JPH02245604A - 光学式膜厚測定装置 - Google Patents

光学式膜厚測定装置

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JPH02245604A
JPH02245604A JP6714889A JP6714889A JPH02245604A JP H02245604 A JPH02245604 A JP H02245604A JP 6714889 A JP6714889 A JP 6714889A JP 6714889 A JP6714889 A JP 6714889A JP H02245604 A JPH02245604 A JP H02245604A
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JP
Japan
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light
film thickness
wavelength
irradiated
thickness
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JP6714889A
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English (en)
Inventor
Yoshiki Arakawa
荒川 芳樹
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Shinmaywa Industries Ltd
Original Assignee
Shin Meiva Industry Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 csis上の利用分野) この発明は、光学用薄膜などの薄膜を製作する装置すな
わち成膜装置に使用される光学式膜厚測定装置に関する
ものである。
(従来の技術) 半導体、光学部品、エレクトロニクスなどの製品表面へ
の薄膜形成に際しては、一般に膜厚測定部しながら薄膜
形成を行うことによって所定の膜厚を得ている。そして
、そのための膜厚測定には光学式膜厚測定装置が多用さ
れており、中でも光学用薄膜の形成に際しては特によ(
使用される。
通常、こうした光学式膜厚測定装置では、光学系の調整
容易な単色光式測光法がよく用いられているが、光量が
極大又は極小になる付近での光量変化が小さいため、ど
こが極値であるかの判定がむすかしく、使用波長、λに
対して±λ/30の測定精度しか得られない。このため
、所定膜厚に達し九ときの薄膜形成を止めるのにむらが
あり、精度よい膜厚の薄膜を得に(い。
そこで、測定精度の良い2色光式測光法が用いられる。
この方法は、使用波長χに対して膜厚がλ/4の整数倍
のとき、透過光量が光の波数1/λを中心にして1/(
λ−Δλ)のところと1/(χ+Δλ)のところで等し
くなることを利用して、λ−Δλとλ+Δλの二つの波
長における透過率(1反射率でもよい)の差を検出して
測定を行うもので、λ/300という測定精度が得られ
る。
そして、装置は、通常、試料を透過又は反射した、単一
の多色光源からの光t、ミラー、スリット、レンズを通
過させたのち、ハーフミラ−で二つに分け、それぞれλ
−Δλ及びス+Δλの通過特性をもつたフィルターを通
じて光電変換器に導き、ここで得られる電気信号を増幅
比較して膜厚を測定するようになっている(朝食書店 
光学技術ハンドブック)。
(解決しようとする課題) ところで、こうした装置では、二つの光電変換器の感度
調!111に二つのフィルターの透過率に合わせて行う
必要があり、殊にハーフミラ−で反射゛された光を別の
ミラーで受けて一方のフィルターに入射するようにした
ものでは、そのミラーの特性をも考慮して行う必要があ
る。そして、後者の場合、ミラーの角度調整も必要にな
る。また、ハーフきラー以後は、光路も2系列になるた
め、光電管も2個必要となり装置がかさ高(なってしま
う。
この発明は、こうした光学系の調整の煩雑さや装置の構
造の複雑さ、かさ張りを緩和することを課題とする。
(課題を解決するための手段) 本発明のうち第1の発明では、基準膜厚の4倍の波長よ
り若干短い波長の光を透過するフィルタと同じ(若干長
い波長の光を透過するフィルタを円状に交互に配設して
なる回転板式分光器!、単一の多色光源からの直接光を
受光する位置又は単一の多色光源から膜厚波測定体に照
射され、反射若しくは透過された光を受光する位置に配
置する。
そして、回転板式分光器を通過後、膜厚波測定体で反射
若しくは透過した光を入力する光電変換器又は膜厚波測
定体で反射若しくは透過後、回転板式分光器を通過した
光を入力する光電変換器をそれぞれ配置し、この光電変
換器の出力を入力し、これら入力を比較、演算する2色
測光方式の膜厚測定部を設けである。
第2の発明は、基準膜厚の4倍の長さの波長より若干短
い波長の光と同じ(若干長い波長の光に分光するモノク
ロメータを、第1の発明における回転板式分光器に代え
て配置したものである。
第3の発明は、基準膜厚の4倍の長さの波長より若干短
い波長の光と同じ(若干長い波長の光を含む単色光に分
光する分光器と多波長同時検出器を、第1の発明におけ
る回転板式分光器に代えて、膜厚波測定体からの反射光
又は透過光が入射する位置に配置したものである。
(作用) 単一の多色光源からの直接の照射光光又は膜厚波測定体
からの多色の反射光若しくは透過光は、回、転板式分光
器、モノクロメータ又は分光器と多波長同時検出器によ
って、基準膜厚の4倍の長さの波長より若干短い波長の
光と同じく若干長い波長の光に分けられる。そして、そ
れぞれ膜厚波測定体から反射又は透過した光を光電変換
し、二つの電気信号として公知の2色測光方式で比較、
演算することによって、膜厚波測定体に形成された薄膜
の膜厚を測定′fる。
単一の多色光源からの光又はその光の膜厚波測定体から
の反射光若しくは透過光は、一つの分光器で二つの波長
の光°に分けられたのち、一つの光電変換器を経て電気
信号化され、一つの膜厚測定部で比較・演算されて膜厚
が求められるので、膜厚波測定体を透過又は反射した光
tハーフきラーで二つの光に分ける従来の方式に比べて
、光学系の調整が簡単になり、装置の構造も簡単になる
とともに小型化する。また、光源を二つ設ける方式のも
のに対しても同様である。
(実施例) 第1の発明を光学薄膜の成膜装置の膜厚監視装置に適用
した実施例について、第1図〜第6@を用いて説明する
第1図において、光学膜蒸着用の真空チャンバP−1内
の上部には、複数の蒸着用基板2を図示しない公知の器
具によって水平方向に回転可能、かつ、着脱自在に保持
配列してあり、そのほぼ中央に透明体の膜厚モニター用
基板3を交換可能に保持、配置しである。また、真空チ
ャンバー1内の下部には、蒸着埜料4を載置した蒸発源
装置5を設置し、その上方には、蒸発源装置5の真上に
出入りして蒸発した蒸着物質が上昇するのを遮断するシ
ャッター6を配置しである。蒸着源装置5は図示しない
ヒーターで蒸発材料を加熱、蒸発させるものであワ、シ
ャッターbは、図示しないソレノイドによって操作され
る。そして、真空チャンバー1の上面はぼ中央の、膜厚
モニター基板3と対面する個所に、透明、気密の測光用
窓7を設けである。
真空チャンバー1の上方には、一連の光学系の装置を配
設しである。すなわち、図上、左方には膜厚測定に使用
する波長帯を含んだ多色光を発光するハロゲンランプを
主要構成品とする光源8を配置し、図上その右方に、図
示しない定速回転のモーターでシャッター板を回転し、
光源8からの照射光を断続するチ1ツバ−9を配置しで
ある。
そして光源8を出て、チヲッパ−9を通過し、光電管1
4に到る光路10は、測光用窓7のほぼ真上を通るよう
に設けである。
光路10上、測光用窓7のほぼ真上には、チッソパー9
で断続された照射光を膜厚モニター基板3に照射するた
めの第1ミラー11及び膜厚モニター基板3からの反射
光を分光器13に入射させるための第2ミラー12を順
次配置しである。
更に、図上その右方には、分光器13及び光電管14を
順次配置してあり、光電管14の電気信号出力は膜厚モ
ニター15の入力に接続しである。
ここで、分光器13は第2図のように定速回転のモータ
ー21の軸22に、回転円板式ホルダー23を固着して
、ケース24に納めたものであり、回転円板式ホルダー
23には第3図のように、通過光の波長が大−Δλとλ
+へ大の2種の干渉フィルター25..26を円状に交
互にはめ込んである。また、ケース24の前面及び後面
には、それぞれ干渉フィルタ25.26と正対する位置
に入射窓27.出射窓28を設けである。なお、λは基
準膜厚の4倍あり、−例をあげるなら天は55org、
スーΔλは540にM、、χ+△λ560■である。
また、膜厚モニ、ター15は、図示しないCPUを主要
構成品とし、光電管14からの電気信号入力は、膜厚モ
ニター15内の図示しないA/D変換器を通してCPU
に提供される。このCPUはム/D変換器からの入力を
所定のタイミングでサンプリングし、公知の2色測光方
式によりこれらを順次比較演算するとともに、その結果
が等しいとき、シャッター6を動作させるための指令を
出力するようプログラムされている。この指令は図示し
ないインタフェース、配線を通じてシャッター6の図示
しないソレノイドに接続される。
真空チャンバー1内の所定の保持場所に、薄膜未形成の
蒸着用基板2と膜厚モニター用基板3!装着する。図示
しない操作スイッチを操作して装置を始動すると、シャ
ッター6が蒸着源装置5上から待避し、同時に蒸着源装
置5のヒーターに電源がはいるので、蒸着材料4は加熱
されて、蒸着物質が蒸発、上昇する。
蒸発物質が蒸着用基板2の下面及び膜厚モニター用基板
3の下面に蒸着してい(間、光源8で発生した多色光の
照射光は、チッ、7.@−9で断続され、第1ミラー1
1、測光用窓75?介して膜厚そ二ター用基板3に照射
される。こうして、光源8からの照射光は、一定間隔で
断続するので、真空チャンバー1やその他からはいって
来る光と区別される。以下、第4図のようにこの光の一
部は、膜厚モニター用基板30表面で反射し、大部分は
入射する。入射した光は、膜厚モニター用基板3内を透
過して、形成されつつある薄膜30に到り、一部はその
上面で反射し、大部分は薄膜30内へ入射する。薄膜3
0内へ入射した光は、薄膜30を透過するが、薄膜下面
で一部は反射する。ここで、これら各界面での反射光を
R1、R2、几3の符号で識別する。
こうした反射光はすべて、測光用窓7、第2ミラー12
を介して分光器13にはいり、回転している2種の波長
のフィルターで順次、交互に波長スーΔス、ス+Δλの
二つの光に分けられ、光電管14に入射する。
光電管14から膜厚モニター15に入力した電気信号は
、第5図′めようなCPUの動作タイムチャートに従い
処理される。波長がλ−△λのものについて、前述反射
光R1とR2に相当したもの同士の位相差をとった場合
は、膜厚モニター用基板3の厚さに変動がないので、こ
の位相差は変動しない。一方、反射光R2とR3に相当
した信号同志の位相差tとると、膜厚の増加に伴い変動
している。そこで、位相差の変動のある信号についてレ
ベル差をとると第6図中の・印で示した諸点tプ四ット
でき、これらの情報とこれ!蓮ねたカーブC1の情報が
得られろ。
波長がλ+Δλのものについて同様の処理を行うと、第
6図の0で示した諸点の情報とカーブC2の情報が得ら
れる。ここで、カーブC1とカーブ02の情報の差をと
ることによって得られるカーブC3が零となるところが
、形成中の薄膜30の厚さがλ/4の整数倍になったと
ころである。
基準膜厚λ/4の薄膜を作るのなら、この時点でシャッ
ター6の駆動指令を出し、所定膜厚nλ/4の薄膜を作
るのなら、これを0回カウントしたところでシャツ!−
6の駆動指令を出力する。そして、この駆動指令により
シャッター6が蒸発源装置5の上方を遮断したところで
、蒸着用基板2を手動又は自動で上下反転させるか又は
真空チャンバー1外へ取り出し、継続して一方の面への
蒸着を行うか又は新たな蒸着用基板2への蒸着を行う。
この発明の他の実施例として、第1図で破線で示すよう
に、膜厚モニター用基板3の透過光を、提供して前述同
様の処理を行うことにより、蒸着用基板への薄膜形成を
制御することができる。また、これらの実施例において
、分光器13を光源8と第1ミラー11との間に介設す
ることができる。また、波長λとΔλも前述以外の長さ
にできるが、Δλはより小さい方がよい。
第2の発明の実施例は、第1の発明の実施例における分
光器13を、第7図のようにモノクロメータ35とした
ものである。モノクロメータ350ケースは図上左側面
上部に入射スリット36をあけてあり、ケース内右側の
正対位置に第1ミラー37を設けである。第1ミラー3
7は若干上向きに設けられており、これからの反射光は
、ケース内左側上部の第2ミラー38に照射される。第
2ミラー38は更に若干下向きに設けられており、これ
からの反射光は、ケース内右側下部に設けられた分光用
のグレーティング39へ照射されろ。
グレーティング39はステッピングそ一ター40を周期
的に正転、逆転を繰り返えすことによって、若干上向き
位置を中心に若干上向き又は下向きに傾動させる。こう
してグレーティング39で波長λ−Δλとχ+Δλに分
けられた光は、ケース内側左方下部に設けられた第3ミ
ラー41に照射される。第3ミラー41もグレーティン
グ39置に設けられた出射スリン・ト42から外部へ出
る。
モノクロメータ35を出たあとの光の経路及び処理は第
1の発明の実施例と同様である。また、グレーティング
39の傾動は、ブレーキ付きモーターの周期的な正転、
逆転によってもよく、1−線駆動モータの前進、後退に
よってもよい。また、グレーティング39に代えてプリ
ズムにしてもよく、そのほか各種方式のモノクロメータ
としてよ(1゜ 第3の発明の実施例は、第1の発明の実施例における分
光器13を、第8図のようにグレーティングとレンズか
らなる分光器45とし、その出力を多波長同時検出器に
提供するようKしたものである。分光器45ケースの図
上右側面下部には入射スリット46を設け、ケース内部
の右側下部の正対位置に第1ミラー47を左上向げに設
けである。
ケース内中央上部にはグレーティング4Bを下向きに設
けてあり、第1ミラー47からの反射光が入射する。グ
レーティング4日で波長λ−Δスス内右側下部に設けら
れた第2ミラー49に入射する。第2ミラー49は、右
上向きに設けられており、グレーティング48からの入
射光を右方へ反射する。そして、この光は、第2ミラー
49と正対する位置にあけられた、各単色光を通過、さ
せる出射スリット50から分光器45外へ出て、多波長
同時検出器51にはいる。
多波長同時検出器51は、波長λ−Δλ、λ+Δλの光
に相当した電気信号、だけを交互に出力するもので、そ
の信号は、膜厚モニターに入力し、CPUによって第1
発明の実施例同様処理されろ。
他の実施例として分光器45中のグレーティング4Bを
プリズムに代えるなどいろいろな方式のものにできる。
また、これらの発明の実施例に共通な他の実施例として
、膜厚モニター用基板を透過し、更に形成薄膜を透過し
た光を利用して膜厚測定することができるばかりでなく
、膜厚モニター用基板が透明体でないときは、蒸着され
る薄膜側から光を照射し、その反射光を利用することに
よって膜厚測定を行うことができる。また、蒸着用基板
に代えて、レンズなど、を蒸着の対象としてよ(、膜厚
波測定体として、これら蒸着用基板やレンズなど!利用
してもよい。また、光電管に代えて光電倍増管や光電素
子を使用してよい。更にまた、光量レベルを比較するに
あたり、光量レベルの極値として最大プラス値を用いる
だけでなく、最大マイナス値を用いてもよい。また、膜
1の制御だけでなく、膜厚測定にのみ使用してもよい。
(効果) 以上の通り、この発明によれば、光学用薄膜の成膜装置
において使用される2色測光法による光学式膜厚測定装
置を、測定精度を良好なものとしたままで、光学系の調
整が簡単で、かつ構造も簡単、小型で安価なものにする
ことができる。
【図面の簡単な説明】
図面は、この発明の実施例を示すものであって第1図は
概略構造図、第2図は側面図、第3図は平面図、第4図
は部分断面図、第5図及び第6図は波形図、第7図及び
第8図は部分概略構造図で−35はモノクロメータ、4
5は分光mas1は多波長同時検出器である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基準膜厚の4倍の波長より若干短い波長の光を通
    過させるフィルターと前記4倍の波長より前記若干と同
    量長い波長の光を通過させるフィルターを、円状に交互
    に配設してなる回転板式分光器を、 単一の多色光源からの照射光がその入射窓に入射する位
    置に配設し、この回転板式分光器からの通過光が照射さ
    れる位置に膜厚被測定体を配設し、この膜厚被測定体か
    らの反射光又は透過光が照射される位置に光電変換器を
    配設し、又は前記単一の多色光源からの照射光が照射さ
    れる位置に膜厚被測定体を配設し、この膜厚被測定体か
    らの反射光又は透過光が、前記入射窓に入射する位置に
    前記回転板式分光器を配設し、この回転板式分光器から
    の通過光が照射される位置に光電変換器を配設し、 これらの光電変換器からの電気信号出力を2色測光方式
    の膜厚測定部に入力してなる光学式膜厚測定装置。
  2. (2)多色光を基準膜厚の4倍の波長より若干短い波長
    の光と前記4倍の波長より前記若干と同量長い波長の光
    に順次交互に分光するモノクロメータを、 単一の多色光源からの照射光が、その入射口に入射する
    位置に配設し、このモノクロメータからの通過光が照射
    される位置に膜厚被測定体を配設し、この膜厚被測定体
    からの反射光又は透過光が照射される位置に光電変換器
    を配設し、 又は、前記単一の多色光源からの照射光が照射される位
    置に膜厚被測定体を配設し、この膜厚被測定体からの反
    射光又は透過光が、前記入射口に入射する位置に前記モ
    ノクロメータを配設し、このモノクロメータからの通過
    光が照射される位置に光電変換器を配設し、 この光電変換器からの電気信号出力を2色測光方式の膜
    厚測定部に入力してなる光学式膜厚測定装置。
  3. (3)単一の多色光源からの照射光が照射される位置に
    膜厚波測定体を配設し、この膜厚被測定体からの反射光
    又は透過光が、その入射口に入射する位置に、多色光を
    基準膜厚の4倍の波長より若干短い波長の光と前記4倍
    の波長より前記若干と同量長い波長の光を含む単色光に
    分光する分光器を配設し、この分光器からの通過光が照
    射される位置に多波長同時検出器を配設し、この多波長
    同時検出器の電気信号出力を2色測光方式の膜厚測定部
    に入力してなる光学式膜厚測定装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09119812A (ja) * 1995-06-06 1997-05-06 Holtronic Technol Ltd 多層皮膜構造を特徴づけ、その皮膜に直面する2つの面の間の距離を測定する方法及び装置
JP2003269924A (ja) * 2002-03-19 2003-09-25 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 膜厚モニタリング装置および膜厚モニタリング方法

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