JPH02270867A - ２，３‐ジヒドロベンゾフラン誘導体及びこれらを有効成分とする除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は新規な２．３−ジヒドロヘンシフラン誘導体及
びこれらを有効成分とする除草剤に関する。

［従来技術］ ２．３−ジヒドロヘンシフラン−５−オール類のフルキ
ルスルホネート誘導体が除草活性を有することは、特公
昭５５−４５５２３号公報、特開昭５３−９８９３６号
公報、特開昭５０〜１０１５３３号公報等に記載されて
いる。しかしながら、これらの公報記載の化合物の用途
は畑作用除草剤であり、水稲用除草剤としての試験例の
記述はない。

そこで、本発明者らが水田で試験評価した結果、水田に
於ける最も重要な雑草の一つであるノビエに対する除草
活性が不十分である上に、作物である水稲に対し重大な
薬害を与えるという致命的な欠点を有していた。

［発明が解決しようとする課肛〕 本発明者らは、２，３−ジヒドロベンゾフラン系化合物
の除草活性について種々検討した結果、先行技術の化合
物は水田に於ける最も重要な雑草の一つであるノビエに
対する除草活性が不十分である上に、作物である水稲に
対し重大な薬害を与えるという致命的な欠点を有してい
た。

従って、本発明は畑に適用できることはもとより、水稲
に薬害を与えず除草活性の優れた水田にも適用できる化
合物を見出すことを課題とする。

すなわち、本発明は水稲に対して安全である一方、ノビ
エ、クマガヤツリ、コナギ、キカシグサ等の一年生雑草
並びにホクルイ、ミズガヤツリ、クログワイ、マツバイ
、ウリカワ等の多年生雑草に対して強い除草活性を示し
、水田用の除草剤として優れた性能を有する化合物を見
出すことを課題とする。

また、土壌処理または茎葉処理により、メヒシバ、ハコ
ベ、タデ、イヌビニ、コゴメカヤツリ、スベリヒュ、ノ
ポロギク、シロザ、ハマスゲ、ヒルガオ、ツメフサ、ヤ
エムグラ、スズメノカタビラ、スズメノカタビラ、ナズ
ナ、エノコログサ等にも有効であり、畑作用除草剤その
他の非農耕地用除草剤としても有効である化合物を見出
すことを課題とする。

［課題を解決するための手段コ 本発明者らは、上記課題を解決すべく２．３−ジヒドロ
ヘンシフラン系化合物の除草活性について種々検討した
結果、水稲用除草剤として有効であるのみならず、畑作
用除草剤その他の非農耕地用除草剤としても有効である
化合物群を見出し、本発明を完成した。

すなわち本発明は、−形式（１） ［式中、ｐ＋は水素原子を表わし、Ｒ２は水素原子、ヒ
ドロキシ基、低級アルコキシ基、アミノ基又はモルホリ
ノ基、基−０ＣＯＲ’　（式中、Ｒ３は低級アルキル基
、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アラルキル基、フ
ェニル基、ハロゲン置換フェニル基、低級アルキル置換
フェニル基、ハロアルキル置換フェニル基、ニトロ置換
フェニル基、低級アルコキシ置換フェニル基、低級アル
コキシ基、フェノキシ基、置換フェノキシ基、ピリジル
基、テノイル基を表わす。）を表わすか、Ｒ１，Ｒｇは
一緒に酸素原子を表わす。コによって表わされる２、３
−ジヒドロベンゾフラン誘導体及びこれらを有効成分と
する除草剤である。

一般式（１）中のＲ２の具体例を示せば、例えば、水素
原子又は水酸基を示すか、メトキシ基、エトキシ基、１
ｓｏ−プロポキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ
基、ｉｓｏ〜ブトキシ基、５ｅｃ−ブトキシキ基、ｔ−
ブトキシ基等の低級アルコキシ基を示すか、アミノ基又
はモルホリノ基を示すか、アセトキシ基、クロロアセト
キシ基、ジクロロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基、
０−メチルベンゾイルオキシ基、ｍ−メチルベンゾイル
オキシ基、ｐ−メチルベンゾイルオキシ基、０−クロロ
ベンゾイルオキシ基、ｍ−クロロベンゾイルオキシ基、
ｐ−クロロベンゾイルオキシ基、２，６−ジクロロベン
ゾイルオキシ基、２．４−ジクロロベンゾイルオキシ基
、３，４−ジクロロベンゾイルオキシ基、ペンタフルオ
ロベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシベンゾイルオキシ
基、ｐ−トリフルオロメチルヘンジイルオキシ基、ρ−
ニトロヘンジイルオキシ基、プロピオニルオキシ基、イ
ソブチリルオキシ基、フェニルアセトキシ基、１−テノ
イルオキシ基、２−テノイルオキシ基、ピリジン−１−
イルカルボニルオキシ基、ピリジン−２−イルカルボニ
ルオキシ基等のアシルオキシ基を示すか、メトキシカル
ボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プ
ロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニル
オキシ基等のアルコキシカルボニルオキシ基を示す。し
かしながらこれらに限定されるものではない。

次に本発明化合物の製造法を述べる。−形式（Ｉ）にお
いてＲ１およびＲ２が共に水素原子である化合物は、下
記反応式に示す如く、特開昭５３−９８９３６号公報、
アメリカ特許３６５５９６０号公報等に記載の公知の方
法により得られる式（１）にて示される化合物とトリフ
ルオロメタンスルホニルハライドまたは無水トリフルオ
ロメタンスルホン酸とを反応させ製造することができる
。

（式中、Ｘはハロゲン原子を表わす。）すなわち、上記
反応は、式（ＩＩ）で表わされる化合物を、ベンゼン、
トルエン、キシレン、クロルベンゼン、ジエチルエーテ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、
クロロホルム、メチルエチルケトン、アセトン、アセト
ニトリル等の不活性溶媒に溶解し、等量かやや過剰のト
リフルメタンスルホニルハライドまたは無水トリフルオ
ロメタンスルホン酸とトリエチルアミン、ピリジン、ジ
メチルアニリン等の有機塩基又は炭酸カリウム、炭酸ナ
トリウム等の無機炭酸塩を加えて行なう。また、金属ナ
トリウム、水素化ナトリウム等を用いて反応を行なうか
、ピリジンを反応溶媒を兼ねて用いることもできる。反
応温度は一５０°Ｃから溶媒の沸点まで可能であるが、
好ましくは比較的低温域で反応させる方が有利である。

反応終了後は通常の後処理を実施して再結晶或いは、カ
ラムクロマトグラフィーにより目的化合物を精製するこ
とができる。

また、−形式（１）においてＲ１およびＲ２が共に水素
原子である化合物は、次に示す方法にても製造すること
ができる。すなわち、特開昭５３−９８９３６号公報等
の公知の方法により得られる（ＩＩＩ）で表わされるの
化合物を、次式に示すごとく脱水剤を用い脱水閉環する
ことにより製造することもできる。

（Ｉ　）（ＩＩ’＝Ｒ２−）１） 上記反応は無溶媒または不活性有機溶媒中で行なわれる
。ここで言う不活性溶媒とはベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロルベンゼン、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、メチルエチルケトン
、アセトン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアマイド等を挙げ
ることができる。

脱水剤としては、塩化チオニルとＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド等の組合せによるヴイルスマイヤー試薬や、五
酸化リン、ジシクロへキシルカルボジイミド、硫酸、燐
酸等の脱水剤を用いることができる。

また、−形式（Ｉ）においてＲ１およびＲ２が共に水素
原子である化合物以外の本発明化合物は、ジャーナル　
オプ　オルガニックケミストリー（Ｊ。

Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、）　３３巻３３４６頁（１９６８
年）、特公、昭５５−４５５２３号公報、アメリカ特許
３１８４４５７号公報等に記載の公知の方法により得ら
れる一般式（ＩＶ）の、化合物を出発原料として以下に
示す工程により製造し得る。

ｌ−１３ （Ｃ）　　　　　　　　　　　　　　　　　ＣＬ（ＩＸ
） （Ｘ） （式中、Ｒ４は置換されていてもよい低級アルキル基を
示す。） すなわち、式（Ｖ）で示される化合物は工程（ａ）によ
り有機溶媒中で行われ、式（ＩＶ）で表わされる化合物
を、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン、
ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、クロロホルム、メチルエチルケトン、ア
セトン等の不活性溶媒に溶解し、等量かやや過剰のトリ
フルオロメタンスルボニルハライドまたは無水トリフル
オロメタンスルホン酸とトリエチルアミン、ピリジン、
ジメチルアニリン等の有機塩基または、粉末化した炭酸
カリウム、炭酸ナトリウム等の無機炭酸塩を加えて反応
を行なう。また、金属ナトリウム、水素化ナトリウム等
を用いて反応を行なうか、ピリジンを反応溶媒を兼ねて
用いることもできる。反応温度は一５０’Ｃから溶媒の
沸点まで可能であるが、好ましくは、比較的低温域で反
応させる方が有利である。反応終了後は通常の後処理を
実施して再結晶あるいはカラムクロマトグラフィーによ
り目的化合物を精製することができる。

式（Ｖｆ）で示される化合物は工程（ｂ）により、通常
水溶媒中にて塩酸または硫酸を触媒として用い加水分解
することにより得られる。

式（■）で表わされる化合物は工程（Ｃ）により式（Ｖ
）で表わされる化合物を硫酸又は塩酸等の酸触媒存在下
に対応するアルコール中で反応させるか、又は、（ｄ）
で示される工程で式（Ｖｌ）で表わされる化合物を対応
するアルコール中で硫酸触媒の存在下に脱水エーテル化
することにより得ることができる。

−ｉ式（■）で示される化合物は工程（ｅ）により、式
（Ｖｌ）にて示される化合物を、ベンゼン、トルエン、
キシレン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、メチルエチル
ケトン、アセトン、アセトニトリル等の不活性溶媒中、
脱ハロゲン化水素剤としてトリエチルアミン、ピリジン
、ジメチルアニリン等の有機塩基もしくは炭酸カリウム
、炭酸ナトリウム等の無機炭酸塩を用い、室温または必
要に応じ加熱下に等量かやや過剰の対応するカルボン酸
ハライド、カルボン酸無水物、ハロギ酸エステルと反応
を行い、通常の後処理を行うことにより得ることができ
る。

弐（ＩＸ）で示される化合物は、工程（ｆ）により、式
（Ｖｌ）で示される化合物を酸化クロム、臭素、酸化第
−銀またはジメチルスルホキシドと無水酢酸の組合せ等
の酸化剤で処理することにより得ることができる。

式（Ｘ）で示される化合物は、工程（ｇ）により、式（
Ｖ）で示される化合物を、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラ
ン、塩化メチレン、クロロホルム、メチルエチルケトン
、アセトニトリル、等の不活性溶媒中、アンモニアガス
を吹き込むか、アンモニア水溶液を加え、室温又は必要
に応じ加熱下に反応を行い、通常の後処理を行うことに
より得ることができる。

特公昭５５−４５５２３号公報及び特開昭５３−９８９
３６号公報には本発明化合物とハロゲン置換アルキルス
ルホネー！・という意味で頻僚していると思われるクロ
ロメタンスルホネート体及び３−クロロプロパンスルホ
ネート体の開示があるが、本発明化合物のトリフルオロ
メタンスルホネート体の開示は全くない。これら公知の
塩素原子置換アルキルスルホネート体は、該公報の試験
例から、対応する無置換アルキルスルボネート体と比較
して除草活性並びにその他の優位性が見い出すことはで
きない。

これに対し本発明化合物のトリフルオロメタンスルホネ
ート誘導体は、後の試験例にても詳細に説明するが対応
する無置換アルキルスルホネート体と比較し除草活性が
大幅に向上すると同時に、水稲に対する安全性も類似の
公知化合物とは比較にならないほど向上しており、同じ
ハロゲン置換アルキルスルホネート体でありながら、公
知の化合物と本発明化合物は全くその性格が異なり、当
業者といえども容易に類推できるとは言い難いものであ
る。

本発明に係わる一般式（１）で表わされる化合物は、水
稲に対して極めて安全である一方、ノビエ、クマガヤッ
リ、コナギ、キカシグサ等の一年生雑草並びにホタルイ
、ミズガヤツリ、クログワイ、マツバイ、ウリカワ等の
多年生雑草に対して強い除草活性を示し、水稲用の除草
剤として優れた性能を有する。また、土壌処理または茎
葉処理により、メヒシバ、ハコベ、タテ、イヌビニ、コ
ゴメカヤツリ、スベリヒュ、ノボロギク、シロザ、ハマ
スゲ、ヒルガオ、ツメフサ、ヤエムグラ、スズメノカタ
ビラ、スズメノカタビラ、ナズナ、エノコログサ等にも
有効であり、畑作用除草剤その他の非農耕地期用除草剤
としても有効である。

本発明に係わる一般式（１）で表される化合物は、処理
する植物に対して原体をそのまま使用して良いが、一般
には不活性な液体または固体と混合し、通常用いられる
製剤形態、たとえば粉剤、粒剤、水和剤、乳剤、フロア
ブル製剤等に調製して使用される。さらに製剤上必要な
らば補助剤を添加することもできる。

担体としては、通常農園芸用薬剤に使用されるものであ
るならば固体または液体のいずれでも使用でき、特定の
物に限定されるものではない。例えば固体担体としては
、クレー、クルジ、ベントナイト、炭酸カルシウム、ケ
イソウ土、ホワイトカーボン等の如き鉱物質粉末、大豆
粉、デンプンの如き植物性粉末、石油樹脂、ポリビニル
アルコール、ポリアルキレンゲリコール等の如き高分子
化合物、尿素、ワックス類等が挙げられる。また液体担
体としては各種オイル類、各種有機溶媒類、水等が挙げ
られる。

補助剤としては、通常農園芸用薬剤に使用される界面活
性剤、結合剤、安定剤等を必要に応して単独または組合
せて使用できる。さらに場合によっては防菌防黴のため
に工業用殺菌剤、防菌防黴剤を添加することもできる。

界面活性剤としては、非イオン性、陰イオン性、陽イオ
ン性及び両イオン性のものを適宜使用できる。非イオン
性界面活性剤としては、アルキルフェノール、高級アル
コール、アルキルナフトール、または高級脂肪酸とエチ
レンオキシドとの重合物であるポリオキシエチレンアル
キルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、ポリオキシエチレンアルキルナフタレンエーテ
ル及びポリエチレングリコール脂肪酸エステルまたはエ
チレンオキシドとプロピレンオキシドを重合させたポリ
オキシエチレンポリオキシブロビレンブロソクポリマー
が好ましい。陰イオン性界面活性剤としては、アルキル
フェノール、アルキルナフトールまたは高級アルコール
と硫酸エステルの塩またはリン酸エステルの塩であるア
ルキルフェノール硫酸エステル塩またはアルキルフェノ
ールリン酸エステル塩、アルキルナフトール硫酸エステ
ル塩またはアルキルナフトールリン酸エステル塩または
高級アルコール硫酸エステル塩または高級アルコールリ
ン酸エステル塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アル
キルナフタレンスルホン酸塩及び高級脂肪酸の塩である
脂肪酸石けん等が好ましい。

本発明に係わる除草剤における一般式（１）で表わされ
る化合物の含有量は、製剤形態によって異なるが、通常
粉剤では０，５〜２０重景％、水和剤では１０〜６０重
景％、粒剤では０．５〜２０重量％、乳剤では１〜５０
重景％、フロアブル製剤では１０〜５０重景％、ドライ
フロアブル製剤では１０〜６０重景％であり、好ましく
は、粉剤では１〜５重量％、水和剤では２０〜４０重量
％、粒剤では１〜５重量％、乳剤では１０〜２０重量％
、フロアブル製剤では２０〜３０重量％、ドライフロア
ブル製剤では２０〜４０重景％である。

補助剤の含有量は０〜８０重量％であり、担体の含有量
は、１００重景％から有効成分化合物及び補助剤の含有
量を差し引いた量である。

本発明に係わる除草剤は、温水土壌処理、土壌処理、土
壌混層処理、茎葉散布処理等あらゆる処理法に於いて有
効であり、施用量としては、０．０１ｋｇ〜１０ｋｇ／
ｈａの広い範囲で使用可能であるが、標準的には０．１
ｋｇ〜５ｋｇ／ｈａの範囲での使用が好ましい。

本発明の除草剤は、他の除草剤の一種または二種以上、
殺虫剤、植物生長調節剤等の如き農薬、土壌改良剤また
は肥効性物質と混合使用可能であるのはもちろんのこと
、これらとの混合製剤とすることも可能であり、場合に
よっては相乗効果も期待できる。この場合、他の除草剤
との混合物として用いることがとくに有利である。

他の除草剤としては、例えばフェノキシ酢酸系除草剤、
安息香酸系除草剤、塩素化カルボン酸系除草剤、カーバ
メート系除草剤、尿素系除草剤、スルホニル尿素系除草
剤、酸アミド系除草剤、複素環系除草剤（トリアジン系
除草剤、ダイアジン系除草剤等）、フェノ゛−ル系除草
剤、ジフェニルエーテル系除草剤、ジビリジニウム系除
草剤、ジニトロアニリン系除草剤、有機リン酸エステル
系除草剤、含リンアミノ酸系除草剤、イミダゾリジノン
系除草剤、ピリジン系除草剤、キノリン系除草剤、スル
ホンアミド系除草剤、シクロヘキサノン系除草剤、その
他の有機除草剤及び無機除草剤が挙げられる。

次に本発明を実施例によって更に詳細に説明する。

［実施例］ 実施例１２．３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−２−モ
ルホリノ−５−トリフルオロメタンスルホニルオキシベ
ンゾフラン（化合物番 号２）の製造 ２．３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−５−ヒドロキシ
−２−モルホリノベンゾフラン５．０ｇをアセトニトリ
ル５０戚に溶解しトリエチルアミン４威を加えた。これ
に水冷下トリフルオロメタンスルホニルクロライド２．
２戒を徐々に滴下し、引き続き３０’Ｃで４時間撹拌を
行い反応を終了した。放冷後不溶物を濾去し、溶媒を減
圧下に留去して得られる残渣を酢酸エチルに溶解後水洗
、乾燥を行い次いで溶媒を留去した。残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エ
チル−９：１）ニて精製し、油状の２．３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−２−モルホＩＪノー５−トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシベンゾフランを６．４ｇ得た
（収率８４％）実施例２２．３−ジヒドロ−３，３−ジ
メチル−２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメタンスル ホニオキシベンゾフラン（化合物番号 ４）の製造 実施例１で得た２、３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−
２−モルホリノ−５−トリフルオロメタンスルホニルベ
ンゾフラン６．０ｇを３５％塩酸４．５−および水１１
　ｍｌに懸濁し、激しくかき混ぜながら、９０’Ｃで１
０分間反応し、放冷した。このエーテル層を水洗、乾燥
後溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−８：２）で
精製し、油状の２．３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−
２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメタンスルホニルオ
キシベンゾフラン４．６ｇを得た。

（収率９４％） 実施例３２．３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−２−（
３，４−ジクロロベンゾイルオキシ）−５−トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシベンゾ フラン（化合物８）の製造 実施例２で得た２、３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−
２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメタンスルホニルオ
キシベンゾフラン１．２ｇをジメチルエーテル５０ｍｐ
。

に溶解し、トリエチルアミン０．７　ｍｌを加えた。こ
の中に３，４−ジクロロヘンジイルクロライド０．８ｇ
を水冷下に徐々に滴下した。引き続き１０°Ｃ以下にて
３時間撹拌を行った後、反応液を水中に排出した。分液
して得られたエーテル層をさらに水洗、乾燥後、溶媒を
留去した。得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサン：酢酸エチル−１９：１
）にて精製し、油状の２８３−ジヒドロ−３，３−ジメ
チル−２−（３，４−ジクロロベンゾイルオキシ）−５
−）リフルオロメタンスルホニルオキシヘンシフラン１
．４ｇを得た。（収率　７８％）実施例４２．３−ジヒ
ドロ−３，３−ジメチル−２−オキソ−５−トリフルオ
ロメタンスルホニルオキシベンゾフラン（化合物番号９
） の製造 実施例２で得た２、３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−
２−ヒドロキシ−５−トリフルオロメタンスルホニルオ
キシヘンシフラン３．１ｇをジメチルスルホキシド８　
ｍｌと無水酢酸５　Ｊ、の混合溶液に加えた。この溶液
を室温で３日間放置後、氷水中に排出し油状物をエーテ
ルで抽出した。エテール層を水洗、乾燥の後溶媒を留去
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（展開溶媒
；ヘキサン：酢酸エチル＝８　：　２）で精製し、２．
３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−２−オキソ−５−ト
リフルオロメタンスルホニルオキシベンゾフラン３．Ｏ
ｇを得た。（収率９６％）実施例５２．３−ジヒドロ−
３，３−ジメチル−５−トリフルオロメタンスルホニル
オキシヘン シフラン（化合物番号１）の製造 ２．３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−５−ヒドロキシ
ベンゾフラン３．３ｇとトリエチルアミン２．１ｇをテ
トラヒビ０フラン５０ｍρ中に溶解させた溶液に、温度
を１０°Ｃ以下に保持しながら、トリフルオロメタンス
ルホニルクロリド３．４ｇを滴下装入した。室温で２時
間撹拌した後、反応溶液を水に排出し、酢酸エチルで抽
出した。有機層を無水硫酸す１−リウムにて乾燥し、次
いで溶媒を留去した。残渣をシリカゲルクロマトグラフ
ィー（展開溶媒；ｎ−へキサン：酢酸エヂルー１０：１
）にて精製し、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−
５−トリフルオロメタンスルホニルオキシヘンシフラン
を５．６ｇを得た。

実施例６２−アミノ−２，３−ジヒドロ−３，３−ジメ
チル−５−トリフルオロメタンスルホニルオキシベンゾ
フラン（化合物番号１４）の製造 実施例１で得た２、３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−
２−モルホリノ−５−トリフルオロメタンスルボニルオ
キシベンゾフラン３．８ｇをアセトンＩＭ！に熔解した
後、２８％アンモニア水５０ｄを加え、ドライアイスと
アセトンで冷却したコンデンサーを用いて、還流下に６
時間加熱攪拌し、反応を終了した。反応液を放冷後、油
状物を酢酸エチルを加え抽出し、有機層を水洗、乾燥し
た後、減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒；ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル−４＝１）で精製し、２−アミノ−２，
３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−５−トリフルオロメ
タンスルホニルオキシベンゾフラン０．９ｇを結晶とし
て得た。

（収率　３２％） 本発明の一般式（１）で表される２、３−ジヒドロヘン
シフラン誘導体のうち、代表的なものにつしＡで、その
融点及びＮＭＲスペクトルデークを第１表に示す。

次に本発明に係わる除草剤の製剤例及び除草活性試験例
を示す。

［製剤例および試験例］ 次に本発明に係わる除草剤の製剤例及び除草活性試験例
を示す。

製剤例１　（水和剤） 本発明化合物（１）・２０重量部、ネオペレクス（商品
名、花王アトラス製：ドデシルヘンゼンスルホン酸ナト
リウム）＝２重量部、ノイゲンＥＡ８０　（商品名、三
洋化成製：ボロオキシエチレンノニルフェニルエーテル
）：２重量部、ホワイトカーボン：５重量部およびジ−
クライト（商品名、国峰鉱業製：珪砂粉）ニア１重量部
をよく粉砕混合して水和剤を得た。

製剤例２　（粉剤） 本発明化合物（３）１重量部、エマルゲン９１０（商品
名、花王製：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル）：０．５重量部および信陽クレー（商品名、浅田製
粉製：蝋石クレー）；９６．５重量部をよく混合粉砕し
て粉剤を得た。

製剤例３　（粒剤） 微粉砕した本発明化合物（２）：３重量部、ネオペレッ
クス：２重量部、サンエキスＰ２５２　（商品名、三陽
国策バルブ製：リグニンスルホン酸ナトリウム）：２重
量部、王立ベント（商品名、王立鉱業製：ベントナイ）
）ニア０重量部および王立タルク（商品名、王立鉱業製
）：２３重置部をよく混合した後、適当量の水を加えて
湿潤させ、次に小型射出成形機で押し出し造粒した。こ
れを３０〜６０°Ｃで風乾し解砕した後、整粒機で０．
３〜２ｍｍに整粒して粒剤を得た。

製剤例４　（乳剤） 本発明化合物（３）：１０重量部、ツルポール８０〇八
（商品名、東邦化学製：非イオン性界面活性剤と陰イオ
ン性界面活性剤の混合物）；１０重量部及び０−キシレ
ン二８０重量部を混合溶解して乳剤を得た試験例１　湛
水土壌処理試験（発生前処理）１１５０００アールワグ
ネルボツトに土壌を詰め、タイヌビエ、ホクルイ、マツ
バイ、ミズガヤツリの種子、または塊茎を播種して湛水
状態とした。

これに予め育苗しておいた水稲苗（２〜３葉期）２木を
１株とし、その２株を移植して温室内で生育させた。１
日後（雑草発生前に）、供試化合物の所定量を前記製剤
例３に記載した方法に準して調製した粒剤を用いて処理
し、３０日後に雑草の発生状況及び水稲に対する薬害状
況を観察調査した。その結果を第２表に示した。

表中、被検植物の被害程度及び作物に対する薬害程度は
、植物の生育状態を無処理の場合と比較して以下の基準
で表示した。

５　　　　０〜５　　　　（枯死） ４　　　　６〜１０　　　　（甚害） ３　　　　１１〜４０（中吉） ２　　　　４１〜７０（小書） １　　　　７１〜９０（僅少害） 表わす。（試験例２〜３も同様） （特開昭５３−９８９３６号公報記載の化合物）（特公
昭５５−４５５２３号公報記載の化合物）試験例２　湛
水土壌処理試験（生育期処理）１１５０００アールワグ
ネルポツトに土壌を詰め、タイヌビエ、ホタルイ、マツ
バイ、ミズガヤツリの種子、または塊茎を播種して湛水
状態とした。

これに予め育苗しておいた水稲苗（２〜３葉期）２木を
１株とし、その２株を移植して温室内で生育させた。ヒ
エが２葉になった時に、供試化合物の所定量を前記製剤
例３に記載した方法に準して調製した粒剤を用いて処理
し、３０日後に雑草の発生状況及び水稲に対する薬害状
況を観察調査したその結果を第３表に示した。

表中、被検植物の被害程度及び作物に対する薬害程度は
、試験例１と同様に表示した。

試験例３　薬害試験 １１５０００アールワグネルボソトに土壌を詰め、温室
内で温水状態とし、これに予め育苗しておいた水稲苗（
２〜３葉期）３本を移植し、７日後に供試化合物の所定
量を前記製剤例３に記載した方法に準じて調製した粒剤
を用いて処理した。処理後１０日間は０．５ｃｍ／日の
漏水を与え、以後は無漏水に管理した。３０日後に水稲
の生育状況を観察調査した。その結果を第４表に示した
。

表中、水稲の生育状況は草丈、票数及び風乾型を測定し
無処理区と比較して％で表示した。

以上表２〜４に示すとおり、化合物Ａ、ＢおよびＣは活
性はあるものの水稲に対する害が大きいか除草活性が低
いかの何れかで、実用場面での使用は困難である。それ
に対し、本発明化合物は殺草効果が高いにも拘わらず、
水稲に対して薬害は極めて小さいか殆ど無く、水稲に対
して安全に使用できる。

第４表　　薬害試験 ［発明の効果］ 本発明化合物は文献既知の公知化合物に比して水稲に対
する薬害が大幅に軽減されているにも拘わらず、除草剤
としての殺草作用は高く、特にクィヌビエ、ミズガヤツ
リ、ホタルイ等の重要雑草に対し高い殺草効果を示す。

従って、本発明化合物は水稲用除草剤としての適用性が
高く、極めて有用な除草剤として使用できる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１は水素原子を表わし、Ｒ＾２は水素原子
   、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アミノ基又はモル
   ホリノ基、基−ＯＣＯＲ＾３（式中、Ｒ＾３は低級アル
   キル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アラルキル
   基、フェニル基、ハロゲン置換フェニル基、低級アルキ
   ル置換フェニル基、ハロアルキル置換フェニル基、ニト
   ロ置換フェニル基、低級アルコキシ置換フェニル基、低
   級アルコキシ基、フェノキシ基、置換フェノキシ基、ピ
   リジル基、テノイル基を表わす。）を表わすか、Ｒ＾１
   、Ｒ＾２は一緒に酸素原子を表わす。］によって表わさ
   れる２，３−ジヒドロベンゾフラン誘導体。
2. （２）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｒ＾１は水素原子を表わし、Ｒ＾２は水素原子
   、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、アミノ基又はモル
   ホリノ基、基−ＯＣＯＲ＾３（式中、Ｒ＾３は低級アル
   キル基、ハロゲン置換低級アルキル基、低級アラルキル
   基、フェニル基、ハロゲン置換フェニル基、低級アルキ
   ル置換フェニル基、ハロアルキル置換フェニル基、ニト
   ロ置換フェニル基、低級アルコキシ置換フェニル基、低
   級アルコキシ基、フェノキシ基、置換フェノキシ基、ピ
   リジル基、テノイル基を表わす。）を表わすか、Ｒ＾１
   、Ｒ＾２は一緒に酸素原子を表わす。］によって表わさ
   れる２，３−ジヒドロベンゾフラン誘導体を有効成分と
   して含有することを特徴とする除草剤。