JPH02247943A - カラー受像管用シャドウマスクの洗浄方法 - Google Patents

カラー受像管用シャドウマスクの洗浄方法

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JPH02247943A
JPH02247943A JP6882889A JP6882889A JPH02247943A JP H02247943 A JPH02247943 A JP H02247943A JP 6882889 A JP6882889 A JP 6882889A JP 6882889 A JP6882889 A JP 6882889A JP H02247943 A JPH02247943 A JP H02247943A
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JP
Japan
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mask
shadow mask
cleaning liquid
shadow
cleaning
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Application number
JP6882889A
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English (en)
Inventor
Ryoichi Ogura
小倉 良一
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【発明の目的】 (産業上の利用分野) この発明は、カラー受像管用シャドウマスクの洗浄方法
に関する。 (従来の技術) シャドウマスク型カラー受像管は、第3図に示すように
、一体に接合されたパネル(1)およびファンネル(2
)からなる外囲器を有し、そのパネル(1)内面に、青
、緑、赤に発光するたとえばストライプ状の3色蛍光体
層と、この3色蛍光体層間を埋めるブラックストライプ
光吸収層とからなるブラックストライプ型蛍光面(3)
が形成され、この蛍光面(3)に対向して、その内側に
シャドウマスク(4)が装着されている。通常、このシ
ャドウマスク(4)は、多数の透孔が形成されがっ所定
の曲面に成形されたマスク本体(5)と、このマスク本
体(5)の周辺部を支持するマスクフレーム(6)とか
らなる。 ところで、近年、カラー受像管は大形化、高精細化の傾
向にあり、特に高精細管については、シャドウマスク(
4)の透孔およびその配列ピッチが小さいために、通常
のカラー受像管ではほとんど問題にならなかったごみな
どの異物の付着による透孔形状のわずかな変化が蛍光面
欠点となるという問題がある。 すなわち、通常、カラー受像管のブラックストライプ型
蛍光面(3)は、写真印刷法により、パネル内面に感光
樹脂や、蛍光体と感光樹脂を主成分とする蛍光体スラリ
を塗布し、その感光樹脂膜や蛍光体スラリ層をシャドウ
マスク(4)を介して露光することにより、シャドウマ
スク(4)の透孔パター1を焼付け、ついで現像する方
法により形成されるため、特にシャドウマスク(4)の
透孔およびその配列ピッチが小さい高精細管では、その
シャドウマスク(4)の透孔形状のわずかな変化が3色
蛍光体層に転写されて蛍光面欠点とし現われやすい。 この蛍光面欠点の発生を防止するために、従来より蛍光
面(3)形成前にシャドウマスク(4)を洗浄して、付
着する異物を除去することがおこなわれている。その洗
浄方法は、第4図に矢印(8a)で示すように、洗浄液
(9)に対してシャドウマスク(4)を、マスク本体(
5)を上にして垂直に浸漬し、一定時間洗浄し、要すれ
ば超音波洗浄などをおこなったのち、矢印(8b)で示
すように、同じくマスク本体(5)を上にして洗浄液(
9)から垂直に取出す方法である。 しかし、上記のようにマスク本体(5)を上にして垂直
に浸漬し、垂直に取出すと、シャドウマスク(4)を浸
漬するときには、マスク本体(5)を凹面側から押圧す
る矢印(10a)方向の力が、また取出すときには、凸
面側を抑圧または凹面側に引張る矢印(10b)方向の
力が加わる。特にこの矢印(10b)方向の力は、シャ
ドウマスク(4)が洗浄液(9)中にあるときは、主と
してシャドウマスク(4)の取出し速度が関係する洗浄
液(9)の抵抗に基づく押圧力であり、シャドウマスク
(4)を洗浄液中から液面上に取出すときは、主として
マスク本体(5)の背面(マスクフレーム(6)側の面
)に作用する洗浄液(9)の表面張力に基づくものであ
る。マスク本体(5)の凸面側を上にして洗浄する場合
、マスク本体(5)は、このような力のうち、矢印(t
ea)方向の力に対しては比較的強く、矢印(10b)
方向の力に対しては弱い構造となっている。 そのため、特にマスク本体(5)の板厚が薄く機械的強
度の低い高精細管用シャドウマスク(4)では、洗浄後
、洗浄液(9)中から取出すとき受ける力により変形を
おこしやすい。 この洗浄におけるシャドウマスク(4)の変形は、高精
細管用シャドウマスク(4)ばかりでなく、小形管用シ
ャドウマスク(4)にくらべて相対的に機械的強度がい
ちじるしく低下する大形管用シャドウマスク(4)でも
おこりやすい。 この高精細管用および大形管用シャドウマスク(4)に
おこる変形を防止する手段として、洗浄液(9)を一般
的に使用される水溶液に代えて、表面張力が小さくかつ
洗浄力の強いフレオン液の使用が考えられるが、フレオ
ン液を使用しても、なおシャドウマスク(4)の変形は
避けられず、結局シャドウマスク(4)の取出し速度を
遅くしなければならず、特に自動洗浄装置では、その取
出し速度に附随して必然的に浸漬速度も遅くしなければ
ならず、生産能率が低下するという問題がある。 (発明が解決しようとする課8) 上記のようにカラー受像管の蛍光面形成について、シャ
ドウマスクに付着する異物が原因で発生する蛍光面欠点
を防止するために、蛍光面形成前にシャドウマスクを洗
浄する必要がある。しかし、従来のシャドウマスクの洗
浄方法は、洗浄液面に対してシャドウマスクをマスク本
体を上にして垂直に浸漬し、同じくマスク本体を上にし
て垂直に取出す方法であるため、特にシャドウマスクを
取出すとき、洗浄液中ではその取出し速度に関係する洗
浄液の抵抗に基づく押圧力が、また洗浄液中から液面上
に取出すときにマスク本体(5)の背面に洗浄液の表面
張力に基づく引張力が作用する。 一般にシャドウマスクは、マスク本体の凸面側から押圧
する力または凹面側に引張る力に対して弱い構造となっ
ているため、特にマスク本体の板厚の薄い高精細管用シ
ャドウマスクや、小形管用シャドウマスクにくらべて相
対的に機械的強度の低い大形管用シャドウマスクでは、
洗浄液から取出すときにマスク本体が変形しやすい。し
たがって、従来の洗浄方法でこの変形を防止するために
は、シャドウマスクの引上げ速度を遅くしなければなら
ず、生産能率が低下するという問題がある。 この発明は、上記問題点を解決するためになされたもの
であり、シャドウマスクを変形させることなく、かつ能
率よく洗浄できるカラー受像管用シャドウマスクの洗浄
方法を得ることを目的とする。 [発明の構成] (課題を解決するための手段) 多数の透孔の形成されたマスク本体とこのマスク本体の
周辺部を支持するマスクフレームとからなるシャドウマ
スクを洗浄液中に浸漬して洗浄するカラー受像管用シャ
ドウマスクの洗浄方法において、洗浄液中に浸漬したシ
ャドウマスクを洗浄液から取出すとき、マスクフレーム
側からマスク本体に気体を供給するとともに、シャドウ
マスクの洗浄液の液面に対する取出し角度を40〜80
’取出し速度を40〜80關/secとして、マスク本
体に対する洗浄液の表面張力の影響を軽減した。 (作 用) 上記のように洗浄液からシャドウマスクを増出すとき、
マスクフレーム側からマスク本体に気体を供給するとと
もに、洗浄液の液面に対する取出し角度を40〜80°
とし、かつ増出し速度を40〜80關/secとすると
、マスク本体に対する洗浄液の表面張力をいちじるしく
軽減できる。 (実施例) 以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。 第2図に示すように、シャドウマスク(4)は、多数の
透孔(20)が形成され、かつ所定の曲面に成形された
マスク本体(5)と、このマスク本体(5)の周辺部に
一体に成形されたスカート部(21)に溶接されてマス
ク本体(5)の凸面側を上面として支持する断面り字形
のマスクフレーム(6)とからなる。 上記シャドウマスクの洗浄は、第1図に示すように、マ
スク本体(5)を上にし、かつ洗浄液(9)の液面(2
2)に対してシャドウマスク(4)の中心軸(23)と
直交する平面(24)を角度θ1傾けて、洗浄液(9)
中に矢印(25a)で示すようにその傾斜方向(角度θ
1)に浸漬する。そして、この洗浄液(9)中にゴ定時
間浸漬し、要すれば超音波洗浄をおこなっなのち、浸漬
時と同様にマスク本体(5)を上にし、かつシャドウマ
スク(4)の中心軸(23)と直交する平面(24)が
洗浄液(9)の液面(22)に対して角度θ2傾けて、
矢印(25b)で示すようにその傾斜方向(角度θ2)
に取出す。しかも、洗浄液(9)の液面(22)近くに
おいて、矢印(26)で示すようにマスクフレーム(6
)側からマスク本体(5)の背面側に空気を供給しなが
ら洗浄液面(22)から取出す。 このようにシャドウマスク(4)を洗浄液(9)の液面
(22)から取出すとき、マスク本体(5)の背面側に
空気を供給すると、マスク本体(5)の背面と接触する
洗浄液(9)を排除して、マスク本体(5)に作用する
洗浄液(9)の表面張力の影響を軽減できる。また、シ
ャドウマスク(4)を洗浄液(9)に浸漬または取出す
とき、洗浄液(9)の液面(22)に対して傾け、かつ
その傾斜方向に浸漬すると、浸漬または取出すときにマ
スク本体(5)に加わる洗浄液(9)の抵抗に基づく押
圧力を軽減できるばかりでなく、洗浄液(9)中から液
面(22)上に取出すときに、洗浄液面から垂直に取出
す従来方法にくらべて、マスク本体(5)に作用する洗
浄液(9)の表面張力も軽減でき、上記空気の供給によ
る表面張力の軽減と相俟って、マスク本体(5)に作用
する洗浄液(9)の表面張力の影響を大幅に軽減できる
。 この洗浄方法を各種シャドウマスクについて実験した結
果、シャドウマスク(4)を洗浄液(9)中から液面(
22)上に取出すときに供給する空気量としては、0.
1−0.7Nm3/hが適切であり、0、lNm3/h
以下では表面張力の軽減が十分でなく、また0、7Nm
3/h以上ではシャドウマスク(4)が浮上り、シャド
ウマスク(4)のハンドリングが不安定になることが判
明した。また、シャドウマスク(4)の浸漬角度θ1お
よび取出し角度θ2については、40〜80°がよく、
その取出し角度におけるシャドウマスク(4)の取出し
速度として40〜80關/secが適切であることが判
明した。 なお、自動的に洗浄をおこなう場合には、シャドウマス
ク(4)の浸漬速度は、上記取出し速度と同じ40〜8
0鳳鵬/secにするのが好ましい。 つぎに、具体例について述べる。 具体例1゜ 25インチカラー受像管用シャドウマスクについて、マ
スク本体を上にし、かつその中心軸と直交する平面を洗
浄液面に対して40〜80@傾けてその傾斜方向に浸漬
し、一定時間超音波洗浄をおこなったち、洗浄液面に対
して40〜80″傾けてその傾斜方向に取出し、かつそ
の洗浄液面から取出すとき、マスクフレーム側からマス
ク本体の背面に空気を0.3〜0.7Nm  /h供給
して洗浄をおこなった。その結果、マスク本体を変形さ
せることなく良好な洗浄が得られた。 具体例2゜ 14インチ以上の数種の高精細カラー受像管用シャドウ
マスクについて、マスク本体を上にし、かつその中心軸
と直交する平面を洗浄液面に対して40〜80″傾けて
その傾斜方向に浸漬し、一定時間超音波洗浄をおこなっ
たち、液面に対して40〜80″傾けてその傾斜方向に
取出し、かつその洗浄液面から取出すとき、マスクフレ
ーム側からマスク本体の背面に空気を0.1〜0.2N
m”/h供給して洗浄をおこなった。その結果、具体例
1と同様にマスク本体を変形させることなく良好な洗浄
が得られた。 [発明の効果] シャドウマスクを洗浄液に浸漬して洗浄する場合、マス
ク本体を上にして洗浄液からシャドウマスクを取出すと
きにマスクフレーム側からマスク本体の背面側に気体を
供給するとともに、洗浄液面に対するシャドウマスクの
取出し角度を40〜80@とし、かつその取出し速度を
40〜8011/secとすると、供給された気体によ
りマスク本体の背面に接触する洗浄液を排除して、マス
ク本体に作用する洗浄液の表面張力の影響を軽減できる
。また、シャドウマスクを洗浄液面に対して一定角度傾
けたことにより、マスク本体に対する洗浄液の抵抗に基
づく押圧力を軽減できるばかりでなく、洗浄液面に対し
て垂直に取出す従来方法にくらべて、洗浄液中から液面
に取出すときのマスク本体に対する洗浄液の表面張力を
いちじるしく軽減でき、上記気体供給による表面張力の
軽減と相俟ってマスク本体に作用する洗浄液の表面張力
の影響を大幅に軽減でき、マスク本体の変形をなくすこ
とができた。また、上記洗浄液の抵抗に基づく押圧力お
よび表面張力の軽減は、シャドウマスクの浸漬゛および
取出し速度を速めることができ、シャドウマスク洗浄の
生産能率を向上させることができた。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例カラー受像管用シャドウマ
スクの洗浄方法を説明するための図、第1図(a)およ
び(b)はそれぞれシャドウマスクを一部切欠いて示し
た平面図および断面で示した正面図、第3図はカラー受
像管の構成を示す図、第4図は従来のシャドウマスクの
洗浄方法を説明するための図である。 4・・・シャドウマスク 6・・・マスクフレーム 20・・・透孔 5・・・マスク本体 9・・・洗浄液 22・・・洗浄液の液面 代理人 弁理士 大 胡 典 夫 5a 5b 9::!オフた 第 図 第 図 第 図 手 続 ン市 正 書(方式) 1、事件の表示 平成1年 特 許 願 第068828号 2、発明の名称 カラー受像管用シャドウマスクの洗浄方法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 (307)株式会社 東芝 4、代 理 人 〒144 東京都大田区蒲田4丁1141番11号第−津野田ビル 人動特許事務所内 電話736−3558 5、補正命令の日付 平成1年6月12日(発送日平成1年7月4日)6、補
正の対象 明細書の図面の簡単な説明の欄 7、補正の内容 明細書第13頁第18行目ないし第14頁第1行目の「
第1図(a)および(b)はそれぞ九シャドウマスクを
一部切欠いて示した平面図および断面で示した正面図、
」の記載を、「第2図はシャドウマスクの構造を示す図
、」と訂正する。 以上

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 多数の透孔の形成されたマスク本体とこのマスク本体の
    周辺部を支持するマスクフレームとからなるシャドウマ
    スクを洗浄液中に浸漬したのち、この洗浄液から上記マ
    スク本体を上にして取出すことによりおこなわれるカラ
    ー受像管用シャドウマスクの洗浄方法において、 上記シャドウマスクを洗浄液から取出すとき、上記マス
    クフレーム側から上記マスク本体背面側に気体を供給す
    るとともに上記洗浄液の液面に対する上記シャドウマス
    クの取出し角度を40〜80゜、取出し速度を40〜8
    0mm/secとして、上記マスク本体に対する上記洗
    浄液の表面張力の影響を軽減したことを特徴とするカラ
    ー受像管用シャドウマスクの洗浄方法。
JP6882889A 1989-03-20 1989-03-20 カラー受像管用シャドウマスクの洗浄方法 Pending JPH02247943A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5506162A (en) * 1988-04-22 1996-04-09 Fujitsu Limited Method of producing a semiconductor integrated circuit device using a master slice approach

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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