JPH02270083A - 図形ぬりつぶし方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、図形生成装置において二次元画像メモリに記
憶された閉・線図形の内部をぬりつぶす図形ぬりつぶし
方法に関する。

〔従来の技術〕

四角形、三角形、星型などの多角形を構成する閉・線図
形の頂点座標値をコンピュータ等の上位装置から受は取
ることにより、二次元画像メモリ上の上記各頂点座標値
に相当する画素および頂点座標値間をつなぐ線上に存在
する画素を有為画素（例えば白黒画像では黒画素）に書
き換えて閉・線図形を二次元画像メモリ上に生成し、こ
れをＣＲＴ等のＴＶ走査型表示装置の画面に表示すると
いった図形生成装置が、従来から知られている。

このような閉・線図形は、その内部をぬりつぶして表示
した方が表示内容が鮮明になる等、好ましい場合があり
、従来は、次のようにして図形のぬりつぶしを行ってい
た。

例えば、二次元画像メモリ上に第８図に示すような頂点
ａ、ｂ、ｃ、ｄを持つ閉・線図形が生成された場合、画
像の走査方向をＸ軸の土方向とすると、まず頂点ａと頂
点すとをつなぐ線分ａｂおよび頂点Ｃと頂点ｄとをつな
ぐ線分ｃｄの式を求め、線分ａｂと各走査線との交点を
ぬりつぶし開始点、その走査線と線分ｃｄとの交点をぬ
りつぶし終了点として記憶し、各走査線においてぬりつ
ぶし開始点からぬりつぶし終了点までの間の画素を有為
画素に書き換えることで同図の領域Ａの部分をぬりつぶ
す。その後、同様にして領域Ｂの部分をぬりつぶす。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来は上述したようにして閉・線図形のぬりつぶしを行
っていたが、次のような問題点があった。

（１）生成すべき閉・線図形に関して与えられる頂点座
標値から閉・線図形を構成する線分の式を求めなければ
ならず、また必要に応じて閉・線図形を複数の領域に分
割する必要がある。従って、形状が複雑になると処理時
間が著しく増大する。

（２）二次元画像メモリの１画面分の領域に独立した複
数の閉・線図形が生成されている場合、１つの走査線が
複数の閉・線図形を横切ることになる。

他方、ぬりつぶし開始点、終了点を保持する手段は通常
１組しかないので、全ての閉・線図形を一括して処理し
得ず、各々の閉・線図形毎にぬりっぶし処理を行うこと
から、ぬりつぶしに時間がかかる。

本発明はこのような従来の問題点を解決したものであり
、その目的は、各々独立した複数の閉・線図形を一括し
てぬりつぶすことができ、然も形状が複雑になっても、
それほど処理時間が増大しない図形ぬりつぶし方法を提
供することにある。

〔課題を解決するための手段］ 本発明は上記の目的を達成するために、二次元画像メモ
リに記憶された閉・線図形の内部をぬりつぶす方法にお
いて、 （１）前記間・線図形の各頂点が山谷部分に相当するか
否かを調べて山谷部分に相当する頂点を前記二次元画像
メモリから消去した後、細線化処理を施す工程、 （２）前記二次元画像メモリを所定方向に走査し、同一
走査線上における奇数番目の有為画素から偶数番目の有
為画素までの画素を有為画素に書き換える工程を有して
いる。

〔作用〕

一般に、頂点や水平部分を持たない線図形（極めて簡単
な例では垂直な２本の平行線からなる図形）の場合、二
次元画像メモリに幾つそのような図形があっても、工程
（２）のみで−括してぬりつぶすことができる。しかし
、頂点および水平部分を有しない閉・線図形はないので
、工程（２）だけでは処理し得ない、そこで、本発明で
は、工程（２）の言わば前処理として、工程（１）を行
う。

この工程（１）では、先ず閉・線図形の各頂点が山谷部
分に相当するか否を調べる。ここで山谷部分とは簡略化
して言えば、閉・線図形を構成している各頂点のうち、
前後の頂点に比べて上方（走査線と垂直な方向）に突出
している点（山）および下方に突出している点（谷）で
ある０例えば、三角形〉の左上の頂点が（山）部分に相
当し、左下の頂点が（谷）部分に相当する。また、三角
形Δの上の頂点が（山）部分に相当し、底辺が（谷）部
分に相当する。

工程（１）では、山谷部分に相当すると判定された頂点
は二次元画像メモリから消去される。これにより、工程
（２）において偶数番目の有為画素がない為に頂点以降
の全画素がぬりつぶされたり、或いは別の閉・線図形の
有為画素間を誤ってぬりつぶすこと等がなくなる。

次に工程（１）では、細線化処理が施される。ここで細
線化処理とは、同一走査線上に連続して２画素以上の有
為画素が存在する場合、１つの有為画素を残して他を無
為画素に書き換えることである。

これにより、１つの閉・線図形と各走査線との交点の数
は２個となり、水平部分の影響なく工程（２）において
ぬりつぶし処理が適切に行えることになる。

〔実施例〕 次に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。

第１図（ａ）〜（ｅ）は、本発明の図形ぬりつぶし方法
を用いて二次元画像メモリＰ上に生成された閉・線図形
をぬりつぶす際の各時点の二次元画像メモリの内容例を
、第２図は一時的に使用する補助の二次元画像メモリＱ
の内容例をそれぞれ示し、白丸は無為画素（以下、白画
素と称す）、黒丸は有為画素（以下、黒画素と称す）で
ある。以下の説明では二次元画像メモリＰ、　　Ｑ上の
各画素酸いはその座標値を識別するためにＸ座標値＝ｘ
、Ｙ座標値＝ｙにある画素あるいはその座標値をＰ　（
ｘ。

ｙ）、Ｑ（ｘ、ｙ）と呼ぶことにする。

本実施例の図形ぬりつぶし方法は、次の工程を含んでい
る。

（１）二次元画像メモリＰ上の各々の閉・線図形の各頂
点が山谷部分に相当するか否かを調べて山谷部分に相当
する頂点を二次元画像メモリから消去すると共に、補助
の二次元画像メモリＱに退避した後、細線化処理を施す
工程。

（２）二次元画像メモリＰをＸ軸方向に走査し、同一走
査線上における奇数番目の黒画素から偶数番目の黒画素
までの画素を黒画素に書き換える工程。

（３）二次元画像メモリＰの内容と補助の二次元画像メ
モリＱの内容とを合成する工程。

以下、各工程毎に説明する。

ｒ工程（１）Ｊ　　（第１図（ａ）　〜（Ｃ）及び第２
図参照）第１図（ａｌは、図形生成装置の上位装置から
、頂点座標として、 Ｐ　（１，４）、Ｐ　（１５）、Ｐ　（３，７）Ｐ（５
，５）、Ｐ　（５，２）、Ｐ　（４，１）が与えられる
ことにより、図形生成装置で自動的に生成した閉・線図
形Ａと、同じく頂点座標として、 Ｐ　　（７，２）、　　Ｐ　　（７，３）、　　Ｐ　　
（１１，７）Ｐ　　（１２７）、　　Ｐ　　（１２，６
）、　　Ｐ　　（１３，５）Ｐ　　（１４，５）　、　
　Ｐ　　（１４，２）　、　　Ｐ　　（９，２）Ｐ（８
，１） が与えられることにより、自動的に生成した閉・線図形
Ｂとを含む二次元画像メモリＰの内容を示している。

図形生成装置は、先ず、上記の各頂点座標を参照して山
谷検出、山谷消去・退避処理を行う。この山谷検出の具
体的な処理方法は後に詳述するとして、ここで結果だけ
を示すと、以下の頂点が山谷部分であると検出される。

閉・線図形Ａに関して； Ｐ　　（３，７）、Ｐ　　（４，１） 閉・線図形Ｂに関して； Ｐ　（１１，７）、　　Ｐ　（１２，７）、　　Ｐ　（
８，１）そして、続く山谷消去により上記の山谷部分の
頂点が二次元画像メモリＰから消去され、二次元画像メ
モリの内容は第１図（ａ）から第１図Φ）の状態に変わ
る。また、山谷退避処理により、上記の山谷部分の頂点
が第２図に示すように補助の二次元画像メモリＱに退避
される。

次に図形生成装置は、第１図（ｂ）の状態の二次元画像
メモリＰに対し細線化処理を加える。この細線化処理（
具体的な方法は後述する）が行われることにより、二次
元画像メモリＰの内容は第１図（Ｃ）のように変化する
。即ち、同一走査線上で連続する２個の黒画素Ｐ　（１
３，５）、　　Ｐ　（１４，５）から成る黒画素列と、
６個の黒画素Ｐ　（９，２）。

Ｐ　（１０，２）、　　Ｐ　（１１，２）、　　Ｐ　（
１２，２）、　　Ｐ（１３，２）、　　Ｐ　（１４，２
）から成る黒画素列とが細線化され、最右端の１個の黒
画素Ｐ（１４，５）。

Ｐ　（１４，２）を除く他の黒画素が全て白画素に書き
換えられる。

以上で工程（］）が終了する。

ｒ工程（２）Ｊ　　（第１図（Ｃ）、　（ｄ）参照）工
程（２）では、図形生成装置は、二次元画像メモリＰを
Ｘ軸方向に走査し、同一走査線上における奇数番目の黒
画素から偶数番目の黒画素までの画素を黒画素に書き換
える。例えば、第１図（Ｃ）のＹ座標値＝２の走査線に
おいては、１番目の黒画素はＰ　（３，２）、　　２番
目の黒画素はＰ　（５，２）なので、その間の画素Ｐ　
（４，２）が黒画素に書き換えられ、３番目の黒画素は
Ｐ　（７，２）、　　４番目の黒画素はＰ　（１４，２
）なので、その間の画素Ｐ　（８，２）、　Ｐ　（９，
２）、　Ｐ　（１０，２）。

Ｐ　（１１，２）　、　　Ｐ　（１２，２）　、　　Ｐ
　（１３，２）が黒画素に書き換えられる。他の走査線
についても同様に行われる。この結果、二次元画像メモ
リＰの内容は第１図（Ｃ）から第１図（ｄ）のように変
化する。

これでぬりつぶし処理が終了する。

ｒ工程（３）Ｊ　　（第１図（ｄ）、　（ｅ）および第
２図参照）工程（３）では、図形生成装置は、二次元画
像メモリＰの内容と補助の二次元画像メモリＱの内容と
を合成する。つまり、補助の二次元画像メモリＱに退避
されていた第２図の山谷部分の頂点を第１図（ｃｉ）の
ぬりつぶし処理を終えた二次元画像メモリＰに戻すこと
により、第１図（ｅ）に示すように、閉・線図形の内部
が黒画素でぬりつぶされた図形を得るものである。

なお、本発明の他の実施例として、別の二次元画像メモ
リに第１図（ａ）の状態を保存しておき、第１図（ａ）
の黒画素と同じ位置の第１図（ｄ）の黒画素を白画素に
置き換えることにより、ぬりつぶし部分のみの画像を得
るようにしても良い。こうすれば、輪郭部分と色を違え
てぬりつぶすこと等が可能である。

次に、本発明の図形ぬりつぶし方法を実施する図形生成
装置の一実施例について説明する。

第３図は図形生成装置の一実施例の要部プロ・ンク図で
あり、閉・線図形およびぬりつぶし後の図形を記憶する
二次元画像メモリ１と、補助の二次元画像メモリ２と、
図示しない上位装置から閉・線図形の頂点座標を入力す
ることにより二次元画像メモリ１上に閉　線図形を生成
する公知の線図形生成回路３と、工程（１）の一部およ
び全体的な制御を担い第４図に示すような処理を行うマ
イクロプロセンサ（ＭＰＵ）、メモリ等を含むＭＰＵ回
路４と、上位装置から送られてきた各間・線図形の頂点
座標を保持するメモリ５と、工程（１）の細線化処理を
担う細線化回路６と、工程（２）のぬりつぶし処理を担
うぬりつぶし回路７と、工程（３）の合成処理を担う合
成回路８と、二次元画像メモリ１゜補助の二次元画像メ
モリ２を走査する為のアドレスを発生するスキャン回路
９と、ＭＰＵ回路４または線図形生成回路３からの指定
に従ってＭＰＵ回路４．線図形生成回路３．細線化回路
６．ぬりつぶし回路７および合成回路８の出力データの
１つを選択して二次元画像メモリ１の書き込みデータと
するセレクタ１０と、ＭＰＵ回路４または線図形生成回
路３からの指定に従ってＭＰＵ回路４゜線図形生成回路
３およびスキャン回路９の出力アドレスの１つを選択し
て二次元画像メモリ１に加えるセレクタ１２と、ＭＰＵ
回路４からの指定に従ってＭＰＵ回路４およびスキャン
回路９の出力アドレスの１つを選択して補助の二次元画
像メモリ２に加えるセレクタ１３と、二次元画像メモリ
１から読み出されたデータをＭ　Ｐ　Ｕ回路４１図示し
ないＣＲＴ等の表示装置、細線化回路６．ぬりつぶし回
路７および合成回路８の内のＭＰＵ回路４から指定され
た相手に送出するセレクタＩ４と、ゲート１５．１６と
で構成されている。

第５図は細線化回路６の＋ｉ構成例示す要部ブロック図
であり、セレクタ１４の出力を１画素分保持するシフト
レジスタ６１と、シフトレジスタ６１の出力が白画素を
示し且つセレクタ１４の出力が黒画素を示すときに黒画
素を示すデータを出力し、それ以外は白画素を示すデー
タを出力するゲート６２とで構成されている。

第６図はぬりつぶし回路７の構成例を示す要部ブロック
図であり、フリップフロップ７１と、このフリップフロ
ップ７１の出力とセレクタ１４の出力との論理和を出力
するオアゲート７２と、フリップフロップ７１の出力と
セレクタ１４の出力との論理積を出力するアンドゲート
７３とを含み、フリップフロップ７１はオアゲート７２
の出力が黒画素を示すときにセットされて黒画素相当の
データを出力し、アンドゲート７３の出力が黒画素相当
のときりセントされて白画素相当のデータを出力するも
のである。

第７図は合成回路８の構成例を示す要部ブロック図であ
り、セレクタ１４の出力と補助の二次元画像メモリ２の
出力との論理和を出力するオアゲート８１を含んでいる
。

次に、第３図ないし第７図を参照して、本実施例の図形
処理装置の動作を説明する。

第３図において、図示しない上位装置から描画すべき閉
・線図形の頂点座標が送られてくると、それらは線図形
生成回路３に入力されると共にメモリ５に記憶される。

線図形生成回路３は、セレクタ１０．１２を自分自身側
に切り換え、セレクタ１２を介してアドレスを、セレク
タ１０を介してデータをそれぞれ二次元画像メモリ１に
加えることにより、上位装置から与えられた１つの閉・
線図形の頂点座標に応じた閉・線図形を二次元画像メモ
リ１上に生成する。線図形生成回路３は上位装置から複
数の閉・線図形の情報が与えられた場合、各間・線図形
について同様の動作を行う。これにより、二次元画像メ
モリ１は例えば第１図（ａ）に示した状態となる。線図
形生成回路３は全ての閉・線図形の生成処理を終えると
、その旨をＭＰＵ回路４に通知する。

ＭＰＵ回路４は上記の通知に応答して、セレクタ１０，
１２．１４を自分自身側に切り換えて二次元画像メモリ
１をアクセスできるようにし、第４図に示す処理を開始
する。先ず、処理５ｌ−３１６の山谷検出を行う。ここ
で、ｌはメモリ５に記憶された１つの閉・線図形に含ま
れる個々の頂点座標を仮に識別する為の変数、ｊは制御
変数であり、ｙｉ、）’ｉ。ｊ、Ｖ＋＝とはｉ番目、ｉ
＋ｊ番目。

ｉ−１番目の頂点座標のＹ座標値を意味している。

この山谷検出処理を第１図（ａ）を参照して具体的に説
明すると次の通りである。

メモリ５に閉・線図形Ａにかかる頂点座標が、Ｐ　（１
，４）、　　Ｐ　（１，５）、・・・、Ｐ（４，１）の
順に格納されており、その先頭より１番目、２番目、・
・・、６番目とすると、先ず、閉・線図形Ａにかかる１
番目の頂点座標Ｐ（１，４）と１つ前の頂点座標（１番
目については最終番目のもの）Ｐ（４，１）とのＹ座標
値が比較され（Ｓ４）、結果はＹＥＳなので処理Ｓ５側
へ進み、１番目の頂点座標Ｐ（１，４）と１つ先の頂点
座標Ｐ（１゜５）とが比較される（Ｓ７）。結果はＮＯ
であり、且つ処理Ｓ８の結果もＮｏなので、現在注目し
ている頂点座標Ｐ（１，４）は山谷部分でないとされ、
処理Ｓ１４で１が歩進され、注目点を次の頂点座標に移
す。次に注目する頂点座標Ｐ　（１，５）も同様に山谷
部分でないとされる。次に注目する頂点座標Ｐ　（３，
７）については、１つ前の頂点座＋！ＩＰ　（１，５）
よりＹ座標値が大きく　（処理Ｓ４でＹＥＳ）且つ１つ
先の頂点座標Ｐ　（５，５）よりＹ座標値が大きくなる
（処理Ｓ７でＹＥＳ）。

よって、頂点座標Ｐ　（３，７）は山谷部分（この゛場
合、山部分）であると判定される。また、頂点座標Ｐ（
４，１）については、１つ前の頂点座標Ｐ　（５，２）
よりＹ座標値が小さく（処理Ｓ４゜Ｓ９で共にＮｏ）、
１つ先の頂点座標Ｐ　（１，４）よりＹ座標値が小さい
（処理ＳＬ２でＹＥＳ）。

この結果、頂点座標Ｐ（４，１）は山谷部分（この場合
、谷部分）であると判定される。

ＭＰＵ回路４は処理Ｓ７あるいは処理Ｓ１２で山谷部分
と判定した頂点座標については、処理Ｓ１７．３１８の
頂点消去・退避処理を行う。即ち、第１図（ｂ）に示し
たように山谷部分の頂点を二次元画像メモリ１から消去
しく処理５１７）、それを補助の二次元画像メモリ２に
第２図に示したように退避する（処理３１８）。

ＭＰＵ回路４はメモリ５に記憶された１つの閉・線図形
についての山谷検出、頂点消去・退避処理を終えると（
処理Ｓ１５でＹＥＳ　、但しｎは頂点の個数）、処理Ｓ
１６で全ての閉・線図形についての同種の処理を終えた
か否かを判定し、終えていなければ未処理の閉・線図形
についての山谷検出、頂点消去・退避処理を行う。この
結果、第１図（ａ）の場合、次の閉・線図形Ｂについて
の処理が行われ、その結果、二次元画像メモリ１の内容
は第１図（ｂ）に示すものとなる。なお、閉・線図形Ｂ
の頂点座標Ｐ　（１１，７）にかかる山谷検出において
は、１つの前の頂点座標Ｐ　（７，３）よりＹ座標値が
大きく（処理Ｓ４でＹＥＳ）、１つ先の頂点座標ｐ　（
１２，７）のＹ座標値と等しいと判定され（処理Ｓ７で
Ｎｏ、処理Ｓ８でＹＥＳ）、この結果、処理Ｓ６でｊが
一つ歩進され、さらに１つ先の頂点座標Ｐ　（１２，６
）と比較され（処理Ｓ７）、この結果がＹＥＳとなるの
で山谷部分（この場合、山部分）と判定される。同様に
して頂点座１．ｉＰ　（１２，７）も山谷部分と判定さ
れるものである。

この後、ＭＰＵ回路４は、細線化処理Ｓ１９゜ぬりつぶ
し処理５２０９合成処理Ｓ２１を順次に制御する。以下
、個別に説明する。

「細緑化処理１ ＭＰＵ回路４は、セレクタ１０．１４を細線化回路６側
に、セレクタ１２をスキャン回路９側に切り換え、スキ
ャン回路９および細線化回路６を起動する。スキャン回
路９は起動されると、二次元画像メモリ１のアドレスを
逆方向に順次に発生する。即ち、第１図ら）において、
画素Ｐ（１５，１）。

Ｐ（１４，１）、・・・、　　Ｐ　（１５，２）　、・
・・、　　Ｐ　（１５゜７）、　　Ｐ　（１４，７）、
　　Ｐ　（１，７）の順で走査していく。二次元画像メ
モリ１から読み出された画素データは、セレクタ１４を
介して細線化回路６に入力される。第５図を参照すると
、細線化回路６においては、セレクタ１４から加わる画
素データはシフトレジスタ６Ｉおよびゲート６２に入力
され、ゲート６２の出力がセレクタ１ｏを介して二次元
画像メモリ１の同一アドレスに書き戻される。この結果
、画素Ｐ　（１４，５）　、　　Ｐ　（１３，５）の如
く黒画素が連続して読み出されると、黒画素Ｐ　（１４
，５）の読み出し時点ではシフトレジスタ６１は直前の
白画素Ｐ　（１５，５）を保持している為にその出力は
白画素相当となり、ゲート６２の出力は黒画素相当とな
って第１図（Ｃ）の如く画素Ｐ（１４，５）は黒画素の
ままとなる。しかし、次の黒画素Ｐ　（１３，５）の読
み出し時点ではシフトレジスタ６１は黒画素Ｐ　（１４
，５）を保持しているのでゲート６２の出力は白画素相
当になり、第１図（Ｃ）の如く画素Ｐ　（１３，５）は
黒画素から白画素に書き換えられる。同様にして、黒画
素の連続する画素Ｐ　（１４，２）〜Ｐ　（９，２）が
処理され、第１図（Ｃ）の如く画素Ｐ　（１４，２）の
みが黒画素として残される。

ｒぬりつぶし処理」 スキャン回路９が二次元画像メモリ１を１回走査し終え
ると、細線化処理が完了したことになるので、次にＭＰ
Ｕ回路４はセレクタ１４をぬりつふし回路７側に切り換
えると共にスキャン回路９およびぬりつぶし回路７を起
動する。スキャン回路９は起動されると、二次元画像メ
モリ１のアドレスを順方向に順次に発生する。即ち、第
１図（Ｃ）において、画素Ｐ　（１，７）、Ｐ　（２，
７）、・・・。

Ｐ　（１５，７）、　　Ｐ　（１，６）、・・・、Ｐ　
（１，１）。

・・・、　　Ｐ　（１５，１）の順で走査していく。二
次元画像メモリ１から読み出された画素データはセレク
タ１４を介してぬりつぶし回路７に人力される。

第６図を参照すると、ぬりつぶし回路７において、セレ
クタ１４からの画素データはオアゲート７２およびアン
ドゲート７３に入力され、オアゲート７２の出力がセレ
クタ１０を介して二次元画像メモリ１の元のアドレスに
書き戻される。また、オアゲート７２の出力が黒画素相
当のときにフリップフロップ７１がセットされ、その出
力がアンドゲート７３およびオアゲート７２に入力され
る。

またアンドゲート７３の出力が黒画素相当のときにフリ
ップフロップ７１がリセットされる。

この結果、第１図（Ｃ）において、画素Ｐ　（２，６）
の読み出し時点でオアゲート７２の出力が黒画素相当に
なって第１図（ｄ）の如く画素Ｐ　（２，６）が黒画素
のままにされると共にその時点でフリップフロップ７１
がセットされオアゲート７２に黒画素相当の出力がフリ
ップフロップ７１から加えられる。従って、次の白画素
Ｐ　（３，６）の読み出し時点ではセレクタ１４からの
出力にかかわらずオアゲート７２から黒画素相当の出力
が得られ、第１図（ｄｌに示す如く白画素Ｐ　（３，６
）が黒画素に変更される。次の黒画素Ｐ　（４，６）の
読み出し時点でもオアゲート７２の出力が黒画素相当に
なるので、元の黒画素Ｐ　（４，６）は黒画素のままと
なり、その時点でアンドゲート７３の出力が黒画素相当
になってフリップフロップ７１がリセットされる。従っ
て、次の白画素Ｐ（５，６）の読み出し時点ではセレク
タ１４の出力およびフリップフロップ７１の出力が共に
白画素相当になり、白画素Ｐ　（５，６）は白画素のま
まになる。以上のような動作が二次元画像メモリｌの全
範囲にわたって行われることにより、二次元画像メモリ
１の内容は第１図（ｄ）に示すものとなり、ぬりつぶし
が完了する。

ｒ合成処理１ 次にＭＰＵ回路４は、セレクタ１３を補助の二次元画像
メモリ２側に切り換えると共にセレクタ１０．１４を合
成回路８側に切り換え、スキャン回ｉ９および合成回路
８を起動する。スキャン回路９は起動されると、二次元
画像メモリ１のアドレスを順方向に順次に発生する。こ
のとき、そのアドレスはセレクタ１３を介して補助の二
次元画像メモリ２にも加えられ、第２図に示したような
内容が読み出される。二次元画像メモリ１から読み出さ
れた画素データはセレクタ１４を介して合成回路８に入
力され、補助の二次元画像メモリ２から読み出された画
素データも合成回路８に人力される。第７図を参照する
と、合成回路８においては、セレクタＩ４を介して読み
出された二次元画像メモリ１の画素データと補助の二次
元画像メモリ２から読み出された同一アドレスの画像デ
ータとの論理和かオアゲート８１でとられ、その出力が
セレクタ１０を介して二次元画像メモリ１の元の場所に
書き戻される。この結果、二次元画像メモリ１の内容は
第１図（Ｑ）に示すものとなる。即ち、輪郭部分を含め
たぬりつぶし図形が完成する。

第３図の図形生成装置は、前処理の工程（１）の−部を
ＭＰＵ回路４で行っているが、それらもハードウェア回
路で実現できることは勿論のことである。また、工程（
１）〜工程（３）の全てをソフトウェア処理によって実
現することもできる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明の図形ぬりつぶし方法にお
いては、二次元画像メモリを所定方向に走査し、同一走
査線上における奇数番目の有為画素から偶数番目の有為
画素までの画素を有為画素に置き換える工程（２）の前
処理として、その工程（２）が適切に行えるように、前
記閉・線図形の各頂点が山谷部分に相当するか否かを調
べて山谷部分に相当する頂点を前記二次元画像メモリか
ら消去した後、細線化処理を施す工程（１）を行うもの
であり、閉・線図形の形状が複雑になっても、或いはぬ
りつぶすべき閉・線図形が多数あっても、前工程（１）
の処理時間が増大するだけで実際のぬりつぶしを行う工
程（２）の処理時間に影響はなく、全体としてぬりつぶ
し処理の高速化が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の図形ぬりつぶし方法を用いて二次元画
像メモリ上に生成された閉・線図形をぬりつぶす際の各
時点の二次元画像メモリの内容例を示す図、 第２図は一時的に使用する補助の二次元画像メモリの内
容例を示す図、 第３図は本発明の方法を実施する図形生成装置の一実施
例の要部ブロック図、 第４図はＭＰＵ回路４の処理例の流れ図、第５図は細線
化回路６の構成例を示す図、第６図はぬりつぶし回路７
の構成例を示す図、第７図は合成回路８の構成例を示す
図および、第８図は従来方法の説明図である。 図において、 １・・・二次元画像メモリ ２・・・補助の二次元画像メモリ ３・・・線図形生成回路 ４・・・ＭＰＵ回路 ５・・・メモリ ６・・・細線化回路 ７・・・ぬりつぶし回路 ８・・・合成回路

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 二次元画像メモリに記憶された閉・線図形の内部をぬり
   つぶす方法において、 （１）前記閉・線図形の各頂点が山谷部分に相当するか
   否かを調べて山谷部分に相当する頂点を前記二次元画像
   メモリから消去した後、細線化処理を施す工程、 （２）前記二次元画像メモリを所定方向に走査し、同一
   走査線上における奇数番目の有為画素から偶数番目の有
   為画素までの画素を有為画素に書き換える工程、 を含むことを特徴とする図形ぬりつぶし方法。