JPH02247899A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

Info

Publication number
JPH02247899A
JPH02247899A JP1068340A JP6834089A JPH02247899A JP H02247899 A JPH02247899 A JP H02247899A JP 1068340 A JP1068340 A JP 1068340A JP 6834089 A JP6834089 A JP 6834089A JP H02247899 A JPH02247899 A JP H02247899A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
current
circuit
memory cell
iprg
transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1068340A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuro Matsuzaki
康郎 松崎
Yuji Tsuchimoto
雄二 土本
Yoshikazu Muto
嘉一 武藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP1068340A priority Critical patent/JPH02247899A/ja
Publication of JPH02247899A publication Critical patent/JPH02247899A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 半導体記憶装置に関し、 プログラム電流吸収用トランジスタの負担を軽くするこ
とにより、当該トランジスタのパターン面積を小さくし
て集積度を向上させることを目的とし、 出力端子に印加されたプログラム電流をビット線に供給
し、該ビット線に接続されたヒユーズあるいはPN接合
からなるメモリセルを破壊してデータをプログラムする
半導体記憶装置であって、前記プログラム電流の経路上
に挿入されたダイオードを有し、該ダイオードをデータ
の読み出し時にのみ逆バイアスするバイアス手段を設け
て構成している。
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体記憶装置に関し、特に、ヒユーズRO
Mあるいはフィールド・プログラマブルROMなどの半
導体記憶装置に関する。
ヒユーズ(あるいはフィールド・プログラマブル)RO
M(以下、FROMという)は、メモリセルに設けられ
た金属性のヒユーズやPN接合を破壊してデータをプロ
グラムするもので、高速である特長から例えばコンピー
タ内のマイクロプログラム保持用記憶装置として使用さ
れる。
〔従来の技術〕
第3図は従来例を示す図で、×4構成のFROMを示す
図である。第3図において、1はアドレスバッファ、2
はデコーダドライバ、3はマルチプレクサ、4は出力回
路、5はチップイネーブル回路、6はメモリセルアレイ
、7は書込回路、8は分離回路、を表している。
データのプログラムは次のようにして行われる。
すなわち、1つのメモリセル(例えば図中のM、)を指
定するアドレス信号A。−A7を入力し、CE/PVC
!端子9に書込許容信号PVCEを印加して出力端子O
1〜04の1つに70mA/15V程度のプログラム電
流I PIIGを流し込むと、I PRGは、分離回路
8および書込回路7を介して1つのビット線(例えばB
、)に流し込まれ、このB、と先のアドレス信号で選択
されたワード線(例えばW、)との間に接続されたM、
のPN接合を破壊したあと、デコーダドライバ2内の書
込電流吸収用トランジスタT、(W、に対応したもの)
に吸収される。
そして、プログラムされたデータの読み出しは、アドレ
ス信号A、−A、を入力し、CE/PV、E端子9にチ
ップイネーブル信号CEを入力すると、アドレス信号に
応じた4つのメモリセル(例えばM1〜M4)からのデ
ータが出力端子01〜04から読み出される。
ところで、上記データのプログラムはPN接合を破壊す
ることで行われており、このためのプログラム電流I 
PIIGは比較的に高電圧、大電流である。したがって
、書込回路7を構成する回路素子は耐電圧、耐電流を考
慮して設計されており、その回路の容量は比較的に大き
い。こうした回路容量が出力端子に現れることは、読み
出し時の動作速度を低下させるので好ましくなく、この
ため、読み出し時には、書込回路7と出力端子との間を
アイソレーションする分離回路8が設けられる。
分離回路8は、I PRGの流れの方向に対して順方向
に挿入さたダイオードDIと、このDlをIPIGの電
圧よりも低い電圧(例えばVCCを利用した5■程度の
電圧)で逆バイアスするバイアス回路8aと、を備える
もので、これらのDI、バイアス回路8aは、×4構成
のFROMであれば4組設けられている。各々のバイア
ス回路8aは、D、のカソードに側とVCCとの間に、
電流制限抵抗R1およびI PRGの逆流を阻止するダ
イオードD2を備えて構成されている。
このような分離回路8の構成によれば、バイアス回路8
aによりり、が逆バイアスされるので、書込回路7と出
力端子との間をアイソレーションすることができ、書込
回路7の回路容量を出力端子に現わさないようにするこ
とができる。また、プログラム時においては、バイアス
回路8aで作られるバイアス電圧よりも大きな電圧を有
するIPRGによりダイオードD、を順バイアスして、
出力端子からのI PRGをメモリセルに供給すること
ができる。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、このような従来の半導体記憶装置にあっ
ては、プログラム時にもバイアス回路8aが動作する構
成となっていたため、次に述べる理由から、プログラム
電流吸収用トランジスタのパターンを大きくせざるを得
す、集積度を高めるうえでの阻害要因となっていた。
通常、×nビット構成のFROMの場合、I PRGは
1ビツトずつ順次供給される。同時供給ではその供給数
だけプログラム電流吸収用トランジスタの負担が増える
からである。
今、×4ビット構成の場合を考える。第3図において、
1つのビットに供給された■、□は、メモリセル(例え
ばMl)を破壊したあとプログラム電流吸収用トランジ
スタT1に流れ込むが、このトランジスタT、には、I
 PRGに加えて残りの3ビツト分のバイアス回路8a
からの電流Ia。
1b、Icも流れ込む。これは、バイアス回路8aが常
に動作しているからで、■o→R5→D2→残りの3ビ
ツトのメモリセル(M、〜M、)→プログラム電流吸収
用トランジスタT5、といった電流経路が形成されるか
らである。したがって、プログラム電流吸収用トランジ
スタは、プログラム時、例えば×4構成のFROMであ
れば1つの1□。と3つの電流Ia、  Ib、  I
c (これらの電流は、3つのメモリセルのブレークダ
ウン電流に相当する)との合計電流を負担しなければな
らず、そのパターン面積が大きなものとなっていた。
ちなみに、×8構成のFROMの場合にプログラム電流
吸収用トランジスタが負担する電流量はおよそI PK
Gの1.35倍となり、プログラム電流吸収用トランジ
スタのパターン面積を35%程度大きくしなければなら
なかった。このことは、ワード線ピッチが上記35%に
相当して拡大されることを意味し、メモリセルアレイ6
の高集積化の妨げとなっていた。
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、
プログラム電流吸収用トランジスタの負担を軽くするこ
とにより、当該トランジスタのパターン面積を小さくし
て集積度を向上させることを目的としている。
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る半導体記憶装置は上記目的を達成するため
に、出力端子に印加されたプログラム電流をビット線に
供給し、該ビット線に接続されたヒユーズあるいはPN
接合からなるメモリセルを破壊してデータをプログラム
する半導体記憶装置であって、前記プログラム電流の経
路上に挿入されたダイオードを有し、該ダイオードをデ
ータの読み出し時にのみ逆バイアスするバイアス手段を
設けて構成している。
〔作用〕
本発明では、データの読み出し時のみにバイアス発生手
段の動作が許容される。したがって、データの書込時(
プログラム時)において、ワード線に流し込まれる電流
がプログラム電流I PIGのみとなり、プログラム電
流吸収用トランジスタの負担を軽くして当該トランジス
タのパターン面積を小さ(することができ、高集積化の
阻害要因を排除することができる。
〔実施例〕
以下、本発明を図面に基づいて説明する。
第1.2図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を
示す図であり、×4構成のFROMに適用した例である
第1図において、10は半導体記憶装置であり、半導体
記憶装置10は、外部アドレス信号A。−A1を受けて
アドレス信号Acおよびアドレス信号A。
を出力するアドレスバッファ11と、アドレス信号AC
を受けて多数のワード線の各々に対応して設けられた多
数のプログラム電流吸収用トランジスタのうち1つ(例
えばT、)を選択するデコーダドライバ12と、アドレ
ス信号Atに基づいてビット線を選択し、メモリセル内
のデータを読み出すマルチプレクサ13と、チップイネ
ーブル信号CEが人力されると出力回路14をローイン
ピーダンスにして読み出しデータの外部出力を可能にす
るチップイネーブル回路15と、書込許容信号PVcア
が入力されると出力端子ol〜04に印加された書込プ
ログラム電流I PKGをビット線に供給する書込回路
16と、を備えるとともに、書込回路16と出力端子O
1〜04との間に分離回路17を設けて構成している。
なお、18はメモリセルアレイで、メモリセルアレイ1
8は多数のビット線およびワード線(代表してB+ 、
W+を示す)の交差点にPN接合のメモリセル(代表し
てM+を示す)を接続して構成されている。
分離回路17は、×4構成の場合、同一の4つの回路か
らなり、各回路は、I l’lGの流れる方向に対して
順方向に押入さたダイオードDIIを備えるとともに、
このDllのカソードに側と電源vc、との間に、スイ
ッチ素子Sll、電流制限抵抗R1,および阻止ダイオ
ードDIEからなるバイアス手段19を直列接続(接続
の順は限定されない)して構成されている。各バイアス
手段19のスイッチ素子S1、は、スイッチ制御回路2
0からのオフ信号V、によってオフ状態にされ、スイッ
チ制御回路20は書込許容信号PVCE印加時、すなわ
ちデータの書込時にV+を出力する。したがって、バイ
アス手段19はデータの読み出し時(PVctが印加さ
れないとき)のみにDllを逆バイアスするように動作
する。
このような構成において、データのプログラムは次のよ
うにして行われる。すなわち、アドレス信号A0〜A7
および書込許容信号PVCEを入力し、出力端子O6〜
04の1つに■□。を加えると、このIPIIGは、分
離回路17、書込回路16を介してメモリセルアレイ1
8のメモリセル(例えばM、)に流し込まれ、メモリセ
ルM、のPN接合を破壊したあと、デコーダドライバー
12のプログラム電流吸収用トランジスタT1に吸収さ
れる。このとき、スイッチ制御回路20からは■1が出
力されているので、バイアス手段19の各スイッチ素子
Sllはオフ状態にされている。すなわち、VCCとダ
イオードD、のカソード間がオーブンされているから、
プログラム電流吸収用トランジスタT+に流し込まれる
電流はI□6だけとなり、プログラム電流吸収用トラン
ジスタT1はこのI PRGのみを負担して吸収すれば
よい。したがって、プログラム電流吸収用トランジスタ
T、のパターン面積を小さくすることができ、集積度を
向上させることができる。
第2図は本発明に係る半導体記憶装置の第2実施例を示
す図である。第2図において、22は代表して2つのプ
ログラム電流吸収用トランジスタT1゜。+Tl61を
有するデコーダドライバー、23は代表して8つのメモ
リセルM10゜〜M、。、を有するメモリセルアレイ、
24は代表して4つの回路C+oo ”” CI 03
を有する書込回路、25は代表して2つの回路C2゜。
+C2゜、を有する分離回路で、分離回路25の各回路
C8゜。+C2゜1は、各々、MOSトランジスタから
なるスイッチ素子S、。。(第1実施例のS11に相当
)、電流制限抵抗R1゜。およびダイオードDI71゜
からなるバイアス手段26を備えるとともに、ダイオー
ドD Iolを備え、上記スイッチ素子310゜には、
第1実施例と同様なオフ信号■1が入力されている。す
なわちスイッチ素子3100はこのVlによってデータ
のプログラム時にオフ状態にされるようになっている。
このような構成によっても、データルプログラム時に、
■。、とD Iolのカソード間とをオープンにするこ
とができ、プログラム電流吸収用トランジスタT1゜。
+TI@Iに吸収させる電流を出力端子01+Otから
のプログラム電流I pH1のみとすることができる。
なお、上記各実施例ではメモリセルにPN接合を用いて
いるが、これに限らず、金属ヒユーズであってもよい。
また、第2実施例では、MOS)ランジスタからなるス
イッチ素子S、。。と電流制限抵抗R1゜。とを別部品
として示しているが、例えば比較的に高目のチャネル抵
抗のMOS)ランジスタを用いて、このトランジスタに
Sl。。とR冨・0の両方の機能を持たせてもよい。
〔発明の効果〕
本発明によれば、プログラム電流吸収用トランジスタの
負担を軽くすることができ、当該トランジスタのパター
ン面積を小さくして集積度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る半導体記憶装置の第1実施例を示
すその構成図、 第2図は本発明に係る半導体記憶装置の第2実施例を示
すその構成図、 第3図は従来の半導体記憶装置を示すその構成図である
。 01〜04・・・・・・出力端子、 I PIIG・・・・・・プログラム電流、B、・・・
・・・ビット線、 M、、M、0゜〜M1゜7・・・・・・メモリセル、D
、、、D、。1 ・・・・・・ダイオード、19.26
・・・・・・バイアス手段。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 出力端子に印加されたプログラム電流をビット線に供給
    し、 該ビット線に接続されたヒューズあるいはPN接合から
    なるメモリセルを破壊してデータをプログラムする半導
    体記憶装置であって、 前記プログラム電流の経路上に挿入されたダイオードを
    有し、該ダイオードをデータの読み出し時にのみ逆バイ
    アスするバイアス手段を設けたことを特徴とする半導体
    記憶装置。
JP1068340A 1989-03-20 1989-03-20 半導体記憶装置 Pending JPH02247899A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1068340A JPH02247899A (ja) 1989-03-20 1989-03-20 半導体記憶装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1068340A JPH02247899A (ja) 1989-03-20 1989-03-20 半導体記憶装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02247899A true JPH02247899A (ja) 1990-10-03

Family

ID=13371012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1068340A Pending JPH02247899A (ja) 1989-03-20 1989-03-20 半導体記憶装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02247899A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006172660A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006172660A (ja) * 2004-12-17 2006-06-29 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0562486A (ja) 集積回路用スイツチ
EP0137135A2 (en) Semiconductor memory
CN112582013A (zh) 反熔丝存储单元电路、阵列电路及其读写方法
JPS61267996A (ja) デコ−ダ回路
US5280451A (en) Signature circuit for non-volatile memory device
JP2005122574A (ja) 半導体集積回路
US6477072B2 (en) Layout design method on semiconductor chip for avoiding detour wiring
EP0019381B1 (en) Semiconductor memory device with address signal level setting
JPS61123169A (ja) 半導体集積回路
JPS6093700A (ja) ライン切換回路およびそれを用いた半導体記憶装置
WO2006035326A1 (en) Integrated circuit with memory cells comprising a programmable resistor and method for addressing memory cells comprising a programmable resistor
US6785158B2 (en) Device that makes it possible to selectively use nonvolatile memory as RAM or ROM
JPH02247899A (ja) 半導体記憶装置
US7379358B2 (en) Repair I/O fuse circuit of semiconductor memory device
US4593383A (en) Integated circuit memory
US5173874A (en) Semiconductor storage device
JP3020561B2 (ja) 半導体記憶装置
JP3103163B2 (ja) 不揮発性半導体記憶回路
JP3176262B2 (ja) 半導体メモリ
JP2660734B2 (ja) 半導体集積回路装置
EP0136106A2 (en) Static random-access memory device
JPH02236900A (ja) 情報記憶回路
JP3167309B2 (ja) 半導体集積回路
JPS62175999A (ja) 不揮発性半導体記憶装置
JPH023194A (ja) 半導体不揮発性記憶素子