JPH02269184A - 発光材料 - Google Patents

発光材料

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JPH02269184A
JPH02269184A JP1090936A JP9093689A JPH02269184A JP H02269184 A JPH02269184 A JP H02269184A JP 1090936 A JP1090936 A JP 1090936A JP 9093689 A JP9093689 A JP 9093689A JP H02269184 A JPH02269184 A JP H02269184A
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雅彦 北川
Yoshitaka Tomomura
好隆 友村
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健司 中西
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、発光材料に関する。さらに詳しくは、電子線
励起、光(紫外線)励起、電界励起、電流注入励起、プ
ラズマ(イオン)励起により青色光〜緑色光を発生する
発光材料に関する。
(ロ)従来の技術 従来の青色、緑色発光材料は、ZnO: Znが蛍光表
示管用の低速電子線励起用蛍光材料として、ZnS:A
g、Cl5ZnS:Cu、Alが特にブラウン管用の電
子線励起用発光材料として、またZnS:TmF3が薄
膜余光EL素子用の電界励起用発光材料として用いられ
る。
第14図にZnO: Zn蛍光体の発光スペクトルを、
第15図にZnS :Ag、CI、ZnS :Cu、A
l蛍光体の発光スペクトルを、第16図にZnS:Tm
Fsの発光スペクトルを示す。
(ハ)発明が解決しようとする課題 ZnO: Zn及びZnS:Ag、CIは、電子線ある
いは紫外線により励起されて、前者は格子間の亜鉛(Z
n)原子あるいは酸素(0)原子の空位がドナーとして
働き高効率の青緑色発光(発光ピーク波長5Q5nm)
を、また、後者は銀(Ag)がアクセプター、塩素(C
I)がドナーとして働き、いわゆるドナー・アクセプタ
一対発光機構で青色発光(発光ピーク波長450nm)
を示すことが知られている。ZnS :A1.Cuの緑
色発光材料等でもZn9 : Ag、Clと同様にAt
、Cuがドナー、アクセプターとして働く。
また、ZnS:TmFs青色発光材料にお0て、発光中
心のツリウム(Tm)は希土類元素であり、その4f内
殻電子準位間(l c ’a→″H,)での輻射遷移に
より485n−における狭帯域の青色発光を示すことが
知られている。
ZnO: Zn蛍光体における青緑色発光の波長(エネ
ルギー)は、ZnO中で格子間位置の亜鉛(Zn)また
は酸素(0) t@壬子間置の空位の形成するエネルギ
ー準位により一義的に定まる。同様に、ZnS :Ag
、CI、ZnS :Cu、Al蛍光体等における青色発
光、緑色発光の発光波長(エネルギー)も、銀、銅(A
g、Cu)アクセプター、および塩素(CI)ドナーの
形成するエネルギー単位とアクセプターとドナー間の距
離により決まるため、はぼ一義的となる。ZnCd5:
Cu、AlにおいてはZnとCd比によって緑色発光の
一部領域(530〜560+v)での波長を変化させる
ことのみが可能であるが発光輝度、効率が不十分である
。またZnS:TmFsの場合には、発光エネルギー(
波長)はTm原子内の4f内殻電子準位(lc4と’H
s間のエネルギー差)にょうて固有の値として一義的に
定まっている。このように、従来の青色、青緑色1発光
材料において発光波長(エネルギー)が個々の材料にお
いて固有の設計不可能な値であることは、色選択の範囲
を著しく制限することであり、実用上の観点から要求さ
れる発光波長(エネルギー)の選択性、制御性の点にお
いて、極めて不満足かつ不便であり、極めて大きな問題
であった。
この発明は、前記問題を解決するためになされたもので
あり、発光効率が高く、発光輝度が高く、かつ発光波長
の選択性と制御性を有する発光材料を提供しようとする
ものである。
(ニ)課題を解決するための手段 この発明によれば、Zn、Cd及びAtの硫化物固溶体
からなる発光材料が提供される。
この発明の発光材料は、立方晶あるいは六方晶の硫化亜
鉛・カドミウム・アルミニウムの固溶体であり、Zn−
Cd−Al −8あるいは式Z n r−+x−y+ 
Cd yA l xsで表記することができる。前記式
Z n l−+x”FI Cd FA I Its固溶
体は、Xが増加するに伴い発光波長が短くなり発光強度
が増加する傾向を呈し、xh’0.001以上かつ0.
1未満のものが好ましく、0.001未満では発光強度
が低(なり、0.1以上では発光波長が短くなり所望の
青色〜緑色の発光を呈さなくなるので好ましくない。
また、この固溶体は、前記式のyが増加するに伴い発光
波長が増加する傾向を呈し、yが0.299以上かつ0
.5未満のものが好ましく、この範囲外では発光波長が
所望の青色〜緑色光を呈さな(なるので好ましくない。
この発明の発光材料は、例えば原料のZn、Cd。
Al、Sを用いて真空蒸着法によって基板上に堆積して
膜状にするか又は沈澱法あるいは化学気相堆積法によっ
て粉体状に製造することができる。
前記基板上に耐着した膜状の発光材料は、例えば更にこ
の基板上に常法に従って電極等を形成して発光素子を構
成することができる。
前記粉体状の発光材料は、例えば一対の基板によって挟
持して層形成して発光層を構成することができる。
(ホ)作用 本発明の発光材料は、立方晶(あるいは六方晶)の結晶
構造を有し、ZnとCdの原子g6(2価)に対し、A
lの原子価が3価であることにより、Al成分量に応じ
た欠陥型の四配位固溶体が形成されることにより、Al
原子と欠陥格子が近接した格子位置に配されることによ
って発光中心が形成され、即ち実効的にはAlにより発
光中心が形成されることになる。より詳しく説明すると
、Zn−Cd−Al −S固溶体発光材料中においては
、Atは3価の原子価をとるため、ZnとCdの原子価
(2価)に対して、過剰原子価として作用し、実効的に
はZnとCd原子価を補う。即ち、Zn−Cd−Al−
5材料の形成においては蒸気圧の低いAt原子のために
、より蒸気圧が高く、結合力の小さいZnならびにCd
原子の濃度が、Zn−Cd−Al−5固溶体中でAl原
子濃度に応じてその濃度が低下し、Zn−Cd−Al 
−9固溶1体としての電気的中性が保たれる。従ってA
l原子はその最近接格子位置にZnならびにCd原子の
空位を配することにより、Zn−Cd−A I−S固体
が安定化される。従ってZn−Cd−Al−5化合物に
おいては、原子価補償のために導入れたZn空格子、C
cl洛子を伴って形成される同等のAl格子原子−Zn
空格子、A1格子原子−Cd空格子の対として極めて局
在化した中心を形成する。このAl格子原子−Zn空格
子、Al格子原子−Cd空格子から成るAl原子−空格
子対として形成された局在中心は格子半径と同程度に強
く局在するため、基底状態と励起状態間でZ n li
X”yl Cd yの組成y(y≧0.1895)に応
じたエネルギー差を形成し、フランク−コントン シフ
トを考慮しても2.25eV〜2.8eYに対応する青
色〜緑色発光材料を生ずることが可能となる。このZn
−Cd−Al −9発光材料においては、発光波長(エ
ネルギー)は上記の組成パラメータ(y)、CdとZn
の比、によっても変化させ得るが発光中心濃度の指標と
なる成分元素Alの割合(x)により変化させることが
できるため、発光波長(エネルギー)は必要に応じてX
パラメータあるいはyパラメーターのいづれによっても
設計できる。しかも、発光中心濃度は固溶体組成程度で
あるため、従来のドナー、アクセプタ一対型発光材料に
比較して極めて高濃度(2折径度以上)となっており、
かつ発光中心は局在型であるので発光中心間の相互作用
による発光効率低下は極めて少なく高輝度の青色〜緑色
発光に好適となる。
(へ)実施例 実施例1 第1の実施例を第1図、第2図を用いて示す。
第1図は本発明の発光材料を合成するための製造装置の
概略を示しである。第1図においてlは原料アルミニウ
ム(6N)の入ったルツボならびに加熱ヒーター、熱電
対、ならびに原料飛出制御用シャッターから成るアルミ
ニウム(Al)ソース、2は同様に原料亜鉛(6N)の
入ったルツボならびに加熱ヒーター、熱電対、ならびに
原料飛出制御用シャッターから成る亜鉛(Zn)ソース
、3は同様にカドミウム(6N)の入ったルツボならび
に加熱ヒーター、熱電対、ならびに原料飛出制御用シャ
ッターから成るカドミウム(6N)ソース、4は硫黄(
5N)の入ったルツボ、加熱ヒーター、熱電対、ならび
に原料飛出制御用シャッターから成る硫黄(S)ソース
であり、5は基板加熱ホルダー6上に設置された基板、
7は各原料ソースからの原料蒸気のビーム強度測定制御
用イオンゲージ、8は同じくビーム量、堆積速度測定と
制御用の膜厚モニター、9は基板前面の堆積制御用シャ
ッター、10は真空成長容器である。
このような構成からなる超高真空中に設置された蒸着装
置において、アルミニウム(Al)、亜鉛(Zn)、カ
ドミウム(Cd)、並びに硫黄(S)の原料ソースによ
り各々の加熱部分を独立に加熱し、飛出する原料アルミ
ニウム(A I )、亜鉛(Zn)、カドミウム(Cd
)、並びに硫黄(S)の相対割合を決定し、また基板5
上に堆積する材料組成を定めた。組成、構造はX線回折
、電子線回折により測定した。
発光材料膜合成の条件の例としては成長時の雰囲気圧力
10″@Torr、基板温度250℃、各原料蒸発源の
温度をそれぞれアルミニウムルツボ1050℃、亜鉛ル
ツボ350℃、カドミウムルツボ250℃、硫黄ルツボ
50℃と設定して、アルミニウム蒸気の分子線圧力を1
0°@Torr、亜鉛蒸気の分子線圧力をI X 10
−@Torr、カドミウム蒸気の分子線圧力を3 x 
10−’Torr、硫黄蒸気の分子線圧力を5×10−
”Torrとして成膜した。上記の条件下では材料の成
膜速度は1 am/ h rであり、1.IX 10 
!0am−’のAlが固溶し、Alの組成は約5xto
−’即ちZn−Cd−Al−5の組成(原子パーセント
)はZn:約34.50%、Cd : 15.00%、
Al:O,S%、 s : so、oo%(z n 1
−IE−IFc d FA 1 xs :x =0.0
1. y =0.30)である。この膜は反射電子線回
折で解析すると立方晶であり、格子定数は約5.480
人である。
本実施例の条件下では、亜鉛とカドミウムとアルミニウ
ムの相対割合、即ち組成y、xは亜鉛とカドミウムの組
成を定めるy値でほぼ定まる。亜鉛1−y、カドミウム
yとなる飛出条件に設定しておき、アルミニウムの組成
を飛出条件(蒸気温度)により約800℃から1100
℃に設定することによりX組成0.05%から1.0%
までを近似的に調整した。また、X組成1.0%から1
0%の間においては特に、亜鉛、カドミウム、アルミニ
ウム、の蒸発量を(個々の物質の堆積量)をあらかじめ
測定した上で設定する。このようにして、上記の成膜条
件下で製作した膜Zno、5sCdo、soA 1o、
o+Sは紫外線励起下(Hgランプの3651−光励起
下)で450nm(2,75el/)にピークを持つ発
光を示した。
また、同様にして成長時の雰囲気圧力10−”Torr
、基板温度250℃、各原料蒸発源の温度をそれぞれア
ルミニウムルツボ1G20℃、亜鉛ルツボ330℃、カ
ドミウムルツボ250℃、硫黄ルツボ5G℃と設定して
、アルミニウム蒸気の分子線圧力を8X 10−”To
rr、亜鉛蒸気の分子線圧力を8×10−’Torr、
カドミウム蒸気の分子線圧力を3×10−’Torr、
硫黄蒸気の分子線圧力を5XlO−”Torrとして成
膜した。この場合Zn−Cd−Al−8の組成(原子パ
ーセント)はZn:約32.0Q%、  Cd  : 
17.50%、Al:0.5%、  S  : 5Q、
00%(Z n +−x−yCd yA l xS :
 x =Q、Ql、  y =0.35)である。この
膜の格子定数は約5.51人である。この製膜条件下で
作製させた膜Zno、ta。Cdo、ss。
A l o。、。Sは紫外線励起下(Hgランプの36
5nm光励起下)で500nm (2,48eV)にピ
ークを持つ発光を示す。
また、同様にして雰囲気圧力10−”Torr、基板温
度250℃、各原料蒸発源の温度をそれぞれアルミニウ
ムルツボ950℃、亜鉛ルツボ330℃、カドミウムル
ツボ250℃、硫黄ルツボ50℃と設定して、アルミニ
ウム蒸気の分子線圧力を2 X l O−’Torr。
亜鉛蒸気の分子線圧力を8 X 、10−’Torr、
カドミウム蒸気の分子線圧力を3 X 10−’Tor
r、硫黄蒸気の分子線圧力を5 X 10 ””Tor
rとして成膜する。
Zn−Cd−Al−5膜の組成(原子パーセント)はZ
n:約31.00%、 Cd : 1g、90%、A 
l : 0.10%、 S : 50.00%(Z n
 +−x−yCd yA l xS : x EO,0
02,y =0.378)である。この膜も反射電子線
回折で解析すると立方晶であり、格子定数は約5.50
人である。この膜Z n o、mtoc d 0.3?
llA l o、aotsは紫外線励起下(Hgランプ
の365nm先励起下)で約550nm (約2.25
eV)にピークを持つ発光を示す。第2図には成膜した
Zn−Cd−Al −S発光材料の構造を示す。
第2図において20は基板として使用するZnS (立
方晶の)単結晶(100)面を持つウェーハであり、2
1は発光材料Zn−Cd−Al−8である。上の作製例
で示した範囲では、ZnSとZn−Cd−Al−5は格
子定数差がかなり大きいため(約1%〜2%の差であり
)、結晶構造は基板と同じ立方晶ではあるが、歪みの多
い膜が得られた。この組成においては例えばGaP (
格子定数5.45人)を基板として用いるとさらに結晶
性の良い単結晶膜となった。また、硫黄組成はカルコゲ
ン成分が一種類であるため、CdとAlの未添加の場合
の堆積量の半分(50%)をS量とおいた。その池の元
素の組成については、材料の化学分析、EPMA、S 
IMS等により上記の仕込み組成と比較した。
第3図には、横軸を発光波長、縦軸を発光強度として、
発光スペクトルの組成による違いを示しである。
発光ピーク波長は組成制御により、十分に選択性高く変
えることができた。
第4図に発光のピーク波長(ピークエネルギー)ならび
に発光のピーク強度のA1組成依存性を示す、Alの組
成が高い場合には、発光スペクトルは短波長(高エネル
ギー)側へのピークシフトを示す。A1が1%程度では
、Alが0.01%の場合と比較して約0.4eV高エ
ネルギー側へピークが移動する。従ってy組成による発
光エネルギーの変化(パーセント当りO,0LeV)よ
りもX組成による発光エネルギーの変化が大きく(パー
セント当りQ、4eV)X組成による発光エネルギー(
波長)制御が容易であり、また、At量の増加により発
光強度が増大するため、y組成を増大させ、しかもX組
成も増加させたAt組成の大きい材料は、高輝度発光材
料としてより好適である。
実施例2 本発明の第2の実施例を第5図に示す。第2の実施例は
多色の発光材料を形成する例である。第5図において、
30はハロゲン化学輸送法で作製したZnS透明単結晶
基板、31は基板Zno、stCd o、5w5A l
 o、oots発光材料層、32はZ n o、aro
c d o、5soA l o、osos発光材料層で
ある。本実施例においては変化した組成成分は実質的に
A1組成だけであり、31層のA1組成は0.1原子%
、32層のA1組成は1.5原子%であり、それぞれ発
光波長(エネルギー)は550rv+(2,25eY)
450n■(2,75eV)である。この2層型発光材
料においては膜厚を同一(0,5μm)として、発光波
長がA1組成のみにより変化しており、さらに、発光強
度は既に第4図に示したように、A1組成のみにより変
化することから、32層(Atが1.5原子%)では3
1層(Alが0.1原子%)の強度の10倍以上となる
ため、視感度を含めて発光輝度がほぼ同程度に設定でき
る。このような、発光波長の設計と波長強度の設計の独
立性は発光材料特にデイスプレィ用発光材料においては
特に重要である。本発明の発光材料を用いる場合、本実
施例に限らず、他の波長の組み合せにおいても、同様に
設計が可能であり、本発明の提供する材料により生じろ
際立った特徴である。この発光材料は透明ZnS基板上
に形成されており、基板側からも発光層側からも青色に
発光し紫外線、電子線あるいは粒子線などの励起による
発光装置に好適である。また、このような多層膜は、膜
構造と励起方法の工夫により容易に多色発光材料となる
ことは明らかであり、多色発光装置に有用である。
実施例3 本発明の第3の実施例を第6図に示す。
本実施例は、ガラス基板上に配設された多色発光材料の
別の実施例である。第6図においては40がガラス基板
、4KがZ n o、a*c d o、5tsA lo
、oars発光材料部分、42がZ n o、aroc
 d o、ss。
A 1 o。、。S発光材料部分であり発光波長は41
の部分が550nm、42の部分が450nmである。
青色〜緑色発光の2次元配置多色表示用材料である。本
発光材料層は電子線照射青色〜緑色発光材料として好適
である。
実施例4 本発明の第4の実施例を第7図に示す。
第7図において、50はガラス基板、51は透明導電層
(In−Sn−0)、52はZn−Cd−Al−5膜で
あり、同様に電子線照射用材料として好適である。
実施例5 本発明の第5の実施例を第8図に示す。
第8図において、60はプラスチック基板(塩化ビニル
板、ポリエチレン板、ポリスチレン板。
エポキシ板等)61は導電性プラスチック、62はZn
−Cd−Al−5である。
実施例6 本発明の第6の実施例を第9図に示す。
第9図において70はSt基板、71はZn−Cd−A
l−5発光材料層である。第5.第6の実施例はいずれ
ら青色〜緑色発光材料として好適である。
実施例7 本発明の第7の実施例を第10図に示す。
第1θ図において、80はガラス基板、81は透明導電
膜、82は粉末分散型Zn−Cd−Al−5発光材料、
83はガラススペーサーである。
本実施例は分散型AC駆動青青色縁色発光素子材料とし
て極めて適している。
実施例8 本発明の第8の実施例を第11図に示す。
第2図においては、90はZnS基板、91はZnS:
Atエピタキシャル単結晶層(導電層)。
92はZn−Cd−Al−8発光材料層、93はZnS
 :Asピタキシャル単結晶注入層、94゜95は電極
でありZn−Cd−Al−5発光層93は接合部に形成
される注入型青色発光素子発光層として好適である。
実施例9 第9の実施例を第12図に示す。
第12図において、100はガラス基板、!O1は透明
導電膜、104はZn−Cd−A l−9発光材料層、
103,105は絶縁膜、102゜106は電極である
。この図のような二重絶縁型のEL発売先素子構成おい
てZn−Cd−Al−8発光層は極めて高輝度な青色〜
緑色発光を呈する。
実施例10 第10の実施例を第13図に示す。
第13図において、111はGaAs基板。
112はZn−Cd−At−5発光材料層。
110.113は電極である。
本実施例に示すように、半導体と集積化された青色〜緑
色光発光素子用材料としても極め適している。
以上の各実施例から明らかなように、本発明によって提
供される発光材料Zn−Cd−Al −Sは、電子線、
光線、電界、電流注入、イオン線(プラズマ)等の種々
の励起下で使用できる青色〜緑色発光材料として実用上
極めて有用であることは明らかである。
(ト)発明の効果 本発明により提供される発光材料は次のような効果を有
する。
(1)発光中心濃度の指標となるAl成分濃度が組成程
度であり従来のドナー・アクセプタ対発光中心の濃度よ
り格段に高く、しかも単一成分であることにより発光特
性を容易に制御できるため、高輝度、高効率の青色〜緑
色発光を生じることが可能となる。
(2)発光波長(発光エネルギー)はCd成分。
A!酸成分両割合によって設計できるが、特にA!成分
元素のわずかな変化割合により広い範囲の波長を選べる
ため、発光波長は選択性が極めて高く容易になる。
(3)Al濃度により発光波長を変化させることができ
ることは、ZnとCdの相対割合を実質的に変化させな
いで、A1組成だけの変化により異なる発光波長の材料
が形成されるのを可能とするため多色発光材料の成膜が
極めて容易となる。
(4)A I濃度が変化することにより発光波長ととも
に発光強度を変化させることができるため、多色発光構
成において各発光の波長をCd並びにAtの組成で設定
し、発光強度を、例えば視感度を考慮した上での望まし
い相対強度となるように独立に設計することが可能とな
る。
以上見たように、本発明により提供されるZn−Cd−
At−5第四元固溶体発光材料は極めて高輝度、かつ高
効率で、発光波長、発光強度を設計可能な青色〜緑色光
の発光材料であり、オプトエレクトロニクス用基幹デバ
イスである青色発光素子、青色発光表示装置並びに高輝
度緑色発光を利用する発光表示装置の構成において実用
上極めて有用である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の発光材料の製造装置の説明図、第2
図は、ZnS基板上に形成されたZn−Cd−Al−5
発光材料を示す図、第3図は、発光材料の発光スペクト
ルを示す図、第4図は、発光材料の発光ピークエネルギ
ー差と発光ピーク強度のA1組成依存性を示す図、第5
図は、ZnS透明多結晶基板上の2色発光Zn−Cd−
Al−8積層材料を示す図、第6図は、ガラス基板上の
2色発光Zn−Cd−Al−5混合層を示す図、第7図
は、ガラス基板上のZn−Cd−Al −9発光層を示
す図、第8図は、プラスチック基板上のZn−Cd−A
 I−S発光層を示す図、第9図は、Si基板上のZn
−Cd−Al−5発光材料を示す図、第10図は、ガラ
ス基板上に挟持された粉末Zn−Cd−At−9発光材
料(分散型ELL光材料)を示す図、第11図は、電流
注入型発光材料としてのZn−Cd−Al −8材料を
示す図、第12図は、電界印加型発光材料としてのZn
−Cd−Al−9材料を示す図、第13図は、■族−V
族化合物半導体(G、aAs)基板との集積化された発
光材料Zn−Cd−Al −Sを示す図、第14図〜第
16図は、従来の発光材料の発光スペクトルを示した図
である。 1・・・・・・アルミニウムソース、 2・・・・・・亜鉛ソース、3・・・・・・カドミウム
ソース、4・・・・・・硫黄ソース、5・・・・・・基
板、6・・・・・・基板ホル°ダー ・・・・・・原料ビーム強度制御ゲージ、・・・・・・
堆積速度制御モニター ・・・・・・基板シャッター 0・・・・・・真空成長容器、20・・・・・・ZnS
基板、1−・=Zn−Cd−A I−S膜、 0・・・・・・ZnS透明多結晶基板、1−−Zn−C
d−Al−S膜(1)、2−Zn−Cd−At−5膜(
2)、 0・・・・・・ガラス基板、 1−−Zn−Cd−A I−S層(1)、2−Zn−C
d−Al−S層(2)、 3・・・・・・Al薄膜、50・・・・・・ガラス基板
、ト・・・・・透明導電膜、 2−−−4n−Cd−Al−8膜、 O・・・・・・プラスチック基板、 1・・・・・・導電性プラスチック層、2・・・・・Z
n−Cd−A l−S膜、0・・・・・・Si基板、 1−=Zn−Cd−At−S膜、 O・・・・・・ガラス基板、81・・・・・・透明導電
膜、82 ・−−−−−粉末Zn−Cd−Al−5分散
層、83・・・・・・スペーサー、90・・・・・・Z
nS基板、91・・・・・・ZnS:Alエピタキシャ
ル単結晶導電層、 92−−Zn−Cd−Al−S発光層、93・・・・・
・ZnS :Asエピタキシャル電流注入層、 94・・・・・・電極、95・・・・・・電極、100
・・・・・・ガラス基板、101・・・・・・透明導電
膜、102・・・・・・電極、103・・・・・・絶縁
膜、104−Zn−Cd−Al−S発光層、105・・
・・・・絶縁膜、106・・・・・・電極、110・・
・・・・電極、21・・・・・・GaAs基板、112
−−Zn−Cd−Al−S層、 113・・・・・・電極。 第 図 第 図 第 図 アノVミニウム組煎(XAl ) 第 図 第 図 笥 閃 第 図 胃 図 W!10図 笥 図 第14 図 第 図 梁長(nm)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、Zn、Cd及びAlの硫化物固溶体からなる発光材
    料。 2、Zn、Cd及びAlの硫化物固溶体が Zn_1_−_(_x_+_y_)Cd_yAl_xS
    (ただし0.001≦x<0.1でかつ0.299≦y
    ≦0.5)で表される化合物からなる請求項1の発光材
    料。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5711824A (en) * 1980-06-23 1982-01-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Preparation of semiconductive zinc sulfide
JPS58222218A (ja) * 1982-06-18 1983-12-23 Kajima Corp 地下構造物におけるコンクリ−ト土留支保工の施工装置

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