JPH02285260A - 試料水中の遊離塩素の測定装置 - Google Patents
試料水中の遊離塩素の測定装置Info
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- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
遊離塩素の測定装置に係り、・特に結合塩素の影響を受
け、ない試料水中の遊離塩素の測定装置に関する。
ナトリウム(NaC10)が用いられる。塩素あるいは
次亜塩素酸ナトリウムを水中に注入した場合、次亜塩素
酸(HCl0 )および次亜塩素酸イオン(Cl0″″
)を生じる。
・・・・・・・・・・・・・・・・U)HC10m+
Cl0−+H+ ・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・(2)次亜塩素酸す) IJウムの場
合は式(3) 、 (4)の反応を行う。
)HClodClo +H・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・(4)ここで塩素1次亜塩素酸
および次亜塩素酸す) IJウムを総称して遊離塩素と
いい、これらは強い殺菌力を持つ。
等にはアンモニア(NHs )が含まれており、式(5
) 、 (6) 、(7)で示されるようにモノクロラ
ミン(NHz C1) 、ダイクロラミン(NHCl、
)およびトリクロラミン(NC13)が生成する。
・・・・・・・・・・・6)NHs C1+HOC1→
NHCl 2 + HmO凹四囲(6)NHCh+HO
C14NCI a +H20・四囲・・・(7)これら
は結合塩素とよばれ、モノクロラミン、ダイクロラミン
は殺菌力を有するが、トリクロラミンは殺菌力がない。
道法では「給水せんにおけろ水が、遊離残留塩素を0.
lppm以上保持するように塩素消毒すること」と義務
付けられているので、遊離塩素の監視は不可欠である。
られ、試薬式と無試薬式とがあるが、試薬および試薬ポ
ンプが不要で保守の必要性がかなり少ないことから、最
近では無試薬式が多く用いられる。
)と対極(銀電極)とを浸漬させ、この間に適当な電圧
を印加すると銀電極上では、式(8]。
・・・(8)Ag +OC1″″→AgC1+MO2
・・・・・・四囲・・・・四・・(9)金電極上では、
式(10)の反応 HOC,1+e +3AHz+0C1−=凹曲・(1
0)が生じ、対極から回転電極へ向かって試料水中の遊
離塩素濃度に比例した電流が流れる。この電流を測定し
て遊離塩素濃度が求められる。
は、遊離塩素と結合塩素の還元電圧が近いため遊離塩素
のみを検出することは難しく、結合塩素の影響毫受ける
という問題があった。特に結合塩素の感度は遊離塩素の
約λであるのでその影響は大きい。
ニア濃度が高くなっていることから結合塩素の生成量が
多い。このため結合塩素に妨害されて遊離塩素を正確に
測定できず、殺菌が十分に行われているかどうかが把握
できないという問題がありた。
ガス中に移行させて、キャリアガスを半導体式ガスセン
サを用いて測定することを試みこの方法を用いて結合塩
素の影響を受けることなく遊離塩素を検出するに至った
。
、チェーンング法、ヘッドスペース法。
ガス中に透過させるためにキャリアガス中の水蒸気圧が
高く、このために装置の配管などの内壁に水分が凝結し
遊離塩素の再浴解、再吐出をおこし正確な遊離塩素の測
定かできないという問題があった。
置の内壁に水分が凝結しないようにして、試料水中の遊
離塩素を気相中に移行させて測定する試料水中の遊離塩
素の測定装置を提供することにある。
相に移行させて行う遊離塩素の測定装置において、 (1)試料水中の遊離塩素をキャリアガス中に移行させ
る気相抽出手段15と、 伐)気相抽出された塩素を含むキャリアガスの調湿手段
16と、 (3)キャリアガス中に透過した遊離塩素量を検出する
半導体式検出手段17とを備えることにより達成される
。
中にキャリアガスを通じるチュービング法、 ■試料水上部の気相部で接触させるヘッドスペース法、 ■試料水中に気体を吹き込むバブリング法、などがある
。
Osを主成分とする金属酸化物半導体薄膜を形成したも
ので、この半導体薄膜の抵抗変化によりガス成分の検出
が行われる。また、キャリアガスの調湿手段としては、 ■乾燥ガスを混合する方式 ■高分子膜により除湿する方式 ■加温して相対湿度を低下させる方式 試料水中の次亜塩素酸、結合塩素はともにキャリアガス
との接触によりキャリアガス中に移行する。半導体式ガ
スセンサは結合塩素には応答しない。試料水からキャリ
アガス中に移行した次亜塩素酸は、そのままの形である
いは分解した状態で半導体式ガスセンサの抵抗を変化さ
せるものと推定される。キャリアガス中に移行する次亜
塩素酸濃度は試料水中の次亜塩素酸濃度に比例する。調
湿を行うとキャリアガス中の水蒸気が飽和蒸気圧以下に
なるので測定装置の内壁に水分が凝結することがなくな
る。
る。M1図において、1は清浄な除湿空気を得るための
活性炭とシリカゲルが充填されたフィルター、2および
3はそれぞれ乾燥ガス、キャリアガス用の流量計、4は
抽出槽で内部に試料水があり、さらに試料水中には多孔
質チューブ5が浸漬されている。この多孔質チューブ5
は例えば孔径0.2〜5.0pm程度で、気孔率約加〜
80%程度の連続微気孔と疎水住を有する連続多孔質四
弗化エチレン樹脂製等のものである。6は気相であるキ
ャリアガスに移行した遊離塩素を検出するための半導体
式ガスセンサーを内蔵した測定チャンバー、7は半導体
式ガスセンサーの出方を記録するためのレコーダー、8
は乾燥ガスおよびキャリアガスを吸引するためのポンプ
である。
詳細が第2図に示される。半導体式ガスセンサーは電気
絶縁性基板1例えばアルミナ基板11、アルミナ基板1
1の表面に蒸着により形成されたIn20gを主成分と
する金属酸化物半導体薄膜12゜毫3t3 半導体薄膜12の抵抗変化を測定するPt膜電極lオー
アルミナ基板11の裏面に形成された気相中の水分。
ヒータ−14より構成される。
して遊離塩素の測定が行なわれるかについて述べる。
空気はフィルター1で除湿、清浄化され、一方は流量計
2を通って乾燥ガスに、もう一方は流量計3を通ってキ
ャリアガスになる。流量計2の回路が調湿手段16であ
るキャリアガスは抽出槽4内の試料水中に浸漬された多
孔質チューブ5を経由して測定チャンバー6に至るが、
多孔質チューブ5を通過するときに試料水中の遊離塩素
が多孔質チューブ5の微気孔を透過し、キャリアガス中
に拡散してくる。抽出槽4と多孔質チューブ5は気相抽
出手段15である。
素や水蒸気も拡散してくる。多孔質チューブ5から測定
チャンバー6に至る配管の温度が低ければこの水蒸気は
凝縮し、液滴になる。このようにして液滴ができれば、
多孔質チューブ5で抽出した遊離塩素が液滴部分で再び
気液平衡を起こしキャリアガス中の遊離塩素濃度が変化
するから、測定誤差の皿回になる。また半導体式ガスセ
ンサーはキャリアガスが高湿度であると感度の劣化が速
いため、キャリアガスは低湿度であることが望ましい。
ーブ5から測定チャンバー6に至る配管の途中で、流量
計2を経由してきた乾燥ガスと混合して相対湿度を低下
させている。この混合する箇所は多孔質チューブ5にな
るべく近いところが望ましい。キャリアガスと乾燥ガス
の混合比率が変動すると、もちろんガス中の遊離塩素濃
度も変動するが、混合比率が一定になるようにしておけ
ば問題はない。また乾燥ガスと混合することによって遊
離塩素濃度は低下するが、半導体式ガスセンサーは高感
度であるため問題とならない。
は、ついで測定チャンバー6に導かれて半導体式ガスセ
ンサーで遊離塩素濃度が測定され、その出力はレコーダ
ー7に記碌される。半導体ガスセンサーを内蔵する測定
チャンバ6が半導体式検出手段となる。
0 ml/m 、キャリアガス流量120W−で、多孔
質チューブは最大孔径2. Op ’F” e気孔率5
0%、内径2.0鶴、肉厚Q、411m、長さ600龍
のものである。
ン酸緩衝液でpH=6.93に調整したものを用いた。
mg/ 1、ダイクロラミン7、0 mg/ I の
溶液をそれぞれ調整し、上記装置で測定したところ、半
導体センサーの出力は全く得られず、これらの成分には
妨害されないことが明らかになった。
の両イオンに解離する。第4図の実線がこの解漸の状態
を理論的に示すもので、pH=6以下では大部分が次亜
塩素酸として、PH=9以上では逆に大部分が次亜塩素
酸イオンとして存在する。第4図中の○印は塩素として
0.65 mg/ lの次亜塩素酸す) IJウム浴液
のpHを変化させて試料水とし、これを測定したときの
半導体式ガスセンサの電圧出力を第3図の検量線を用い
て濃度換算してl0CIの存在割合を実験的に求めたも
のである。半導体式ガスセンサを使用して得られた実験
恒は次亜塩素酸の存在割合を示す論理値(実線)と非常
によく近似していることから、半導体式ガスセンサは試
料水中の次亜塩素酸に応答していることがわかる。
べたが、この調湿手段は乾燥ガスの混合に限定されるも
のではなく、相対湿度を低下させるものであればその手
段を問わない。
いたときの測定装置を示した。多孔質チューブ5を通過
し遊離塩素を含有したキャリアガス中の水蒸気は、除湿
器21で除去される。除湿器21の内部は高分子[23
にようて乾燥ガスのチャンバー21Aと、キャリアガス
のチャンバー21Bに仕切られている。チャンバー21
Aには活性炭とシリカゲルが充填されたフィルターρで
除湿、清浄化さスの除湿は次のように行なわれる。チャ
ンバー21B内のキャリアガス中の水蒸気は高分子膜に
溶解し、膜の中を拡散移動し、チャンバー21A内の乾
燥、清浄空気に放散する。この結果、キャリアガスの除
湿が行なわれる。この高分子膜には例えばポリイミド膜
が使われ、除湿効果は乾燥、清浄空気の乾燥度が高い程
、またチャンバー21Aの圧力が低い程、その効果は高
い。
ときの測定装置を示した。多孔質チューブ5を通過し遊
離塩素を含有したキャリアガス中の水蒸気は、測定チャ
ンバー6に至るまでの配管中でこの配管に巻かれたヒー
ター31によって加温され、その結果、相対湿度が低下
する。諺はヒーター用の電源である。またヒーター31
は配管だけでなく 61i1定チヤンバー6にも巻きつ
けても良い。
ビング法を用いた測定装置について調湿手段を説明して
きたが、この発明の気相抽出手段はチュービング法に限
定されるものではなく、試料水中の遊離塩素を気相中に
拡散させ抽出する手段であればその手段を問わない。
いたときの測定装置を示した。抽出槽4内の試料水中の
遊離塩素は水面から気相部に拡散してくるので、第1図
に示した装置と同様に試料水中の遊離塩素が測定される
。このヘッドスペース法は多孔質チューブを使用してい
ないのでチューブ狭面の汚れによる経時変化がないとい
う利点がある。
きの測定装置を示した。ボン18でガスを吸引すると抽
出槽4内は減圧になるから、ボールデイフユーザ−41
からキャリアガスが試料水中に吹き込まれ、試料水中の
遊離塩素は気相部に抽出される。したがって第1図に示
したahと同様に試料水中の遊離塩素が測定される。こ
のバブリング法はヘッドスペース法と同様にチューブ表
面の汚れによる経時変化がないという利点があり、さら
に試料水中に強制的にキャリアガスを吹き込んでいるこ
とから応答速度が速く、低濃度まで測定可能であるとい
う利点がある。
せて行う遊離塩素の測定裟はにおいて、(1)試料水中
の遊離塩素をキャリアガス中に移行させる気相抽出手段
と、 C)気相抽出された塩素を含むキャリアガスの調湿手段
と、 (3)キャリアガス中に透過した遊離塩素量を検出する
半導体式検出手段とを備えるので気相抽出手段により遊
離塩素、結合塩素ともにキャリアガス中に移行するが、
半導体式検出手段は遊離塩素のみに応答し、試料水中の
結合塩素の影響を・受けずに試料水中の次咀塩素酸のみ
を分離測定することが可能となる。また調湿手段はキャ
リアガス中の水蒸気圧を飽和水蒸気圧以下に保つので測
定装置の内壁に水分が凝結せず、遊離塩素の再溶解、再
吐出がなくなりて高精度に試料水中の遊離塩素を測定す
ることができる。
図、第2図はこの発明の実施例に係る半導体式ガスセン
サを示し第2図(atはその斜視図、第2図(blはそ
のF!fr面図、第3図はこの発明の実施例に係る検量
関係を示す線図、第4図はHOCI存在割合のpu依存
性につき理論値(実嶽)と実験値(○)を対比して示す
線図、第5図はこの発明の異なる実施例に係る装置の構
成を示す配置図、第6図、第7図、第8図はそれぞれこ
の発明のさらに異なる実施例に係る装置の構成を示す配
置図である。 1:フィルタ、4:抽出槽、5:多孔質チューブ、6:
6113定チエンバ、7:レコーダ、8:ポンプ、11
:アルミナ基板、12:半導体薄膜、13A 、 13
B : Pt膜電極、14 : Pt膜上ヒータ15:
気相抽出手段、16:調湿手段、17:半導体式検出手
段・ 、7.1
、。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)試料水中の遊離塩素を気相に移行させて行う遊離塩
素の測定装置において、 (1)試料水中の遊離塩素をキャリアガス中に移行させ
る気相抽出手段と、 (2)気相抽出された塩素を含むキャリアガスの調湿手
段と、 (3)キャリアガス中に透過した遊離塩素量を検出する
半導体式検出手段とを備えることを特徴とする試料水中
の遊離塩素の測定装置。
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JP1106966A JPH0782004B2 (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | 試料水中の遊離塩素の測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publication Number | Publication Date |
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JPH02285260A true JPH02285260A (ja) | 1990-11-22 |
JPH0782004B2 JPH0782004B2 (ja) | 1995-09-06 |
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JP1106966A Expired - Lifetime JPH0782004B2 (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | 試料水中の遊離塩素の測定装置 |
Country Status (1)
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JP (1) | JPH0782004B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110146403A (zh) * | 2019-04-15 | 2019-08-20 | 中国辐射防护研究院 | 一种高温高压蒸汽湿度测量装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58169049A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 液中濃度測定法及び同用装置 |
-
1989
- 1989-04-26 JP JP1106966A patent/JPH0782004B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
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JPS58169049A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-05 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 液中濃度測定法及び同用装置 |
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CN110146403A (zh) * | 2019-04-15 | 2019-08-20 | 中国辐射防护研究院 | 一种高温高压蒸汽湿度测量装置 |
CN110146403B (zh) * | 2019-04-15 | 2021-10-22 | 中国辐射防护研究院 | 一种高温高压蒸汽湿度测量装置 |
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JPH0782004B2 (ja) | 1995-09-06 |
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