JPH02248851A - 試料水中の遊離塩素の測定方法 - Google Patents
試料水中の遊離塩素の測定方法Info
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- JPH02248851A JPH02248851A JP6958889A JP6958889A JPH02248851A JP H02248851 A JPH02248851 A JP H02248851A JP 6958889 A JP6958889 A JP 6958889A JP 6958889 A JP6958889 A JP 6958889A JP H02248851 A JPH02248851 A JP H02248851A
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 52
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 50
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 50
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 22
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 238000000605 extraction Methods 0.000 abstract description 11
- 239000011148 porous material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000003570 air Substances 0.000 abstract description 3
- 239000012080 ambient air Substances 0.000 abstract description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 abstract 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 6
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 4
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 3
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 hypochlorite ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- JSYGRUBHOCKMGQ-UHFFFAOYSA-N dichloramine Chemical compound ClNCl JSYGRUBHOCKMGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008235 industrial water Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- QEHKBHWEUPXBCW-UHFFFAOYSA-N nitrogen trichloride Chemical compound ClN(Cl)Cl QEHKBHWEUPXBCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 2
- 108700024827 HOC1 Proteins 0.000 description 1
- 101100178273 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) HOC1 gene Proteins 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEFCMHZIBXWEH-UHFFFAOYSA-N [Cl].ClO Chemical compound [Cl].ClO WAEFCMHZIBXWEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910000069 nitrogen hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008363 phosphate buffer Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は上下水道水、工業用水、河川水等に存在する
遊離塩素の測定方法に係り、特に結合塩素の影響を受け
ない試料水中の遊離塩素の測定方法に関する。
遊離塩素の測定方法に係り、特に結合塩素の影響を受け
ない試料水中の遊離塩素の測定方法に関する。
水の消毒には一般に塩素（０りあるいは次亜塩素酸ナト
リウム （Ｎａｃ！Ｏ）が用いられる。塩素あるいは次
亜塩素酸ナトリウムを水中に注入した場合、次亜塩素酸
（ＨＣｊＯ）および次亜塩素酸イオン （ＣｊＯ−）を
生じる。
リウム （Ｎａｃ！Ｏ）が用いられる。塩素あるいは次
亜塩素酸ナトリウムを水中に注入した場合、次亜塩素酸
（ＨＣｊＯ）および次亜塩素酸イオン （ＣｊＯ−）を
生じる。
塩素の場合は式（１１，（２１の反応を行う。
ＣＺ ｔ ＋ Ｈｚ Ｏ： ＨＣＺ Ｏ＋
Ｈ（Ｊ −・−・・−・・・・−−−・イ１
）ＨＣｊＯ：＋αＯ−＋Ｈ” −・・・−−一−
−−・−・−・・−（２）次亜塩素酸ナトリウムの場合
は式＋３１． （４１の反応を行う。
Ｈ（Ｊ −・−・・−・・・・−−−・イ１
）ＨＣｊＯ：＋αＯ−＋Ｈ” −・・・−−一−
−−・−・−・・−（２）次亜塩素酸ナトリウムの場合
は式＋３１． （４１の反応を行う。
ＮａＣ７０＋ Ｈｘ Ｏ；’ ＨαＯ＋ Ｎａ ＯＨ
−−−−−−−−−＝（３１ＨＣ７０：： Ｃｊ Ｏ−
＋ Ｈ” −−−−−−−−−−−−−−−−−
＋４１ここで塩素１次亜塩素酸および次亜塩素酸ナトリ
ウムを総称して遊離塩素といい、これらは強い殺菌力を
持つ。
−−−−−−−−−＝（３１ＨＣ７０：： Ｃｊ Ｏ−
＋ Ｈ” −−−−−−−−−−−−−−−−−
＋４１ここで塩素１次亜塩素酸および次亜塩素酸ナトリ
ウムを総称して遊離塩素といい、これらは強い殺菌力を
持つ。
実際に殺菌を要する上下水道水、工業用水および河川水
等にはアンモニア （ＮＨ３）が含まれており、式＋５
１． （６）、 （？）で示されるようにモノクロラミ
ン （ＮＨ冨ＣＺ）、ダイクロラミン（ＮＨＣ７よ）オ
ヨヒトリクロラミン＜ＮＣＪｓ）が生成する。
等にはアンモニア （ＮＨ３）が含まれており、式＋５
１． （６）、 （？）で示されるようにモノクロラミ
ン （ＮＨ冨ＣＺ）、ダイクロラミン（ＮＨＣ７よ）オ
ヨヒトリクロラミン＜ＮＣＪｓ）が生成する。
Ｎ Ｈｚ ＋ Ｈ０Ｃｔ−Ｎ ＨｘＣＩ ＋ ＨｔＯ−
・・−−−−−−−（５）Ｎ Ｈ，（Ｊ ＋Ｈ０ＣＪ−
Ｎ ＨＣｊｔ ＋ Ｈ！Ｏ−・−−−−（ａ）Ｎ １（
Ｃｊｔ ＋ＨＯＣ１→ＮＣ１ｚ ＋Ｈ＊Ｏ（？）これら
は結合塩素とよばれ、モノクロラミン、グイクロラミン
は殺菌力を有するが、トリクロラミンは殺菌力がない。
・・−−−−−−−（５）Ｎ Ｈ，（Ｊ ＋Ｈ０ＣＪ−
Ｎ ＨＣｊｔ ＋ Ｈ！Ｏ−・−−−−（ａ）Ｎ １（
Ｃｊｔ ＋ＨＯＣ１→ＮＣ１ｚ ＋Ｈ＊Ｏ（？）これら
は結合塩素とよばれ、モノクロラミン、グイクロラミン
は殺菌力を有するが、トリクロラミンは殺菌力がない。
さて、この殺菌処理における塩素の注入量は、例えば水
道法では「給水せんにおけろ水が、遊離残留塩素をｏ、
ｘｐｐｍ以上保持するように塩素消毒すること」と義務
付けられているので、遊離塩素の監視は不可欠である。
道法では「給水せんにおけろ水が、遊離残留塩素をｏ、
ｘｐｐｍ以上保持するように塩素消毒すること」と義務
付けられているので、遊離塩素の監視は不可欠である。
この遊離塩素の測定には一般にポーラログラフ法が用い
られ、試薬式と無試薬式とがあるが、試薬および試薬ポ
ンプが不要で保守の必要性がかなり少ないことから、最
近では無試薬式が多く用いられる。
られ、試薬式と無試薬式とがあるが、試薬および試薬ポ
ンプが不要で保守の必要性がかなり少ないことから、最
近では無試薬式が多く用いられる。
この測定原理を説明する。試料水中に回転電極（金電極
）と対極（銀電極）とを浸漬させ、この間に適当な電圧
を印加するとｉｌＩ′ｇ＆極上では、式（８）。
）と対極（銀電極）とを浸漬させ、この間に適当な電圧
を印加するとｉｌＩ′ｇ＆極上では、式（８）。
（９）の反応
Ａｇ−ｌＡｇ’ ＋ ｅ −−−＝−−−−−（８１Ａ
ｇ” ＋ ＯＣｊ −＝ＡｇＣ１＋ ’Ａ Ｏｔ −−
−−（９１金電極上では、弐Ｑｌの反応 ＨＯＣｆ ＋ ｅ −−％ Ｈ，＋ ０（Ｊ−−・−−
−−−０１が生じ、対極から回転電極へ向かって試料水
中の遊離塩素濃度に比例した電流が流れる。この電流を
測定して遊離塩素濃度が求められる。
ｇ” ＋ ＯＣｊ −＝ＡｇＣ１＋ ’Ａ Ｏｔ −−
−−（９１金電極上では、弐Ｑｌの反応 ＨＯＣｆ ＋ ｅ −−％ Ｈ，＋ ０（Ｊ−−・−−
−−−０１が生じ、対極から回転電極へ向かって試料水
中の遊離塩素濃度に比例した電流が流れる。この電流を
測定して遊離塩素濃度が求められる。
従来のポーラログラフ法による遊離塩素の測定において
は、遊離塩素と結合塩素の還元電圧が近いため遊離塩素
のみを検出することは難しく、結合塩素の影響を受ける
という問題があった。特に結合塩素の感度は遊離塩素の
約×であるのでその影響は大きい。
は、遊離塩素と結合塩素の還元電圧が近いため遊離塩素
のみを検出することは難しく、結合塩素の影響を受ける
という問題があった。特に結合塩素の感度は遊離塩素の
約×であるのでその影響は大きい。
特に最近は河川、湖沼等の環境水の汚染が進み、アンモ
ニア濃度が高くなっていることから結合塩素の生成量が
多い、このため結合塩素に妨害されて遊離塩素を正確に
測定できず、殺菌が十分に行われているかどうかが把握
できないという問題があった。
ニア濃度が高くなっていることから結合塩素の生成量が
多い、このため結合塩素に妨害されて遊離塩素を正確に
測定できず、殺菌が十分に行われているかどうかが把握
できないという問題があった。
この発明は上述の点に鑑みてなされ、その目的は試料水
中の遊離塩素に選択的なセンサを用いることにより、結
合塩素による妨害のない遊離塩素の測定方法を提供する
ことにある。
中の遊離塩素に選択的なセンサを用いることにより、結
合塩素による妨害のない遊離塩素の測定方法を提供する
ことにある。
本発明者らはこの問題を解決するために鋭意研究を重ね
た結果、半導体式ガスセンサが試料水中の遊離塩素に応
答することを見出し、この知見に基づいて本発明をなす
に至った。
た結果、半導体式ガスセンサが試料水中の遊離塩素に応
答することを見出し、この知見に基づいて本発明をなす
に至った。
上述の目的はこの発明によれば、次亜塩素酸を含む試料
水をキャリアガスと接触させ次いでキャリアガスを半導
体式ガスセンサを用いて測定することにより達成される
。
水をキャリアガスと接触させ次いでキャリアガスを半導
体式ガスセンサを用いて測定することにより達成される
。
試料水とキャリアガスを接触させる方法とじては、
■多孔質チューブを試料水中に浸漬し、このチューブの
中にキャリアガスを通じるチュービング法、 ■試料水上部の気相部で接触させるヘッドスペース法、 ■試料水中に気体を吹き込むバブリング法、などがある
。
中にキャリアガスを通じるチュービング法、 ■試料水上部の気相部で接触させるヘッドスペース法、 ■試料水中に気体を吹き込むバブリング法、などがある
。
半導体式ガスセンサは、電気絶縁性基板の表面にＩｎＢ
Ｏ３を主成分とする金属酸化物半導体薄膜を形成したも
ので、この半導体薄膜の抵抗変化によりガス成分の検出
が行われる。
Ｏ３を主成分とする金属酸化物半導体薄膜を形成したも
ので、この半導体薄膜の抵抗変化によりガス成分の検出
が行われる。
試料水中の次亜塩素酸、結合塩素はともにキャリアガス
との接触によりキャリアガス中に移行する。半導体式ガ
スセンサは結合塩素には応答しない、試料水からキャリ
アガス中に移行した次亜塩素酸は、そのままの形である
いは分解した状態で半導体式ガスセンサの抵抗を変化さ
せるものと推定される。
との接触によりキャリアガス中に移行する。半導体式ガ
スセンサは結合塩素には応答しない、試料水からキャリ
アガス中に移行した次亜塩素酸は、そのままの形である
いは分解した状態で半導体式ガスセンサの抵抗を変化さ
せるものと推定される。
以下にこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図はこの発明の実施例に係る装置の構成を示す配置
図である。第１図において、１は清浄な除湿空気を得る
ための活性炭とシリカゲルが充填されたフィルタ、２お
よび３はそれぞれ乾燥ガス、キャリアガス用の流量計、
４は抽出槽で内部に試料水があり、さらに試料水中には
多孔質チューブ５が浸漬されている。この多孔質チュー
ブ５は例えば孔径０．２〜５．Ｏｎ程度で、気孔率約２
０〜８０％程度の連続微気孔と疎水性を有する連続多孔
質四弗化エチレン樹脂製のものである。６は気相部の遊
離塩素を検出するための半導体式ガスセンサを内蔵した
測定チェンバ、７は半導体式ガスセンサの出力を記録す
るためのレコーダ、８は乾燥ガスおよびキャリアガスを
吸引するためのポンプである。
図である。第１図において、１は清浄な除湿空気を得る
ための活性炭とシリカゲルが充填されたフィルタ、２お
よび３はそれぞれ乾燥ガス、キャリアガス用の流量計、
４は抽出槽で内部に試料水があり、さらに試料水中には
多孔質チューブ５が浸漬されている。この多孔質チュー
ブ５は例えば孔径０．２〜５．Ｏｎ程度で、気孔率約２
０〜８０％程度の連続微気孔と疎水性を有する連続多孔
質四弗化エチレン樹脂製のものである。６は気相部の遊
離塩素を検出するための半導体式ガスセンサを内蔵した
測定チェンバ、７は半導体式ガスセンサの出力を記録す
るためのレコーダ、８は乾燥ガスおよびキャリアガスを
吸引するためのポンプである。
測定チェンバ６に内蔵された半導体式ガスセンサの詳細
が第２図（ａ）、（ｂｌに示される。半導体式ガスセン
サは電気絶縁性基板、例えばアルミナ基板１１、アルミ
ナ基板１１の表面に蒸着により形成されたＩｎｚＯｉを
主成分とする金属酸化物半導体薄膜１２、半導体薄膜１
２の抵抗変化を測定するｐｔｔ電極１３Ａ。
が第２図（ａ）、（ｂｌに示される。半導体式ガスセン
サは電気絶縁性基板、例えばアルミナ基板１１、アルミ
ナ基板１１の表面に蒸着により形成されたＩｎｚＯｉを
主成分とする金属酸化物半導体薄膜１２、半導体薄膜１
２の抵抗変化を測定するｐｔｔ電極１３Ａ。
１３Ｂ、アルミナ基板１１の裏面に形成された気相中の
水分、油脂骨による感度の経時的劣化を避けるためのｐ
ｔ膜上ヒータ１４より構成される。
水分、油脂骨による感度の経時的劣化を避けるためのｐ
ｔ膜上ヒータ１４より構成される。
第１図、第２図に示した装置において、遊離塩素の測定
が如何に行われるかについて以下に述べる。
が如何に行われるかについて以下に述べる。
ポンプ８によって周囲空気が装置内に吸引される。この
空気はフィルタ１で除湿、清浄化され、一方は流量計２
を通って乾燥ガスに、もう一方は流量計３を通ってキャ
リアガスになる。キャリアガスは抽出槽４内の試料水中
に浸漬された多孔質チューブ５を経由して測定チェンバ
６に至るが、多孔質チューブ５を通過するときに試料水
中の遊離塩素が多孔質チューブ５の微気孔を透過し、キ
ャリアガス中に拡散してくる。
空気はフィルタ１で除湿、清浄化され、一方は流量計２
を通って乾燥ガスに、もう一方は流量計３を通ってキャ
リアガスになる。キャリアガスは抽出槽４内の試料水中
に浸漬された多孔質チューブ５を経由して測定チェンバ
６に至るが、多孔質チューブ５を通過するときに試料水
中の遊離塩素が多孔質チューブ５の微気孔を透過し、キ
ャリアガス中に拡散してくる。
このキャリアガス中には遊離塩素だけではなく、水蒸気
や結合塩素も拡散してくる。多孔質チューブ５から測定
チェンバ６に至る配管の温度が低ければこの水蒸気は凝
縮し、液滴になる。このようにして液滴ができれば、多
孔質チューブ５で抽出した遊離塩素が液滴部分で再び気
液平衡を起こし気相部の遊離塩素濃度が変化するから、
測定誤差の原因になる。この装置では水蒸気が凝縮しな
いように、多孔質チューブ５から測定チェンバ６に至る
配管の途中で、流量針２を経由してきた乾燥ガスと混合
している。この混合する箇所は多孔質チューブ５になる
べく近いところが望ましい。
や結合塩素も拡散してくる。多孔質チューブ５から測定
チェンバ６に至る配管の温度が低ければこの水蒸気は凝
縮し、液滴になる。このようにして液滴ができれば、多
孔質チューブ５で抽出した遊離塩素が液滴部分で再び気
液平衡を起こし気相部の遊離塩素濃度が変化するから、
測定誤差の原因になる。この装置では水蒸気が凝縮しな
いように、多孔質チューブ５から測定チェンバ６に至る
配管の途中で、流量針２を経由してきた乾燥ガスと混合
している。この混合する箇所は多孔質チューブ５になる
べく近いところが望ましい。
乾燥ガスと混合されたキャリアガスは、ついで測定チェ
ンバ６に導かれて半導体式ガスセンサで遊離塩素濃度が
測定され、その出力はレコーダ７に記録される。
ンバ６に導かれて半導体式ガスセンサで遊離塩素濃度が
測定され、その出力はレコーダ７に記録される。
第３図に検量線が示される。測定条件は乾燥ガス流量３
０ｃａｌ ／ ｓｉｎ、キャリアガス流量１２０ａＺ／
ｓｉｎで、多孔質チューブは最大孔径２．０ｍ、気孔率
５０％、内径２．０鶴、肉厚０．４鶴、長さ６００ｆｌ
のものである。試料水には次亜塩素酸ナトリウムを適宜
希釈し、リン酸緩衝液でｐＨ−６，９３に調整したもの
を用いた０次亜塩素酸濃度に応じたセンサ出力が得られ
ている。
０ｃａｌ ／ ｓｉｎ、キャリアガス流量１２０ａＺ／
ｓｉｎで、多孔質チューブは最大孔径２．０ｍ、気孔率
５０％、内径２．０鶴、肉厚０．４鶴、長さ６００ｆｌ
のものである。試料水には次亜塩素酸ナトリウムを適宜
希釈し、リン酸緩衝液でｐＨ−６，９３に調整したもの
を用いた０次亜塩素酸濃度に応じたセンサ出力が得られ
ている。
また結合塩素の妨害についてはモノクロラミン４．９ｒ
ｎｇ／ｌ、ダイクロラミン７．０ｍｇ／ｌの溶液をそれ
ぞれ調整し、上記装置で測定したところ、半導体センサ
の出力は全く得られず、これらの成分には妨害されない
ことが明らかになった。
ｎｇ／ｌ、ダイクロラミン７．０ｍｇ／ｌの溶液をそれ
ぞれ調整し、上記装置で測定したところ、半導体センサ
の出力は全く得られず、これらの成分には妨害されない
ことが明らかになった。
次亜塩素酸はその一部が次亜塩素酸イオンと水素イオン
の両イオンに解離する。第４図の実線がこの解離の状態
を理論的に示すもので、ｐＨ＝６以下では大部分が次亜
塩素酸として、ｐＨ−９以上では逆に大部分が次亜塩素
酸イオンとして存在する。
の両イオンに解離する。第４図の実線がこの解離の状態
を理論的に示すもので、ｐＨ＝６以下では大部分が次亜
塩素酸として、ｐＨ−９以上では逆に大部分が次亜塩素
酸イオンとして存在する。
第４図中のＯ印は塩素として０．６５ｍｇ／ｌの次亜塩
素酸ナトリウム溶液のｐＨを変化させて試料水とし、こ
れを測定したときの半導体式ガスセンサの電圧出力を第
３図の検量線を用いて濃度換算してＨＯＣ／の存在割合
を実験的に求めたものである。半導体式ガスセンサを使
用して得られた実験値は次亜塩素酸の存在割合を示す理
論値（実線）と非常によく近似していることから、半導
体式ガスセンサは試料水中の次亜塩素酸に応答している
ことがわかる。
素酸ナトリウム溶液のｐＨを変化させて試料水とし、こ
れを測定したときの半導体式ガスセンサの電圧出力を第
３図の検量線を用いて濃度換算してＨＯＣ／の存在割合
を実験的に求めたものである。半導体式ガスセンサを使
用して得られた実験値は次亜塩素酸の存在割合を示す理
論値（実線）と非常によく近似していることから、半導
体式ガスセンサは試料水中の次亜塩素酸に応答している
ことがわかる。
以上、試料水中の遊離塩素の抽出方法としてチュービン
グ法を用いた測定方法について説明してきたが、この発
明の抽出方法はチュービング法に限定されるものではな
く、試料水中の遊離塩素を気相中に拡散させ抽出する方
法であればその方法を問わない。
グ法を用いた測定方法について説明してきたが、この発
明の抽出方法はチュービング法に限定されるものではな
く、試料水中の遊離塩素を気相中に拡散させ抽出する方
法であればその方法を問わない。
第５図には、抽出方法としてヘッドスペース法を用いた
ときの装置構成が示される。抽出槽４内の試料水中の遊
離塩素は水面から気相部に拡散してくるので、第１図に
示した装置と同様に試料水中の遊離塩素が測定される。
ときの装置構成が示される。抽出槽４内の試料水中の遊
離塩素は水面から気相部に拡散してくるので、第１図に
示した装置と同様に試料水中の遊離塩素が測定される。
このヘッドスペース法は多孔質チューブを使用していな
いので構成が簡単でチューブ表面の汚れによる経時変化
がないという利点がある。
いので構成が簡単でチューブ表面の汚れによる経時変化
がないという利点がある。
第６図には抽出方法としてバブリング法を用いたときの
装置構成が示される。ポンプ８でガスを吸引すると抽出
槽４内は減圧になるから、ポールデイフユーザ２１から
キャリアガスが試料水中に吹き込まれ、試料水中の遊離
塩素は気相部に抽出される。したがって第１図に示した
装置と同様に試料水中の遊離塩素が測定される。このバ
ブリング法はヘッドスペース法と同様にチューブ表面の
汚れによる経時変化がないという利点があり、さらに試
料水中に強制的にキャリアガスを吹き込んでいることか
ら応答速度が速く、低濃度まで測定可能であるという利
点がある。
装置構成が示される。ポンプ８でガスを吸引すると抽出
槽４内は減圧になるから、ポールデイフユーザ２１から
キャリアガスが試料水中に吹き込まれ、試料水中の遊離
塩素は気相部に抽出される。したがって第１図に示した
装置と同様に試料水中の遊離塩素が測定される。このバ
ブリング法はヘッドスペース法と同様にチューブ表面の
汚れによる経時変化がないという利点があり、さらに試
料水中に強制的にキャリアガスを吹き込んでいることか
ら応答速度が速く、低濃度まで測定可能であるという利
点がある。
この発明によれば、次亜塩素酸を含む試料水をキャリア
ガスと接触させ次いでキャリアガスを半導体式ガスセン
サを用いて測定するので、試料水中の結合塩素の影響を
受けずに試料水中の次亜塩素酸のみを正確に測定するこ
とが可能となる。
ガスと接触させ次いでキャリアガスを半導体式ガスセン
サを用いて測定するので、試料水中の結合塩素の影響を
受けずに試料水中の次亜塩素酸のみを正確に測定するこ
とが可能となる。
第１図はこの発明の実施例に係る装置の構成を示す配置
図、第２図はこの発明の実施例に係る半導体式ガスセン
サを示し第２図（ａｌはその斜視図、第２図（ｂｌはそ
の断面図、第３図はこの発明の実施例に係る検量関係を
示す線図、第４図はＨｏｔ：Ｊ存在割合のｐＨ依存性に
つき理論値（実ｖＡ）と実験値（○）を対比して示す線
図、第５図はこの発明の異なる実施例に係る装置の構成
を示す配置図、第６図はこの発明のさらに異なる実施例
に係る装置の構成を示す配置図である。 １：フィルタ、４：抽出槽、５：多孔質チューブ、６：
測定チェンバ、７：レコーダ、８：ポンプ、１１：アル
ミナ基板、１２：半導体薄膜、１３Ａ。 １３Ｂ：Ｐｔ膜電極、１４ ： Ｐｔ膜上ヒータ２１：
ボールデ（ａ） ／３ ／４ 第２区 シ欠′豐τｌ素醒慮ハ霞（ａ３−ｄ）ｆノ第３ 図 ５各液 Ｉ−１
図、第２図はこの発明の実施例に係る半導体式ガスセン
サを示し第２図（ａｌはその斜視図、第２図（ｂｌはそ
の断面図、第３図はこの発明の実施例に係る検量関係を
示す線図、第４図はＨｏｔ：Ｊ存在割合のｐＨ依存性に
つき理論値（実ｖＡ）と実験値（○）を対比して示す線
図、第５図はこの発明の異なる実施例に係る装置の構成
を示す配置図、第６図はこの発明のさらに異なる実施例
に係る装置の構成を示す配置図である。 １：フィルタ、４：抽出槽、５：多孔質チューブ、６：
測定チェンバ、７：レコーダ、８：ポンプ、１１：アル
ミナ基板、１２：半導体薄膜、１３Ａ。 １３Ｂ：Ｐｔ膜電極、１４ ： Ｐｔ膜上ヒータ２１：
ボールデ（ａ） ／３ ／４ 第２区 シ欠′豐τｌ素醒慮ハ霞（ａ３−ｄ）ｆノ第３ 図 ５各液 Ｉ−１
Claims (1)
- １）次亜塩素酸を含む試料水をキャリアガスと接触させ
次いでキャリアガスを半導体式ガスセンサを用いて測定
することを特徴とする試料水中の遊離塩素の測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6958889A JPH0778478B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 試料水中の遊離塩素の測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6958889A JPH0778478B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 試料水中の遊離塩素の測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02248851A true JPH02248851A (ja) | 1990-10-04 |
| JPH0778478B2 JPH0778478B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=13407139
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6958889A Expired - Lifetime JPH0778478B2 (ja) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | 試料水中の遊離塩素の測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0778478B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04204242A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-24 | Osaka Prefecture | 溶液中のオゾンの分析装置 |
-
1989
- 1989-03-22 JP JP6958889A patent/JPH0778478B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04204242A (ja) * | 1990-11-30 | 1992-07-24 | Osaka Prefecture | 溶液中のオゾンの分析装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0778478B2 (ja) | 1995-08-23 |
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