JPH0227356A - 防塵型板状体保管ケース - Google Patents
防塵型板状体保管ケースInfo
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- JPH0227356A JPH0227356A JP63177769A JP17776988A JPH0227356A JP H0227356 A JPH0227356 A JP H0227356A JP 63177769 A JP63177769 A JP 63177769A JP 17776988 A JP17776988 A JP 17776988A JP H0227356 A JPH0227356 A JP H0227356A
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68313—Auxiliary support including a cavity for storing a finished device, e.g. IC package, or a partly finished device, e.g. die, during manufacturing or mounting
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
本発明は典型的にはりソグラフィ用マスクの保管ケース
に関し、 ケースの開封動作の際に外気中の塵埃がケース内に飛び
込むのを防ぐべく、マスク収容空間を加圧状態に保つ構
造を得ることを目的とし、典型的には蝶番により連結さ
れた一対の皿型容器にフィルム支持用のリブが設けられ
、該リブ上に展張した軟質フィルムによって限定される
空間を減圧排気する手段と、前記皿型容器を突き合わせ
て前記リブの一部によりマスクを固定支持した時に生ず
るマスク収容空間を加圧保持するための手段を備えた構
成とする。
に関し、 ケースの開封動作の際に外気中の塵埃がケース内に飛び
込むのを防ぐべく、マスク収容空間を加圧状態に保つ構
造を得ることを目的とし、典型的には蝶番により連結さ
れた一対の皿型容器にフィルム支持用のリブが設けられ
、該リブ上に展張した軟質フィルムによって限定される
空間を減圧排気する手段と、前記皿型容器を突き合わせ
て前記リブの一部によりマスクを固定支持した時に生ず
るマスク収容空間を加圧保持するための手段を備えた構
成とする。
内圧が高く保たれているので、マスクを取り出すための
開蓋動作で外気中の塵埃を吸い込む事がなく、フィルム
を毎回清浄なものと交換することにより容器内部の塵埃
発生も防止される。
開蓋動作で外気中の塵埃を吸い込む事がなく、フィルム
を毎回清浄なものと交換することにより容器内部の塵埃
発生も防止される。
本発明はフォトマスクなどの保管ケースに関わり、特に
マスク面への塵埃付着を防止する形態の防塵型マスク保
管ケースに関わる。
マスク面への塵埃付着を防止する形態の防塵型マスク保
管ケースに関わる。
フォトリソグラフィは半導体装置の製造に不可欠の工程
であるが、そこで使用するフォトマスクに塵埃などが付
着していると、転写したパターンに欠陥を生じ、製品の
歩留りを低下させる。特に最近のように集積回路が高密
化、微細化すると、極めて微小な付着物でも重大な影響
が及ぶことになる。
であるが、そこで使用するフォトマスクに塵埃などが付
着していると、転写したパターンに欠陥を生じ、製品の
歩留りを低下させる。特に最近のように集積回路が高密
化、微細化すると、極めて微小な付着物でも重大な影響
が及ぶことになる。
そのため、マスクを取り扱う空間を清浄なものとし、保
管ケースからの出し入れ等の作業も丁寧に行って無用の
気流の発生を回避することが要求されている。取り扱い
空間を清浄にすることは、クリーンルーム、クリーンベ
ンチの使用により達成されているが、マスク保管ケース
の開閉などの動作によって起こされる気流とそれに伴う
塵埃発生については、十分に対処されているとは言えな
い状況にある。
管ケースからの出し入れ等の作業も丁寧に行って無用の
気流の発生を回避することが要求されている。取り扱い
空間を清浄にすることは、クリーンルーム、クリーンベ
ンチの使用により達成されているが、マスク保管ケース
の開閉などの動作によって起こされる気流とそれに伴う
塵埃発生については、十分に対処されているとは言えな
い状況にある。
〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕フォトマ
スクの保管や運搬に用いられる保管ケースは、防塵の点
では、気密に作られていれば良しとするのが従来の考え
であった。即ち、ケースの開閉は無塵空間で行われると
いうことで、蓋を開けた時に空気を引き込むことには注
意が払われていなかったのであるが、最近のように微か
な異物でも問題とされるようになると、開蓋に伴って生
ずる空気の流れによって、ケース内外の壁面に付着して
いた塵埃が飛散するといった事態にも注意を払うことが
必要になってきている。
スクの保管や運搬に用いられる保管ケースは、防塵の点
では、気密に作られていれば良しとするのが従来の考え
であった。即ち、ケースの開閉は無塵空間で行われると
いうことで、蓋を開けた時に空気を引き込むことには注
意が払われていなかったのであるが、最近のように微か
な異物でも問題とされるようになると、開蓋に伴って生
ずる空気の流れによって、ケース内外の壁面に付着して
いた塵埃が飛散するといった事態にも注意を払うことが
必要になってきている。
本発明の目的は、マスク収容空間の圧力を高めることに
より、ケースの開閉の際に周囲の塵埃を引き込むことを
無くしたフォトマスク保管ケースを提供することである
。
より、ケースの開閉の際に周囲の塵埃を引き込むことを
無くしたフォトマスク保管ケースを提供することである
。
上記目的を達成するため、本発明の防塵型マスク保管ケ
ースは 例えば蝶番型に連結された2個の皿型成形体の夫々に、 格子状のリブと、 前記皿型成形体と前記リブ上に展張した軟質フィルムと
の間の空間を減圧排気するための排気口と、 蝶番型構成に従って前記2個の皿型成形体を合わせた際
に形成される、前記軟質フィルム相互間の空間に清浄な
ガスを導入し且つ該空間を加圧状態に保持するための手
段とが設けられている。
ースは 例えば蝶番型に連結された2個の皿型成形体の夫々に、 格子状のリブと、 前記皿型成形体と前記リブ上に展張した軟質フィルムと
の間の空間を減圧排気するための排気口と、 蝶番型構成に従って前記2個の皿型成形体を合わせた際
に形成される、前記軟質フィルム相互間の空間に清浄な
ガスを導入し且つ該空間を加圧状態に保持するための手
段とが設けられている。
[作 用〕
皿型成形体である容器本体に設けられた格子状のリブは
マスクを固定保持すると共に、例えば塩化ビニールであ
る軟質フィルムを所定の位置に支えることを目的として
設けられている。塩化ビニールフィルムはマスクを収容
する空間を仕切るためのものであって、該フィルムをき
ちんと展張した状態に保持するため、本体との間は減圧
状態に維持される。
マスクを固定保持すると共に、例えば塩化ビニールであ
る軟質フィルムを所定の位置に支えることを目的として
設けられている。塩化ビニールフィルムはマスクを収容
する空間を仕切るためのものであって、該フィルムをき
ちんと展張した状態に保持するため、本体との間は減圧
状態に維持される。
而して、該フィルムはマスクを使用する度に新しい清浄
なものと交換されるから、マスク収容空間の壁面に塵埃
が付着した状態は生ずることがない。
なものと交換されるから、マスク収容空間の壁面に塵埃
が付着した状態は生ずることがない。
このような構成の容器にマスクを収納した後、2枚のフ
ィルムの間の空間に例えば乾燥窒素ガスを送り込み、加
圧された状態にして送気孔を閉し、2個の本体をクラン
プして蓋が開かないようにする。
ィルムの間の空間に例えば乾燥窒素ガスを送り込み、加
圧された状態にして送気孔を閉し、2個の本体をクラン
プして蓋が開かないようにする。
このようにマスク収容室が加圧状態に保持されていれば
、蓋を開けた時に生ずる気流は内から外へ向かうものと
なり、外部の塵埃を内部に引き込むことがない。
、蓋を開けた時に生ずる気流は内から外へ向かうものと
なり、外部の塵埃を内部に引き込むことがない。
(実施例〕
第1図は本発明の防塵保管ケースの基本的な構造を示す
断面模式図であり、該図面を参照しながら本発明の基本
構成を説明する。
断面模式図であり、該図面を参照しながら本発明の基本
構成を説明する。
1は容器本体であり、偶発的に加えられる外力からもマ
スクを保護すべく、強靭且つ変形し難い材料で作られて
いる。該容器には格子状に配置されたリブ2が設けられ
ており、該リブ上に気密性の薄いフィルムを展張載置し
、排気口4から軽く排気して、フィルムと容器本体に囲
まれた空間を減圧状態にする。リブによって区切られる
空間を連続させるため、リブ板には通気孔が開けられて
いる。減圧空間の圧力は0.95気圧程度であるから、
排気口は、排気ポンプが接続できるストツブコック付の
管のような簡易な構造でよい。
スクを保護すべく、強靭且つ変形し難い材料で作られて
いる。該容器には格子状に配置されたリブ2が設けられ
ており、該リブ上に気密性の薄いフィルムを展張載置し
、排気口4から軽く排気して、フィルムと容器本体に囲
まれた空間を減圧状態にする。リブによって区切られる
空間を連続させるため、リブ板には通気孔が開けられて
いる。減圧空間の圧力は0.95気圧程度であるから、
排気口は、排気ポンプが接続できるストツブコック付の
管のような簡易な構造でよい。
フィルムは大気圧に押されて皿状の窪みを作るが、リブ
はこのフィルムを支えるためのものである。このような
2個の容器を突き合わせ、間にマスク5を収容する。そ
の際マスクは容器内の周辺近くに設けられた背の高いリ
ブ2′によって挟持される。ここで使用するフィルムは
表面が清浄で、帯電防止処理を施されたものである。
はこのフィルムを支えるためのものである。このような
2個の容器を突き合わせ、間にマスク5を収容する。そ
の際マスクは容器内の周辺近くに設けられた背の高いリ
ブ2′によって挟持される。ここで使用するフィルムは
表面が清浄で、帯電防止処理を施されたものである。
2個の容器の突き合わせ状態はクランパ6によって固定
され、2枚のフィルムの間にできるマスク収容空間には
、後述する手段によって清浄な乾燥気体が送入され、1
.05気圧程度の圧力に保たれる。
され、2枚のフィルムの間にできるマスク収容空間には
、後述する手段によって清浄な乾燥気体が送入され、1
.05気圧程度の圧力に保たれる。
第2図は容器本体の一方だけを取り出した斜視図である
。皿型の容器の周囲部にはフランジ状の縁が設けられ、
突き合わせて密閉するための平滑面が形成されている。
。皿型の容器の周囲部にはフランジ状の縁が設けられ、
突き合わせて密閉するための平滑面が形成されている。
皿の内部にはリブが格子状に配設されており、その高さ
は1.容器の周辺付近ではマスクを固定する高さに、ま
た中央部ではフィルム間にマスク収容空間が形成される
高さになっている。
は1.容器の周辺付近ではマスクを固定する高さに、ま
た中央部ではフィルム間にマスク収容空間が形成される
高さになっている。
リブによって仕切られた空間が独立したものとならない
よう、リブ板には空気穴10が開けられており、この状
態が第3図に示されている。なおリブの配置形状は、上
記実施例の形状の他、蜂の巣型や波型などがフィルムの
支持に適している。
よう、リブ板には空気穴10が開けられており、この状
態が第3図に示されている。なおリブの配置形状は、上
記実施例の形状の他、蜂の巣型や波型などがフィルムの
支持に適している。
次に該容器にマスクを収容し、収容空間を加圧状態に維
持するための構造に付いて説明する。第2図にも示され
ているように、容器本体の周辺部は、その一部が切り欠
かれており、断面コの字型の空気送入ロアが設けられて
いる。この部分の構造の詳細を第4図に従って説明する
。
持するための構造に付いて説明する。第2図にも示され
ているように、容器本体の周辺部は、その一部が切り欠
かれており、断面コの字型の空気送入ロアが設けられて
いる。この部分の構造の詳細を第4図に従って説明する
。
第4図はマスク収納空間への乾燥空気送入部の構造を示
す断面模式図である。容器本体1、リブ2、フィルム3
の形状と位置については既述した通りであり、マスクが
背の高いリブ2′によって固定される状態も同様である
。該図面は断面図であるから、同図ta)ではフィルム
によって囲まれる空間がリブ2′によって区分されてい
るが、リブ2′がフィルムを介してマスクに接触するの
は一部分だけであり、実際にはこれ等の空間はつながっ
ている。
す断面模式図である。容器本体1、リブ2、フィルム3
の形状と位置については既述した通りであり、マスクが
背の高いリブ2′によって固定される状態も同様である
。該図面は断面図であるから、同図ta)ではフィルム
によって囲まれる空間がリブ2′によって区分されてい
るが、リブ2′がフィルムを介してマスクに接触するの
は一部分だけであり、実際にはこれ等の空間はつながっ
ている。
前記コの字型の部分の2枚のビニールフィルムの間に空
気送入管9を挟み、マスク収容空間に除塵された乾燥空
気を吹き込む。内部の圧力が1.05気圧程度に上がっ
たところで、第4図(blに示すように封止栓8を押し
込んでフィルムどうしを密着させ、封止する。
気送入管9を挟み、マスク収容空間に除塵された乾燥空
気を吹き込む。内部の圧力が1.05気圧程度に上がっ
たところで、第4図(blに示すように封止栓8を押し
込んでフィルムどうしを密着させ、封止する。
本発明の防塵型保管ケースは上記のように使用される。
なお本明細書では、フォトマスクによって本発明のケー
スに収納される板状物体を代表させているが、本発明の
ケースに収容する物体がフォトマスクに限定されないこ
とは勿論である。
スに収納される板状物体を代表させているが、本発明の
ケースに収容する物体がフォトマスクに限定されないこ
とは勿論である。
以上説明したように、本発明の防塵保管ケースは容器の
内壁が清浄であることから容器内に塵埃を生ずることが
な(、また内圧が高いことから開封時に外部の塵埃を引
き込むことがない。従って本発明の防塵型保管ケースを
フォトマスクの輸送や保管に使用すれば、フォトマスク
への塵埃の付着に起因する製造歩留まりの低下が解消す
る。
内壁が清浄であることから容器内に塵埃を生ずることが
な(、また内圧が高いことから開封時に外部の塵埃を引
き込むことがない。従って本発明の防塵型保管ケースを
フォトマスクの輸送や保管に使用すれば、フォトマスク
への塵埃の付着に起因する製造歩留まりの低下が解消す
る。
第1図は本発明のケースの基本的構造を示す断面模式図
、 第2図は本発明のケースの部分を示す斜視図、第3図は
本発明のケースの部分を示す拡大斜視図、 第4図は本発明のケースの部分を示す断面模式%式% 4は排気口、 5はマスク、 6はクランパ、 7は空気送入口、 8は封止栓、 9は空気送入管、 10は空気穴 である。 杢企明のケー又ハ部今Eホて丹ネυ図 $ 2 図 本省シ稠の′T−スの舎P今と示す拡大斜視図43 図 本発明のケースの基本的構造を示す断面模式画策 図 /を発明のケースの部分を示す断面橡弐画策 4− 図
、 第2図は本発明のケースの部分を示す斜視図、第3図は
本発明のケースの部分を示す拡大斜視図、 第4図は本発明のケースの部分を示す断面模式%式% 4は排気口、 5はマスク、 6はクランパ、 7は空気送入口、 8は封止栓、 9は空気送入管、 10は空気穴 である。 杢企明のケー又ハ部今Eホて丹ネυ図 $ 2 図 本省シ稠の′T−スの舎P今と示す拡大斜視図43 図 本発明のケースの基本的構造を示す断面模式画策 図 /を発明のケースの部分を示す断面橡弐画策 4− 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 組み合わせて使用する2個の皿型成形体(1)の夫々に
、 格子状のリブ(2)と、 前記皿型成形体と前記リブ上に展張した軟質フィルム(
3)との間の空間を減圧排気するための手段(4)と、 前記2個の皿型成形体を突き合わせた際に形成される、
前記軟質フィルム相互間の空間に清浄なガスを導入し且
つ該空間を加圧状態に保持するための手段(7)(8)
とを備えて成ることを特徴とする防塵型板状体保管ケー
ス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63177769A JPH0227356A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 防塵型板状体保管ケース |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63177769A JPH0227356A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 防塵型板状体保管ケース |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0227356A true JPH0227356A (ja) | 1990-01-30 |
Family
ID=16036803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63177769A Pending JPH0227356A (ja) | 1988-07-15 | 1988-07-15 | 防塵型板状体保管ケース |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0227356A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06104333A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧インタフェース装置 |
JPH06104331A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧密封式可搬性コンテナ |
JPH06104328A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 全自動且つコンピュータ化コンベヤベースの製造ライン |
JP2009205767A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Hoya Corp | 磁気ディスクの製造方法 |
-
1988
- 1988-07-15 JP JP63177769A patent/JPH0227356A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06104333A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧インタフェース装置 |
JPH06104331A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 加圧密封式可搬性コンテナ |
JPH06104328A (ja) * | 1992-08-04 | 1994-04-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 全自動且つコンピュータ化コンベヤベースの製造ライン |
JP2009205767A (ja) * | 2008-02-28 | 2009-09-10 | Hoya Corp | 磁気ディスクの製造方法 |
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