキシ、カル
バモイル(未置換或いは1又は2つのC3−4アルキル
で置換)、アミノ、cl〜、アルキルアミノ又はジー0
1〜.アルキルアミノから選択される置換基で置換され
ている炭素数1〜4の直鎖又は分枝鎖アルキル基を表わ
しく例えばR1はメチル、2−ヒドロキシ−3−イソプ
ロピル−アミノプロピル、又は2−ヒドロキシ−3−t
−プチルアミノゾロピル基を表わしてよく)、或いはR
1はベンジル、フェネチル、l−す7チルメチル、2−
ナフチルメチル又はピリド−3−イルメチル基を表わし
、但しこれらの基の各はその環が1つ又はそれ以上のハ
ロゲン原子又はヒドロキシ、C3−4アルキル、C8,
4アルコキシ(このアルコキシは未置換であり又はR1
で表わされるアルキル基に対して定義した如く置換され
ている)、シアノ、ニトロ、トリフルオルメチル、カル
ボキシ、C1〜、アルキルアミノ%C,〜、アルカノイ
ルアミノ、C!〜、アルコキシカルボニル基で置換され
ていてよ(、或いは同−窒素原子上の2つのR′置換基
は一緒になって未置換であり又はR1で表わされるアル
キル基に対して定義した如く置換されている鎖中の炭素
数が4〜6の直鎖又は分枝鎖アルキレン基(例えばl−
メトキシメチルテトラメチレン)を形成していてよい。
好ましくはXはカルボニル基又は前述した如き式>C−
NOR”の基を表わす。
基Arは好ましくは3及び/又は5位が電子吸引性基例
えばシアノ、ニトロ、トリフルオルメチノ呟カルバモイ
ル、カルボキシ、c、〜、アルカノイル、C3〜、アル
コキシカルボニル又はC3〜4アルキルスルホニル基或
いは弗素、塩素又は臭素原子で置換され、そして随時更
にハロゲン原子、C1〜4アルキル又はC6〜8.アリ
ール(例えばフェニル)基で置換され、或いは基Arは
ハロゲン原子、CI〜、アルキル又はC6〜I8アリー
ル(例えばフェニル)基で又は−緒になって融合環例え
ば2−す7チル基を形成する置換基で置換されていてよ
い。
基A r ハfl、tlfフェニル、4−クロルフェニ
ル、3−トリフルオルメチルフェニル、3−ニトロフェ
ニル、3.4−ジクロルフェニル又は2−ナフチル基を
表わしうる。
ヒドロキシル基の環における存在は分子に不斉をもたら
し、これは隣る不斉炭素原子と一緒になって随時2つの
ラセミ体対に分離されていてよい4つの立体異性体に至
る。RlHet及びYが前述の通りである一般式(T1
)のラセミ体対及びその対掌体、即ちヒドロキシ基が基
−C5NHRに対してトランス位にある化合物は好適で
ある。
更にある場合には、置換基R及びR1は立体異性に関与
する。すべてのそのような形態は本発明に包含される。
本発明の特別な化合物は以下の通りである:A (±)
−N−メチル−2−オキソ−1−フェニルシクロヘキサ
ンカルボチオアミド B (±)−トランス−N−メチル−2−ヒドロキシ−
l−フェニルシクロヘキサンカルボチオアミド C (±)−アンチ−N−メチル−2−ヒドロキシイミ
ノ−l−フェニルーシク口ヘキサン力ルポチオアミド E ■ (±)−アンチ−N−メチル−2−メトキシイミ/−1
−フェニル−シクロヘキサンカルボチオアミド (±)−N−メチル−2−オキソ−1−(4−クロルフ
ェニル)シクロヘキサンカルボチオアミド (±)−N−メチル−2−オキソ−1−(3−トリフル
オルメチルフェニル)シクロヘキサンカルボチオアミド (±)−アンチ−N−メチル−2−ベンジロキシイミノ
−1−(3,4−ジクロフェニル)シクロヘキサンカル
ボチオアミド (±)−アンチ−N−メチル−2−(4−フルオルベン
ジロキシイミノ)−1−フェニルシクロヘキサンカルボ
チオアミド (±)−N−メチル−2−オキソ−1−(2ナフチル)
シクロヘキサンカルボチオアミド(±)−N−メチル−
2−オキソ−1−(3。
4−ジクロルフェニル)シクロヘキサンカルボチオアミ
ド K (±)−N−メチル−2−オキソ−1−(3−ニト
ロフェニル)−シクロヘキサンカルボチオアミド。
並びに存在する場合には、それらの対掌体及びジアステ
レオマー及びsyn形。
文字A−には例えば表や実施例において特定する場合に
簡便な参照記号として化合物に符号される。
本化合物は有用な薬理学的性質、特に (I)  高血圧及び他の心臓血管の変調例えばうつ血
心不全を含む血管平滑筋収縮、及び狭心症、末梢血管病
及び脳血管病と関連した状態; (2)可逆的気管障害及び痙牽を含む呼吸系平滑筋収縮
; (3)消化性潰瘍、刺激性嘔吐症候群及び憩室病、刺激
性膀胱症候群、及び早産を含む胃腸管、膀胱及び子宮の
平滑筋収縮、 と関連した変調の処置及び/又は予防に有用である性質
をもつ。
更に本化合物は男性の局所的適用による見本的はげと関
連した頭髪の抜は毛の禁止にも有用である。
例えば−紋穴(I)の化合物を下記の試験に供した: 血管弛緩活性試験 用いた試験法は、血管弛緩活性を区別するために、ウィ
ンスロウ(Winslow)ら【ニール・ジエイ争7ア
ーマコル(Eur J.Pharmacol.) l 
3 1 s2 1 9 〜228(I 986)]及び
カラキ(karaki)[ジエイ・ファーマコル・メソ
ツズ(J.Pharmacol。
Methods)18% 1〜21 (I987)]の
記述するものの中から採用した。
K+で誘導された収縮を90%だけ減する試験化合物の
浴溶液中の濃度を決定し、有効濃度(EC,。)として
μM単位で表現した。結果を第1表に示す。
試験法は、60mMのに十を浴溶液に添加することによ
って収縮を誘導する以外試験Aと同様であった。試験化
合物の溶液の累積的添加を行なった。K十で誘導された
収縮を90%だけ減する浴中の濃度は化合物C,D,E
%F,I、J及びKに対して30mM以上、また化合物
Aに対して30mMよりかなり高かった。
胸部動脈をラットから切除し、内皮から剥いだ横筋細片
をタレブス溶液を含む浴中に吊した。張力を記録し、2
0mMのに+(カリウムイオン)を浴溶液に添加して収
縮を誘導した。試験化合物は増大する累積濃度で溶液と
して浴に添加した。
第1表 化合物      活性試験A ECI。μM A               29C〉30 D               20E      
         12F             
  009H006 12,0 JO04 K              017−紋穴(I)の
化合物は、例えば後述する如き公知の方法を適用するこ
とにより製造することができる。本明細書に用いる如き
「公知の方法」とは、従来から使用されている或いは文
献に記述されている方法を意味する。
本発明の特徴によれば、Xがカルボニル基又は式)C−
NOR’又は’)C−NN(Rつ、の基を表わし、但し
R1が前述の通りである一般式CI)の化合物は、X′
がカルボニル基又は式>C−NOR’又は>C−NN(
Rつ、の基を表わし且っAr及びYが前述の通りである
一般式(II[)の化合物を一般式 %式%) [式中、Rは炭素数1〜4の直鎖又は分枝鎖アルキル基
を表わす] のイソチオオシアネートと反応させることによって製造
することができる。
この反応は一般に無水の不活性な有機溶媒例えばテトラ
ヒドロフラン、ジメチルホルムアミド又はへキサメチル
ホスホルアミド或いはこれらの混合物中において有機塩
基例えばカリウムtert−ブトキシド又は有機リチウ
ム誘導体例えばブチルリチウム、或いは水素化ナトリウ
ムの存在下に一80℃〜+50℃の温度で行なわれる。
本発明の特徴によれば、Xがヒドロキシメチレン基を表
わす一般式(I)の化合物はXがカルボニル基を表わす
一般式(I)の化合物を還元することによって製造する
ことができる。
この反応は一般に不活性な有機溶媒例えばメタノール又
はジメチルスルホキシド、或いはこれらの溶媒の混合物
中において水素化ホウ素アルカリ金属例えば水素化ホウ
素ナトリウムを用いて一20°C〜+50℃の温度で行
なわれる。
本発明の特徴によれば、Xが式>C−N0RI。
〉C禦NN(Rつ、又は>C−NN(R’)CON(R
’)!の基を表わす一般式(I)の化合物は、Xがカル
ボニル基を表わす一般式(I)の化合物を一般式 %式%) 1式中、R1は前述の通りである] の化合物又はその酸付加塩(好ましくは塩酸塩)と反応
させることによって製造することができる。
この反応は一般に不活性な有機溶媒例えばエタノール中
無機塩基例えば炭酸ナトリウム又は酢酸ナトリウムの存
在下或いは不活性な有機溶媒中有機塩基例えば溶媒とし
ても役立ちうるピリジンの存在下0℃〜120℃の温度
で行なわれる。
立体選択的な合成はX′がカルボニル基を表わす一般式
(I[I)の対掌体の混合物をキラルな補助試剤例えば
(S)−1−アミノ−2−メトキシメチルピロリジンと
反応させ、続いて前述した如き一般式(fV)の化合物
と反応させ、最後にキラルな補助試剤を除去することに
よって行なうことができる。
本発明の特徴によると、Rがメチル基を表わし且つXが
カルボニル基又は式>C−NOR’又は>C−NN(R
’)tの基を表わす一般式(I)のチオホルムアミド誘
導体は、HettX’及びYが前述の通りであり、そし
てR′が炭素数1〜4の直鎖又は分枝鎖アルキル基、或
いはベンジル又はカルボキシメチル基を表わす一般式(
Vl)のジチオエステルにメチルアミンを反応させるこ
とを含んでなる方法によって製造することができる。
一般にこ、の反応は溶媒なしに或いは有機溶媒例えば芳
香族炭化水素、低分子量のエーテル又はアルコール、或
いはこれらの溶媒の混合物中において過剰のメチルアミ
ンを用いることにより、随時加圧下20〜135°Cの
温度で行なわれる。
反応中に生成するチオールを、チオール受容体例えば塩
化第二水銀により重金属塩の形で固定することは特に有
利である。
一般式(VI)のジチオエステルは次の方法で得ること
ができる: (I)強塩基を一般式(■)(但しAr、X’及びYは
前述の通り)の化合物と反応させ、続いて得られる生成
物を二硫化炭素と及び次いで一般式 %式%() 1式中、R′は前述の通りであり、モして2はハロゲン
原子、好ましくは塩素、臭素又はヨウ素原子、或いは反
応性エステル基好ましくはメシロキシ又はトシロキシ基
を表わす]と反応させる。
この反応は一般にはへキサメチルホスホルアミドを添加
したエーテル例えばテトラヒドロフラン中において一2
0℃〜+50°Cの温度で行なわれる。
カリウムtert−ブトキシドを強塩基として用いるこ
とは特に有利である。他に上述した有機リチウム、誘導
体も使用しうる。
本発明の化合物の合成中の適当な段階において置換基の
1つ又はそれ以上を交換することは望ましい場合のある
ことが理解されよう。例えばArがカルバモイル基で置
換されたフェニル基を表わす一般式(I)の化合物は、
ほかにArがシアノ基で置換されたフェニル基を表わす
一般式CI)の対応する化合物から、そのような転化反
応に対して公知の方法を適用することによっても製造す
ることができる。
上述の方法で製造される一般式(I)のチオホルムアミ
ド誘導体は普通の物理的方法、特に結晶化及びクロマト
グラフィーにより、特に対掌体の混合物をキラルなカラ
ムで分割することにより精製できる。
一般式(III)及び(V)の化合物は公知の方法で製
造することができる。
本明細書で用いる如き「製薬学的に許容しうる塩」とは
、治療学的投薬量で使用した時に動物の有機体に対して
比較的無毒である、斯くして塩を形成しうる一般式(I
)の鋭化合物の有利な製薬学的性質がアニオンやカチオ
ンに帰せられる副作用によって低下しないアニオンやカ
チオンを含む塩を意味する。
そのような塩を形成しうる一般式(I)の化合物の酸付
加塩は、それ自体活性化合物として有用であるばかりで
なく、例えば塩と親化゛合物間の溶解性の差を用いるこ
とにより、また同業者には公知の技術により一般式(I
)の鋭化合物の精製の目的にも有用である。−紋穴(I
)の鋭化合物は公知の方法により、例えばアルカリ例え
ば水性炭酸水素ナトリウム溶液又は水性アンモニア溶液
での処理によりその酸付加塩から再生することができる
製薬学的に用いるのに適当な酸付加塩は、無機酸に由来
する塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、する塩、例えば
シュウ酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、酢酸塩、サリチル酸塩
、クエン酸塩、プロピオン酸塩、コハク酸塩、7マル酸
塩、マレイン酸塩、メチ゛レンービスーβ−ヒドロキシ
ナフトエ酸塩、ゲンチゼート(gentisates)
及びジ−p−トルオイル酒石酸塩から選択することがで
きる。
そのような塩を形成しうる一般式(I)の化合物の酸付
加塩は、それ自体活性化合物として有用であるばかりで
なく、例えば塩と親化合物間の溶解性の差を用いること
により、また同業者には公知の技術により一般式(I)
の鋭化合物の精製の目的にも有用である。
塩基との適当な塩は、アルカリ金属(例えばナトリウム
及びカリウム)、アルカリ土類金属(例えばカルシウム
及びマグネシウム)、アンモニウム及びアミン(例えば
ジェタノールアミン、トリエタノールアミン、オクチル
アミン、モル7オリン及びジオクチルメチルアミン)の
塩を含む。
次の実施例及び参照例は本発明の化合物の製造断わらな
い限り、すべてのスペクトルは重クロロホルム中200
MHzで記録し、化学シフトをテトラメチルシランに対
するppmで表示した。以下に用いる略号は次の意味を
有する: SS−型線 d−二重線 t=E重線 m−多重線 C−分裂しないバンド dd−二重線の二重線 dt−一重線の二重線 dddl−二重線の二重線の二重線 dddd−二重線の二重線の二重線の二重線実施例1 化合物A、E及びF −15℃のテトラヒドロ7ラン(40d)中(±)−2
−フェニルシクロヘキサノン(3,09,17,2ミリ
モル)の溶液を2分間にわたりカリウムt−ブトキサイ
ド(I,9j、17.2ミリモル)で処理した。−15
℃で15分後に、テトラヒドロフラン(20mJ)中メ
チルインチオシアネート(I,38I、19ミリモル)
の溶液を2分間で滴下し、得られた溶液を0℃で3時間
撹拌した。この反応混合物に水(200mjl)、統い
てクロロホルム(200mjりを添加し、水性層をクロ
ロホルム(200a+jりで抽出した。−緒にした有機
抽出物を食塩水(I50a+jりで洗浄し、次いで硫酸
ナトリウムで乾燥した。真空(30℃、14 mva 
Hg)でのa縮により粗油(4,22)を得、これをジ
エチルエーテル及びヘキサンのl:l混合物で流出させ
るシリカゲルでのフラッシュクロマトグラフィーにより
精製して、融点85°Cの(±)−N−メチル−2−オ
キソ−1−フェニルシクロヘキサンカルボチオアミド(
I,5I、6゜1ミリモル)を得を二。N、M、R,(
CDC13)1.62−2.05(c、4H)、2.4
2−2.56(m、 2H)、2.64−2.84(a
aa、 1)1)、3.0−3.18(c、4H)、7
.23−7.45(c、 5H)、8.72−9.06
(巾広の一重線、IH)。実験値C,68,3、H,7
,2。
N、 5.8: S、 13.0%、C14H17NO
Sの計算値C,68゜Q;H,6,9;阻5.7;S%
13.0%。
(±)−2−フェニルシクロヘキサノンの代すに適尚に
置換された(±)−2−フェニルシクロヘキサノンを用
いる以外上述と同様の方法に従い、次の化合物を製造し
た: トルエン/酢酸エチル(I0010,25)で流出させ
るシリカゲルでのフラッシュクロマトクラフィー、続く
エーテルでのそしゃくによって精製した後、(±)−N
−メチル−2−オキソ−1−(4−クロルフェニル)シ
クロヘキサンカルボチオアミド、無色の固体、融点12
5〜127℃。
エーテル/ペンタン(I/l)で流出させるシリカゲル
でのフラッシュクロマトグラフィー、続くペンタンでの
そしゃくによって精製した後、(±)−N−メチル−2
−オキソ−1−(3−トリフルオルメチルフェニル)シ
クロヘキサンカルボチオアミド、淡黄色の固体、融点1
18〜120℃。この反応は一40℃で行なった。メチ
ルイソチオシアネートの添加後、温度をゆっくりと20
℃まで上昇させ、この温度に24時間維持した。
実施例2 化合物B −10℃のジメチルスルホキシド(6d)及びメタノー
ル(6−)の混合物中(±)−N−メチル−2−オキソ
−1−フェニルシクロヘキサンカルボチオアミド(0,
44,?、1.78ミリモル)の溶液を、水素化ホウ素
ナトリウム(0,072。
1.8ミリモル)で一部ずつ処理した。−1H℃で2時
間後、反応混合物を20℃に暖め、この温度に1.5時
間保った。この混合物を水(20a+jl)で処理し、
次いで酢酸エチル(2X50ag)で抽出した。−緒に
した抽出物を食塩水で洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで
乾燥し、真空下に濃縮して粗油(0,589’)を得た
。これをヘキサン及び酢酸エチルの3:l混合物から再
結晶して融点l18〜119℃の(±)−トランス−N
−メチル−2−ヒドロキシ−1−フェニルシクロヘキサ
ンカルボチオアミド(0,2j、8.0ミリモル)を得
た。N、M、R,(CDCjt s)1.2−1.78
(m、6H)、1.80−2.0(m%IH)、2.1
4−2.30(dt、 IH)、2.30−2.46(
ddd、 IH)、3.0−3.08(d、 3H)、
4.76−4.94(m、 LH)、7.0−7.24
(巾広の一重線、IH)、7.24−7.48(m、 
38)、7.64−7.84(m、 2H)。実験値:
 C,67,9、H,7,6、N、 5.5 :S。
12.9%: C14HIINOSの計算値C,67,
4; H,7,7。
N、  5.6 ; 12.9%。
実施例3 化合物C 20℃のピリジン(6−)中(±)−N−メチル−2−
オキソ−1−フェニルシクロヘキサンカルボチオアミド
(0,6# 、2.4ミリモル)の懸濁液を、ヒドロキ
シルアミン塩酸塩(0,341゜4.9ミリモル)で処
理し、18時間撹拌した。
得られた溶液を水(50−)中に注ぎ、酢酸エチル(3
X50−)で抽出した。−緒にした有機抽出物を水(I
5mjl)及び食塩水(I5−)で連続的に洗浄し、硫
酸ナトリウムで乾燥した。次いで真空(30℃、14m
m+ Hg)下に濃縮することにより粗油を得、これを
インプロパツール(6−)から再結晶して(±)−アン
チ−N−メチル−2−ヒドロキシイミノ−1−フェニル
シクロヘキサンカルボチオアミド(0,27j、1.0
3ミリモル)を得た。融点182〜184℃。N、M、
R。
(CDC12x)1.28−1−84(c、4H) ;
 2.20−2.40(mSIH) ;2.42−2.
58(m、IH) ; 2.78−2.86(dt、I
H) ; 3−04−3.26(c14H) : 7.
20−7.58(m、6H) ; 8.40(s、IH
) ;実験値:C,64,4; H,7,0; N、 
 10.6 ; S、  12.1%: CtsHzo
NzOSの計算値C164,1、H16,9; N、 
10.7 ; S、 12゜2%。
実施例4 化合物D 20℃のピリジン(5−)中(±)−N−メチル−2−
オキソ−1−フェニル−シクロヘキサンチオアミド(0
,5F、2ミリモル)の懸濁液を、0−メチルヒドロキ
シルアミン塩酸塩(0,342,4ミリモル)で処理し
た。
20°Cで48時間撹拌した後、溶液を水(50mj)
中に注ぎ、次いで混合物を酢酸エチル(4×50−)で
抽出した。−緒にした有機抽出物を水(20mjt)で
洗浄し、次いで硫酸ナトリウムで乾燥した。真空(25
℃/ 14 mm Hg)下での濃縮により粗油(0,
672)を得た。これをインプロパツールから再結晶し
て、融点79〜80℃の(±)−N−アンチ−N−メチ
ル−2−メトキシイミノ−1−フェニルシクロヘキサン
カルボチオアミド(0,2F、0.7ミリモル)を得た
N、M、R,(CDCj! s)1.34−1.72(
c、3H)、2.72−2.92(n+。
IH)、2.16−2.36(m、IH)、2.56−
2.96(m、 3H)、3.10−3.16(d、3
H)、3.86(s、3H)、7 、20−7 、46
(c、 5H)、8.10−8.44 (巾広の一重線
、IH)。実験値C,65,2; H。
7.6 ; N、 10.2 ; S、 11.7%:
 CtsHzoNzOSの計算値C,65,2:H,7
,3; N、 10.1 ; S、 11.6%。
実施例5 化合物G及びH エタノール(25a+jり及びピリジン(5−)中(±
)−N−メチル−2−オキソ−1−(3,4−ジクロル
フェニル)シクロヘキサンカルボチオアミド(2,75
1)及びベンジロキシアミン塩酸塩(I,469)の撹
拌懸濁液を24時間還流させた。この混合物を蒸発させ
、残渣をクロロホルム(75ml)に溶解し、水(3X
50−)で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸発さ
せた。
残渣油をトルエンで流出させるシリカでのフラッシュク
ロマトグラフィーによって精製して、(±)−アンチー
N−メチルー2−ベンジロキシイミノ−1−(3,4−
ジクロルフェニル)−シクロヘキサンカルボチオアミド
(2,8jF)を融点103〜105℃の黄色の結晶と
して得た。
(±)−N−メチル−2−オキソ−1−(3゜4−ジク
ロルフェニル)シクロヘキサンカルボチオアミドの代り
に(±)−N−メチル−2−オキソ−1−フェニルシク
ロヘキサンカルボチオアミド4−フルオルベンジロキシ
アミン塩酸塩を用いる以外上述と同様の方法に従い、融
点65℃の(±)ーアンチーNーメチル−2−(4−フ
ルオルベンジロキシイミノ)−1−フェニルシクロヘキ
サンカルボチオアミドを製造した。
実施例6 化合物!及びZ 実施例1に記述したものと同様の方法に従い、トルエン
/酢酸エチル(99/1)で流出させるシリカゲルでの
フラッシュクロマトグラフィー及びエーテルでのそしゃ
くにより精製した後、(±)−N−メチル−2−オキソ
−1−(2−ナフチル)シクロヘキサンカルボチオアミ
ドを融点126〜127°Cの無色の結晶固体として、
またトルエンで流出させるシリカゲルでの7ラツシユク
ロマトグラフイー及びエーテルでのそしゃくにより精製
した後、(±)−N−メチル−2−オキ7−1−(3,
4−ジクロルフェニル)シクロヘキサンカルボチオアミ
ドを融点146〜147℃の無色の結晶体として得た。
実施例7 化合物に 20°Cのテトラヒドロフラン(I5mj2)中の(±
’)−2−(3−ニトロフェニル)シクロヘキサノン(
I,?、4.5ミリモル)及びメチルイソチオシアネー
トの溶液を、水素化ナトリウム(I20mg、5ミリモ
ル)を一部ずつ添加して処理した。この混合物を激しく
撹拌した。13分後に水(20mj2)を添加し、混合
物を酢酸エチル(2×20a+jl)で抽出した。−緒
にした有機抽出物を硫酸マグネシウムで乾燥した。真空
(30℃、14mm Hg)下での濃縮により粗油(0
,95I)を得、これをトルエン/アセトン(96/4
)で流出させるシリカゲルでのフラッシュクロマトグラ
フィー及び同割合のヘキサン及びジエチルエーテルでの
そしゃくにより精製し、融点126〜132℃の(±)
−N−メチル−2−オキソ−1−(3−ニトロフェニル
)−シクロヘキサンカルボチオアミド(0,1,? 、
0.35ミリモル)を得た。
本発明は、−紋穴(I)の化合物又はその製薬学的に許
容しうる塩を、製薬学的に許容しうる担体又はコーティ
ングと組合せて含んでなる製薬学的組成物をその範囲内
に包含する。臨床的実施において、本発明の化合物は直
腸的に投与しうるが、好ましくは非経口的に、適当なら
ば吸入により、或いは更に好ましくは経口的に投与され
る。
経口投与のための固体組成物は錠剤、丸薬、粉剤及び顆
粒剤を含む。そのような固体組成物においては、活性化
合物の1つ又はそれ以上を、少くとも1つの不活性な希
釈剤例えば殿粉、スクロース又はラクトースと混合する
。組成物は通常の場合のように不活性な希釈剤以外の更
なる物質、例えば潤滑剤例えばステアリン酸マグネシウ
ムを含んでいてもよい。
経口投与のための液体組成物は、技術的に通常使用され
る不活性な希釈剤例えば水及び液体パラフィンを含有す
る製薬学的に許容しうる乳剤、溶液剤、懸濁液剤、シロ
ップ剤及びエリキサ−剤を含む。そのような組成物は不
活性な希釈剤のほかに、助剤例えば潤滑剤、懸濁剤、甘
味剤、風味剤、芳香剤及び保存剤を含んでいてよい。経
口投与のための本発明の組成物は、希釈剤又は賦形剤を
添加して又はしないで活性物質の1つ又はそれ以上を含
む吸収しうる物質例えばゼラチンのカプセル剤を包含す
る。
非経口的投与のための本発明による調製剤は無菌の水性
、水性−有機性、及び有機性の溶液剤、懸濁液剤及び乳
剤を含む。有機溶媒又は懸濁媒体の例は、プロピレング
リコール、ポリエチレングリコール、植物油例えばオリ
ーブ油及び注射しうる有機エステル例えばオレイン酸エ
チルである。
この組成物は助剤例えば可溶化剤、保存剤、湿潤剤、乳
化剤及び分散剤を含有していてもよい。これは例えばバ
クテリヤ保留フィルターでの濾過により、組成物中への
殺菌剤の混入により、照射により又は加熱により無菌に
することができる。またそれは無菌の固体の組成物の形
で製造し、これを使用前に無菌水に又はいくつかの他の
無菌の注射しうる媒体に溶解してもよい。
吸入のための組成物は公知の方法に従って処方された噴
霧状にしうる無菌の水性溶液又は乾燥粉末であってよい
直腸的投与のための固体組成物は、公知の方法に従って
処方された及び式(I)の化合物又はその製薬学的に許
容しうる塩の1つ又はそれ以上を含有する生薬を含む。
本発明の組成物における活性成分の割合は変化させるこ
とができるが、それが適当な投薬量が達成されるような
割合をなすことが必要である。明らかに、いくつかの単
位投薬剤を凡そ同時に投与してもよい。使用される投薬
量は、医者の決定するところであり、所望の治療効果、
投与経路及び処置期間、並びに患者の状態に依存する。
成人において、投薬量は一般に経口投与の場合1日当り
0.001〜50mg/体重に、である。吸入の場合、
噴霧液又は処方された乾燥粉剤として、好適な1日の投
薬量は0.001〜5報/体重に、である。
本化合物は、男の模様ハゲと関連した頭部の抜は毛を禁
止するために局所的に適用してもよい。この場合の好適
な1日の投薬量は0.1−10mg/体重kgであり、
例えば1日当り5−ずつ2〜3回適用される。
次の実施例は本発明による製薬学的組成物を例示する。
組成物例 普通の方法に従い、それぞれ (±)−N−メチル−2−オキソ−1−フェニル−シク
ロヘキサンカルボチオアミド20mgラクトース   
           100醜g殿粉       
           60mgデキストリン    
          40mgステアリン酸マグネシウ
ム        1mgを含有する2号寸法のゼラチ
ンカプセル剤を製造し tこ 。
本発明の特徴及び態様は以下の通りである〜1、−紋穴 1式中、Rは炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル基
を表わし、Arは随時置換されたフェニル基を表わし、
Yはエチレン又はメチレン基或いは1つの原子価結合を
表わし、モしてXはカルボニル又はヒドロキシメチレン
基或いは式>C−NOR’、>C−NN(R1)。
又は>C−NN(R’)CON(Rつ、の基ヲ表わし、
但しR1は同一でも異なってもよく且つそれぞれ水素原
子或いは未置換であり又は1つもしくはそれ以上のC!
−、アルケニル、カルボキシ、C,、アルコキシカルボ
ニル、ヒドロキシ、C3,アルコキシ、カルバモイル(
未置換或いはl又は2つのC0〜、アルキルで置換)、
アミノ、CI−、アルキルアミノ又はジーC3−4アル
キルアミノから選択さ゛れる置換基で置換されている炭
素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル基を表わし、或い
はR1はベンジル、フェネチル、l−ナフチルメチル、
2−ナフチルメチル又はピリド−3−イルメチル基を表
わし、但しこれらの基の各はその環が1つ又はそれ以上
のハロゲン原子又はヒドロキシ、C1−4アルキル、C
1,アルコキシ(このアルコキシは未置換であり又はR
1で表わされるアルキル基に対して定義した如く置換さ
れている)、シアノ、ニトロ、トリフルオルメチル、カ
ルボキシ、CI〜、アルキルアミノ、C1〜、アルカノ
イルアミノ、02〜.アルコキシカルボニル基で置換さ
れていてよく、或いは同−窒素原子上の2つのRIrn
換基は一緒になって未置換であり又はR1で表わされる
アルキル基に対して定義した如く置換されている鎖中の
炭素数が4〜6の直鎖又は分岐鎖アルキレン基を形成し
ていてよい] のチオホルムアミド誘導体及びその製薬学的に許容しう
る塩。
2、Xがカルボニル基又は上記lに定義したような式>
C−NOR’の基を表わす上記lの化合物0 3、Yがメチレン基を表わす上記l又は2の化合物。
4、基Arがその3及び/又は5位がシアノ、ニトロ、
トリフルオルメチル、カルバモイル、カルボキシ、C8
〜、アルカノイル、C!〜、アルコキシカルボニル又は
C3〜、アルキルスルホニル基或いは弗素、塩素又は臭
素原子から選択される電子吸引基で置換され且つ随時更
にハロゲン原子、01〜.アルキル又はC6〜18アリ
ール基で置換され、或いは基Arはハロゲン原子、CI
−、アルキル又はC,、、アリール基で又は−緒になっ
て融合環を形成する置換基で置換されている上記L 2
又は3の化合物。
5、Arがフェニル、4−クロルフェニル、3−トリフ
ルオルメチルフェニル、3−ニトロフェニル、3.4−
ジクロルフェニル、又は2−ナフチル基を表わす上記1
,2又は3の化合物。
6、一般式 [式中、R,Ar及びYは上記1〜5のいずれか1つに
定義した通りであり、但しヒドロキシ基は基−C5N)
(Hに対してトランス位に存在する1 の上記l及び3〜5のいずれか1つの化合物。
7、化合物A−K又はその製薬学的に許容しうる塩のい
ずれか1つとして同定される上記lの化合物。
8、一般式 [式中、X′はカルボニル基又は上記lの如き式>C−
NOR’又は> C−N N (R’)!の基を表わし
、そしてY及びArは上記lに定義した通りであるJ の化合物を、一般式 %式%) [式中、Rは炭素数1〜4の直鎖又は分枝鎖アルキル基
である] のイソチオシアネートと反応させることを含んでなるX
がカルボニル基又は式>C−NOR’又は>C−NN(
Rつ、を表わし、但しR1が上記lの通りであり且つX
、Y、R及びArが上記lの通りである上記lの一般式
(I)のチオホルムアミド誘導体の製造法。
9、Y及びArが上記lの通りであり且つX′がカルボ
ニル基を表わす上記8の一般式(III)の対掌体混合
物をキラルな補助試剤と反応させ、そして得られた生成
物を一般式 %式%) [式中、Rは上記lの通りである] の化合物と反応させ、続いてキラルな補助試剤を除去す
ることを含んでなるXがカルボニルを表わす一般式(I
)のチオホルムアミド誘導体の立体選択的製造法。
10、キラルな補助剤が(S)−1−アミノ−2−メト
キシメチル−ピロリジンである上記9の方法。
tt、xがカルボニル基を表わし及びY、R及びArが
上記lの通りである一般式(I)の化合物の還元を含ん
でなるXがヒドロキシメチレン基を表わし且つY、R及
びArが上記1の通りである上記lの一般式(I)のチ
オホルムアミド誘導体の製造法。
12、Xがカルボニル基を表わす一般式(I)の化合物
を一般式 %式%) [式中、R1は上記lの通りである] の化合物と又はその酸付加塩と反応させることを含んで
なるXが上記lの如き式>C−NOR’)C−NN(R
つ、又は>C−NN(R’)CON(R’>2の基を表
わし且つY、R及びArが上記1の通りである上記lの
一般式(I)のチオホルムアミド誘導体の製造法。
13、メチルアミンの、−紋穴 導体をその製薬学的に許容しうる塩に転化する工程が後
続する上記8〜13のいずれか1つの方法。
15、上記lの如き一般式(I)のチオホルムアミド誘
導体及びその製薬学的に許容しうる塩を、製薬学的に許
容しうる担体又はコーティングと組合せて含んでなる製
薬学的組成物。
特許出願人 メイ・アンド・ペイカー・リミテッド [式中、R′は炭素数1〜4の直鎖又は分枝鎖アルキル
基或いはベンジル又はカルボキシメチル基を表わし、X
′は上記8の通りであり、モしてY及びArは上記lの
通りである]のジチオエステルとの反応を含んでなるR
がメチル基を表わし、Xがカルボニル基又は上記lの如
き式)C−NOR’又は〉C−NN(Rつ、の基を表わ
し、そしてY及びArが上記lの通りである一般式CI
)のチオホルムアミドの製造法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、Rは炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル基
    を表わし、Arは随時置換されたフエニル基を表わし、
    Yはエチレン又はメチレン基或いは1つの原子価結合を
    表わし、そしてXはカルボニル又はヒドロキシメチレン
    基或いは式>C=NOR^1、>C=NN(R^1)_
    2又は>C=NN(R^1)CON(R^1)_2の基
    を表わし、 但しR^1は同一でも異なつてもよく且つそれぞれ水素
    原子或いは未置換であり又は1つもしくはそれ以上のC
    _2_〜_6アルケニル、カルボキシ、C_2_〜_5
    アルコキシカルボニル、ヒドロキシ、C_1_〜_4ア
    ルコキシ、カルバモイル(未置換或いは1又は2つのC
    _1_〜_4アルキルで置換)、アミノ、C_1_〜_
    4アルキルアミノ又はジ−C_1_〜_4アルキルアミ
    ノから選択される置換基で置換されている炭素数1〜4
    の直鎖又は分岐鎖アルキル基を表わし、或いは R^1はベンジル、フェネチル、1−ナフチルメチル、
    2−ナフチルメチル又はピリド−3−イルメチル基を表
    わし、但しこれらの基の各はその環が1つ又はそれ以上
    のハロゲン原子又はヒドロキシ、C_1_〜_4アルキ
    ル、C_1_〜_4アルコキシ(このアルコキシは未置
    換であり又はR^1で表わされるアルキル基に対して定
    義した如く置換されている)、シアノ、ニトロ、トリフ
    ルオルメチル、カルボキシ、C_1_〜_4アルキルア
    ミノ、C_2_〜_5アルカノイルアミノ、C_2_〜
    _5アルコキシカルボニル基で置換されていてよく、或
    いは同一窒素原子上の2つの R^1置換基は一緒になつて未置換であり又はR^1で
    表わされるアルキル基に対して定義した如く置換されて
    いる鎖中の炭素数が4〜6の直鎖又は分岐鎖アルキレン
    基を形成していてよい] のチオホルムアミド誘導体及びその製薬学的に許容しう
    る塩。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(III) [式中、X′はカルボニル基又は特許請求の範囲第1項
    記載の如き式>C=NOR^1又は>C=NN(R^1
    )_2の基を表わし、そしてY及びArは特許請求の範
    囲第1項に定義した通りである] の化合物を、一般式 R−N=C=S(IV) [式中、Rは炭素数1〜4の直鎖又は分岐鎖アルキル基
    である] のイソチオシアネートと反応させることを含んでなるX
    がカルボニル基或いは式>C=NOR^1又は>C=N
    H(R^1)_2のを表わし、R^1が特許請求の範囲
    第1項記載の通りであり、そしてY、R及びArが特許
    請求の範囲第1項記載の通りである特許請求の範囲第1
    項記載の一般式( I )のチオホルムアミド誘導体の製
    造法。 3、Y及びArが特許請求の範囲第1項記載の通りであ
    り且つX′がカルボニル基を表わす特許請求の範囲第2
    項記載の一般式(III)の対掌体混合物をキラルな補助
    試剤と反応させ、そして得られた生成物を一般式 R−N=C=S(IV) [式中、Rは特許請求の範囲第1項記載の通りである] の化合物と反応させ、続いてキラルな補助試剤を除去す
    ることを含んでなるXがカルボニルを表わす一般式(
    I )のチオホルムアミド誘導体の立体選択的製造法。 4、Xがカルボニル基を表わし及びY、R及びArが特
    許請求の範囲第1項記載の通りである一般式( I )の
    化合物の還元を含んでなるXがヒドロキシメチレン基を
    表わし且つY、R及びArが特許請求の範囲第1項記載
    の通りである特許請求の範囲第1項記載の一般式( I
    )のチオホルムアミド誘導体の製造法。 5、Xがカルボニル基を表わす一般式( I )の化合物
    を一般式 NH_2OR^1(Va) NH_2N(R^1)_2(Vb)又は NH_2N(R^1)CON(R^1)_2(Vc)[
    式中、R^1は特許請求の範囲第1項記載の通りである
    ] の化合物と又はその酸付加塩と反応させることを含んで
    なるXが特許請求の範囲第1項記載の如き式>C=NO
    R^1、>C=NN(R^1)_2又は>C=NN(R
    ^1)CON(R^1)_2、の基を表わし且つY、R
    及びArが特許請求の範囲第1項記載の通りである特許
    請求の範囲第1項記載の一般式( I )のチオホルムア
    ミド誘導体の製造法。 6、メチルアミンの、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(VI) [式中、R′は炭素数1〜4の直鎖又は分枝鎖アルキル
    基或いはベンジル又はカルボキシメチル基を表わし、X
    ′は特許請求の範囲第2項記載の通りであり、そしてY
    及びArは特許請求の範囲第1項記載の通りである] のジチオエステルとの反応を含んでなるRがメチル基を
    表わし、Xがカルボニル基又は特許請求の範囲第1項記
    載の如き式>C=NOR^1又は>C=NN(R^1)
    _2の基を表わし、そしてY及びArが特許請求の範囲
    第1項記載の通りである一般式( I )のチオホルムア
    ミドの製造法。 7、特許請求の範囲第1項記載の如き一般式( I )の
    チオホルムアミド誘導体及びその製薬学的に許容しうる
    塩を、製薬学的に許容しうる担体又はコーティングと組
    合せて含んでなる製薬学的組成物。
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