JPH02245239A - 高活性ニッケル系触媒およびその調製方法 - Google Patents
高活性ニッケル系触媒およびその調製方法Info
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- JPH02245239A JPH02245239A JP1065965A JP6596589A JPH02245239A JP H02245239 A JPH02245239 A JP H02245239A JP 1065965 A JP1065965 A JP 1065965A JP 6596589 A JP6596589 A JP 6596589A JP H02245239 A JPH02245239 A JP H02245239A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野]
本発明は、炭化水素の水蒸気改質、合成ガスのメタネー
シヨン、環式および脂環式不飽和炭化水素の水素化など
に有用な触媒およびその調製方法に関するものである。
シヨン、環式および脂環式不飽和炭化水素の水素化など
に有用な触媒およびその調製方法に関するものである。
さらに詳しくは、炭化水素を水蒸気改質して、アンモニ
ア合成、メタノール合成、オキソ合成などの各種合成用
原料ガス、都市ガスなどの各種燃料ガス、製鉄用還元ガ
ス、高純度水素ガス、さらに水素、メタン、−酸化炭素
および/または二酸化炭素を主成分とする合成ガスなど
の製造に特に好適な触媒およびその調製方法に関するも
のである。また、水素、−酸化炭素および/または二酸
化炭素を主成分とする合成ガスをメタン化して、高純度
メタンガス、高発熱量都市ガスなどの各種ガスの製造、
あるいはアンモニア合成原料中に残留する微量の一酸化
炭素および二酸化炭素の除去にも好適な触媒である。
ア合成、メタノール合成、オキソ合成などの各種合成用
原料ガス、都市ガスなどの各種燃料ガス、製鉄用還元ガ
ス、高純度水素ガス、さらに水素、メタン、−酸化炭素
および/または二酸化炭素を主成分とする合成ガスなど
の製造に特に好適な触媒およびその調製方法に関するも
のである。また、水素、−酸化炭素および/または二酸
化炭素を主成分とする合成ガスをメタン化して、高純度
メタンガス、高発熱量都市ガスなどの各種ガスの製造、
あるいはアンモニア合成原料中に残留する微量の一酸化
炭素および二酸化炭素の除去にも好適な触媒である。
(従来の技術)
本発明は、炭化水素の水蒸気改質、合成ガスのメタネー
ション等に有用な触媒およびその調製方法に関するもの
である。上記の反応には、一般にニッケル系の触媒が活
性および経済的な面などの各種の理由から最も多く用い
られている。現在市販されているニッケル系触媒として
は、アルミナ、耐火性酸化物(主としてアルミナセメン
ト)1、スピネル等の担体にニッケルを担持させたもの
が最も一般的である。
ション等に有用な触媒およびその調製方法に関するもの
である。上記の反応には、一般にニッケル系の触媒が活
性および経済的な面などの各種の理由から最も多く用い
られている。現在市販されているニッケル系触媒として
は、アルミナ、耐火性酸化物(主としてアルミナセメン
ト)1、スピネル等の担体にニッケルを担持させたもの
が最も一般的である。
従来量も多用されているニッケル/アルミナ系触媒(た
とえば特公昭49−9312号など)は、アルミナ相が
高温度域でα−アルミナ相に変化し、結晶成長も進行す
るため、比表面積が急激に低下し、これに応じて活性が
低下するなどの問題がある。
とえば特公昭49−9312号など)は、アルミナ相が
高温度域でα−アルミナ相に変化し、結晶成長も進行す
るため、比表面積が急激に低下し、これに応じて活性が
低下するなどの問題がある。
また、これらの触媒には、炭素の析出を防止するためカ
リウム化合物が添加されていることが多い。
リウム化合物が添加されていることが多い。
この場合には、使用中にカリウム化合物が反応装置、配
管その他に飛散して腐蝕の発生などの問題がある。さら
に、アルミナ系担体は、炭酸アルカリの高温蒸気に触れ
ると、その化学的侵蝕の問題も発生する(IJS DO
F、 Rep、p43(1984)、M、Tarjan
yiet al、Fuel Ce1l Sem1nar
、Tucson、Ar1zona(USA)。
管その他に飛散して腐蝕の発生などの問題がある。さら
に、アルミナ系担体は、炭酸アルカリの高温蒸気に触れ
ると、その化学的侵蝕の問題も発生する(IJS DO
F、 Rep、p43(1984)、M、Tarjan
yiet al、Fuel Ce1l Sem1nar
、Tucson、Ar1zona(USA)。
page 177(1985))。
一方、アルミナに他の成分を添加して複合酸化物とした
耐熱性担体を用いる方法も試みられている。たとえば、
アルミナにランタン、リチウムあるいはストロンチウム
を含浸して調製したもの(米国特許第3.966、39
1号、同第4,021.185号、同第4,061,5
94号など)、またアルミナに希土類の塩からそれらの
水酸化物を共沈させて調製したもの(特願昭59−80
752号)、アルミニウムアルコキシドとランタンアル
コキシドを加水分解して水酸化物の混合ゾルを生成して
調製したもの(特開昭63−175642号)、さらに
アルミナにマグネシアを添加して焼成したもの(特開昭
55−139836号)などがある。これらはいずれも
多孔質の担体をまず調製し、その多孔体の細札内にニッ
ケル活性成分を含浸法(細孔内含浸法)により担持させ
ることを前提としたものであって、触媒活性の面で劣る
。また炭酸アルカリ塩の高温蒸気による化学的侵蝕に対
しても問題かある。
耐熱性担体を用いる方法も試みられている。たとえば、
アルミナにランタン、リチウムあるいはストロンチウム
を含浸して調製したもの(米国特許第3.966、39
1号、同第4,021.185号、同第4,061,5
94号など)、またアルミナに希土類の塩からそれらの
水酸化物を共沈させて調製したもの(特願昭59−80
752号)、アルミニウムアルコキシドとランタンアル
コキシドを加水分解して水酸化物の混合ゾルを生成して
調製したもの(特開昭63−175642号)、さらに
アルミナにマグネシアを添加して焼成したもの(特開昭
55−139836号)などがある。これらはいずれも
多孔質の担体をまず調製し、その多孔体の細札内にニッ
ケル活性成分を含浸法(細孔内含浸法)により担持させ
ることを前提としたものであって、触媒活性の面で劣る
。また炭酸アルカリ塩の高温蒸気による化学的侵蝕に対
しても問題かある。
このようなことがら、最近ニッケル/マグネシア系触媒
が注目され、多くの報文および特許が報告されている(
特公昭46−43363号、特公昭5550080号、
特開昭63−137754号、特開昭63248444
号、公害資源研棄報12No、 3 p 1 (198
3)、触媒討論会講演予稿集J5 p38(1983
)、各工試報告甚p77 (1986)など)、シかし
、これらの触媒に用いられているマグネシアは、いずれ
も液相法あるいは熱分解法によって生成されたものであ
って、以下に詳述するような高純度でかつ超微粉単結晶
質のマグネシアではない。
が注目され、多くの報文および特許が報告されている(
特公昭46−43363号、特公昭5550080号、
特開昭63−137754号、特開昭63248444
号、公害資源研棄報12No、 3 p 1 (198
3)、触媒討論会講演予稿集J5 p38(1983
)、各工試報告甚p77 (1986)など)、シかし
、これらの触媒に用いられているマグネシアは、いずれ
も液相法あるいは熱分解法によって生成されたものであ
って、以下に詳述するような高純度でかつ超微粉単結晶
質のマグネシアではない。
〔発明が解決しようとする課題]
本発明の触媒およびその調製方法は、炭化水素の水蒸気
改質などに好適なニッケル/マグネシア系触媒に関する
ものであり、このことに限定すれば公知の方法であるが
、公知の技術では種々の問題がある。すなわち、■触媒
活性が相対的に低く、空時収率が低い、■炭素の析出が
発生し、寿命が短い、■耐熱性が低(、失活する、■ア
ルカリなどの飛散があって反応器や配管などの腐蝕発生
をひき起こす、■炭酸アルカリの高温蒸気による化学的
侵蝕に対して弱い、ことなどの問題があげられる。本発
明はこれらの問題を一挙に解決するものである。
改質などに好適なニッケル/マグネシア系触媒に関する
ものであり、このことに限定すれば公知の方法であるが
、公知の技術では種々の問題がある。すなわち、■触媒
活性が相対的に低く、空時収率が低い、■炭素の析出が
発生し、寿命が短い、■耐熱性が低(、失活する、■ア
ルカリなどの飛散があって反応器や配管などの腐蝕発生
をひき起こす、■炭酸アルカリの高温蒸気による化学的
侵蝕に対して弱い、ことなどの問題があげられる。本発
明はこれらの問題を一挙に解決するものである。
本発明は、高純度超微粉単結晶マグネシア、ニッケル化
合物および有機溶媒を用いて以下のような特定の条件下
で高活性ニッケル系触媒を調製するものであって、炭化
水素の水蒸気改質あるいは合成ガスのメタネーション等
に好適な触媒に関するものである。本発明により調製さ
れた触媒は前記の種々の問題をすべて解決できる。本発
明の触媒およびその調製方法について詳しく説明すると
、以下のとおりである。
合物および有機溶媒を用いて以下のような特定の条件下
で高活性ニッケル系触媒を調製するものであって、炭化
水素の水蒸気改質あるいは合成ガスのメタネーション等
に好適な触媒に関するものである。本発明により調製さ
れた触媒は前記の種々の問題をすべて解決できる。本発
明の触媒およびその調製方法について詳しく説明すると
、以下のとおりである。
本発明に有用な触媒調製用担体原料は、平均粒径100
〜2,000人(BET比表面積6〜170ボ/g)の
高純度超微粉単結晶マグネシア(純度99.9%以上)
であり、たとえばマグネシウム蒸気と酸素含有ガスを乱
流拡散状態で酸化させることにより合成した気相酸化決
裂のマグネシアが好適である。平均粒径100Å以下の
マグネシアを製造することは可能であり、本発明にも有
用であるが、製造コストが極めて高くなること、通常の
粉末の取り扱いが困難になることなどから現状では実用
性が低い。また、平均粒径が2,000Å以上になると
、担体の比表面積が5rrf/g以下となり、触媒活性
が低下するため好ましくない、したがって、高純度超微
粉単結晶マグネシアの好ましい平均粒径の範囲は、10
0〜2.000人(BET比表面積6〜170ポ/g)
であり、特に300〜700人(BET比表面積20〜
80rrf/g)の範囲が好適である。
〜2,000人(BET比表面積6〜170ボ/g)の
高純度超微粉単結晶マグネシア(純度99.9%以上)
であり、たとえばマグネシウム蒸気と酸素含有ガスを乱
流拡散状態で酸化させることにより合成した気相酸化決
裂のマグネシアが好適である。平均粒径100Å以下の
マグネシアを製造することは可能であり、本発明にも有
用であるが、製造コストが極めて高くなること、通常の
粉末の取り扱いが困難になることなどから現状では実用
性が低い。また、平均粒径が2,000Å以上になると
、担体の比表面積が5rrf/g以下となり、触媒活性
が低下するため好ましくない、したがって、高純度超微
粉単結晶マグネシアの好ましい平均粒径の範囲は、10
0〜2.000人(BET比表面積6〜170ポ/g)
であり、特に300〜700人(BET比表面積20〜
80rrf/g)の範囲が好適である。
また本発明の触媒調製用ニッケル化合物原料としては、
一般の有機溶媒に溶解し、かつ400℃以下の温度で熱
分解するものであればいずれでもよい、たとえば、ビス
アセチルアセトナトニッケル、とスジメチルグリオキシ
マトニッケル、ジカルボニルビストリフェニルホスフィ
ンニッケル、ジカルボニルビスシクロペンタジェニルニ
ッケル、ビスシクロペンタジェニルニッケル、アセチレ
ンビスシクロペンタジェニルニッケル、ビスシクロオク
タジエンニッケル、ニッケルアルコキシド、酢酸、ニッ
ケル、硝酸ニッケルおよびそれらの結晶水塩などが好ま
しい。
一般の有機溶媒に溶解し、かつ400℃以下の温度で熱
分解するものであればいずれでもよい、たとえば、ビス
アセチルアセトナトニッケル、とスジメチルグリオキシ
マトニッケル、ジカルボニルビストリフェニルホスフィ
ンニッケル、ジカルボニルビスシクロペンタジェニルニ
ッケル、ビスシクロペンタジェニルニッケル、アセチレ
ンビスシクロペンタジェニルニッケル、ビスシクロオク
タジエンニッケル、ニッケルアルコキシド、酢酸、ニッ
ケル、硝酸ニッケルおよびそれらの結晶水塩などが好ま
しい。
さらに本発明の触媒調製用有機溶媒原料としては、1%
以上の水を含有していないもので、かつ上記ニッケル化
合物を溶解するものであればいずれでもよい。たとえば
、メタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコ
ール類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、エーテ
ルなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族類などが好ましいが、経済性の面からニッケ
ル化合物を多量に溶解するものほど好適である。
以上の水を含有していないもので、かつ上記ニッケル化
合物を溶解するものであればいずれでもよい。たとえば
、メタノール、エタノール、プロパツールなどのアルコ
ール類、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、エーテ
ルなどの炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレンな
どの芳香族類などが好ましいが、経済性の面からニッケ
ル化合物を多量に溶解するものほど好適である。
上記3種類の原料、すなわち高純度超微粉単結晶マグネ
シア、ニッケル化合物および有機溶媒を用い、マグネシ
ア粒子表面にニッケル化合物をインシピエントウェット
ネス法によって担持させ、触媒を調製する。この場合、
ニッケル化合物の担持量としては、マグネシア担体に対
して金属ニッケルとして0.1〜50重量%の範囲が好
ましい。
シア、ニッケル化合物および有機溶媒を用い、マグネシ
ア粒子表面にニッケル化合物をインシピエントウェット
ネス法によって担持させ、触媒を調製する。この場合、
ニッケル化合物の担持量としては、マグネシア担体に対
して金属ニッケルとして0.1〜50重量%の範囲が好
ましい。
0.1重量%以下では、触媒活性が低く、また50重量
%以上ではそれ相応の触媒活性が得られず、かつ経済的
に不利である。
%以上ではそれ相応の触媒活性が得られず、かつ経済的
に不利である。
このようにして1同調したマグネシア、ニッケル化合物
および有機溶媒からなるスラリーを50〜150℃にお
いて乾燥し、有機溶媒を除去する。その際、経済性の面
から有機溶媒を回収し、再使用することが望ましい。次
いで、得られたニッケル化合物担持マグネシアを空気気
流中において400℃以下の比較的低温で熱分解処理を
行う。この温度はニッケル化合物の熱分解温度およびそ
の速度、また安全性の面などを考慮して決める。400
℃以上の温度では、ニッケルとマグネシアとの強固な固
溶体が生成し、次の工程で行われる水素による還元処理
が困難となる。このようにして調製した酸化ニッケル担
持マグネシア粉末を小粒状、タブレット状、円柱状ある
いはリング状などに成形(ペレット化)してニッケル/
マグネシア(Ni/Mg0)系触媒を得る。
および有機溶媒からなるスラリーを50〜150℃にお
いて乾燥し、有機溶媒を除去する。その際、経済性の面
から有機溶媒を回収し、再使用することが望ましい。次
いで、得られたニッケル化合物担持マグネシアを空気気
流中において400℃以下の比較的低温で熱分解処理を
行う。この温度はニッケル化合物の熱分解温度およびそ
の速度、また安全性の面などを考慮して決める。400
℃以上の温度では、ニッケルとマグネシアとの強固な固
溶体が生成し、次の工程で行われる水素による還元処理
が困難となる。このようにして調製した酸化ニッケル担
持マグネシア粉末を小粒状、タブレット状、円柱状ある
いはリング状などに成形(ペレット化)してニッケル/
マグネシア(Ni/Mg0)系触媒を得る。
さらに、このNi/MgO系触媒を用い、高い触媒活性
を得るためには、使用する直前に以下の還元処理を行う
ことが望ましい。すなわち、濃度30〜lOO%の水素
ガス気流中において温度350〜450℃の第一還元処
理および温度600〜750℃の第二還元処理を行って
活性化する。この際の水素ガス流通量の目安は触媒1g
あたり10〜100Ns+l / +*inの範囲であ
り、ニッケル担持割合が多くなるほどその水素ガス流通
量を増す必要がある。
を得るためには、使用する直前に以下の還元処理を行う
ことが望ましい。すなわち、濃度30〜lOO%の水素
ガス気流中において温度350〜450℃の第一還元処
理および温度600〜750℃の第二還元処理を行って
活性化する。この際の水素ガス流通量の目安は触媒1g
あたり10〜100Ns+l / +*inの範囲であ
り、ニッケル担持割合が多くなるほどその水素ガス流通
量を増す必要がある。
なお、本発明の触媒を水蒸気改質反応などに用いる場合
、通常の反応器、たとえば、管型流通反応器(固定床型
)あるいは流動床型反応器などを使用し、また通常の反
応条件で行うことができ、特に限定するものではないが
、本発明の触媒は極めて活性が高いため、通常より反応
温度を低くすることも可能であり、また空間速度(GH
5V)を極端に高くしたり、水蒸気改質の場合水蒸気/
カーボンモル比を小さくすることも可能である。
、通常の反応器、たとえば、管型流通反応器(固定床型
)あるいは流動床型反応器などを使用し、また通常の反
応条件で行うことができ、特に限定するものではないが
、本発明の触媒は極めて活性が高いため、通常より反応
温度を低くすることも可能であり、また空間速度(GH
5V)を極端に高くしたり、水蒸気改質の場合水蒸気/
カーボンモル比を小さくすることも可能である。
高純度超微粉単結晶マグネシア粒子は立方体結晶であっ
て、半結晶位置にあるM g 2−イオンおよび0トイ
オンは3配位の配位不飽和イオンとして活性化状態にあ
る。この状態にあるMgZ+イオンおよびO!−イオン
はマグネシア粒子が微細なほど多(なり、このことは触
媒活性に直接関与する。
て、半結晶位置にあるM g 2−イオンおよび0トイ
オンは3配位の配位不飽和イオンとして活性化状態にあ
る。この状態にあるMgZ+イオンおよびO!−イオン
はマグネシア粒子が微細なほど多(なり、このことは触
媒活性に直接関与する。
また、マグネシアの高塩基性は、通常の触媒において通
常行われているアルカリ化合物の添加の必要なくして炭
素析出速度をきわめて小さいものとする。たとえ炭素析
出があるとしても、マグネシアが超微粉であるため、析
出した炭素粒子がきわめて細かいものとなり、その析出
炭素はガス化しやすく、触媒上に蓄積されない。
常行われているアルカリ化合物の添加の必要なくして炭
素析出速度をきわめて小さいものとする。たとえ炭素析
出があるとしても、マグネシアが超微粉であるため、析
出した炭素粒子がきわめて細かいものとなり、その析出
炭素はガス化しやすく、触媒上に蓄積されない。
さらに、マグネシアは高塩基性であることから、炭酸ア
ルカリの高温蒸気による化学的侵蝕に対しても強い性質
を有している。
ルカリの高温蒸気による化学的侵蝕に対しても強い性質
を有している。
一方、有機溶媒を用いてニッケル化合物をマグネシア表
面に担持させるため、水和等による化学的変化を受けず
、マグネシアの形状や大きさは触媒調製後も不変であり
、前記の活性化状態のまま保持できる。また、インシピ
エントウェットネス法によりニッケル化合物を担持させ
るため、ニッケルの分散がきわめて良好であり、触媒単
位重量あたりの活性ニッケル表面積が大きい。
面に担持させるため、水和等による化学的変化を受けず
、マグネシアの形状や大きさは触媒調製後も不変であり
、前記の活性化状態のまま保持できる。また、インシピ
エントウェットネス法によりニッケル化合物を担持させ
るため、ニッケルの分散がきわめて良好であり、触媒単
位重量あたりの活性ニッケル表面積が大きい。
さらに、ニッケル化合物を比較的低温の400℃以下で
熱分解処理して酸化ニッケノlN1p)を生成させるた
め、遊離のNiOがマグネシア表面に担持されており、
次の工程である還元処理においても比較的低温で還元さ
れ易いこともその作用の一つとしてあげることができる
。また還元工程においては、350〜450℃の第一還
元処理および600〜750℃の第二還元処理を行う。
熱分解処理して酸化ニッケノlN1p)を生成させるた
め、遊離のNiOがマグネシア表面に担持されており、
次の工程である還元処理においても比較的低温で還元さ
れ易いこともその作用の一つとしてあげることができる
。また還元工程においては、350〜450℃の第一還
元処理および600〜750℃の第二還元処理を行う。
第一還元処理のみであっても触媒活性は十分高いものが
得られるが、第二還元処理を行うことによってさらに高
い活性が得られ、かつ安定化される。この理由について
詳細は明らかでないが、これらの触媒が使用される温度
は通常400℃以上のことが多(、それ以上の温度であ
らかじめ還元処理しておく方が好ましいものと考えら・
れる。
得られるが、第二還元処理を行うことによってさらに高
い活性が得られ、かつ安定化される。この理由について
詳細は明らかでないが、これらの触媒が使用される温度
は通常400℃以上のことが多(、それ以上の温度であ
らかじめ還元処理しておく方が好ましいものと考えら・
れる。
〔実施例]
以下、実施例および比較例を示し、本発明をさらに説明
する。
する。
実施例f)よび2
気相酸化法製高純度超微粉単結晶マグネシア(平均粒径
500人、BET比表面積30nr/g)10gにビス
アセチルアセトナトニッケルのトルエン溶液を加えて、
インシピエントウェットネス法によりニッケル化合物を
担持させた後、90“Cで吸引しながらトルエンを除去
した。この乾燥物を大気気流中400℃で6時間熱分解
処理してアセチルアセ1ンに完全に分解させた。こうし
て得られたNi/MgO系触媒のニンケル担持量を原子
吸光法により分析した結果、マグネシアに対して金属ニ
ッケルとして18重量%であった。
500人、BET比表面積30nr/g)10gにビス
アセチルアセトナトニッケルのトルエン溶液を加えて、
インシピエントウェットネス法によりニッケル化合物を
担持させた後、90“Cで吸引しながらトルエンを除去
した。この乾燥物を大気気流中400℃で6時間熱分解
処理してアセチルアセ1ンに完全に分解させた。こうし
て得られたNi/MgO系触媒のニンケル担持量を原子
吸光法により分析した結果、マグネシアに対して金属ニ
ッケルとして18重量%であった。
さらにこのNi/MgO系触媒試料を1〜3飾に造粒し
、その一部約1gを通常の固定床型流通反応器にセット
し、まず100%水素ガス10100N / min、
温度400℃1圧力1atm、、時間2hの条件で第一
還元処理、および100%水素ガス10100N /
min、温度725℃1圧力1aLm、、時間1hの条
件で第二還元処理を行った後、HzO/Ct14モル比
2.5の混合ガスをINI/min、圧力1atm、の
条件下で流通させた。反応温度625℃(実施例1)お
よび800℃(実施例2)において得られた反応器出口
ガス成分をガスクロマトグラフィで分析し、その結果を
表1に示す。
、その一部約1gを通常の固定床型流通反応器にセット
し、まず100%水素ガス10100N / min、
温度400℃1圧力1atm、、時間2hの条件で第一
還元処理、および100%水素ガス10100N /
min、温度725℃1圧力1aLm、、時間1hの条
件で第二還元処理を行った後、HzO/Ct14モル比
2.5の混合ガスをINI/min、圧力1atm、の
条件下で流通させた。反応温度625℃(実施例1)お
よび800℃(実施例2)において得られた反応器出口
ガス成分をガスクロマトグラフィで分析し、その結果を
表1に示す。
表 1
表 2
実施例3〜6および比較例1
ニッケル担持量18重量%を約0 、0.1 、5 。
25 、50重量%に代えた以外は、実施例1と同様に
Ni/MgO系触媒を調製し、さらに還元処理、触媒活
性試験を行った。その結果を表2に示す。
Ni/MgO系触媒を調製し、さらに還元処理、触媒活
性試験を行った。その結果を表2に示す。
実施例7〜9
高純度超微粉単結晶マグネシア平均粒径500人の代り
に同マグネシア平均粒径100人、 1,000人あ
るいは2,000人(それぞれ実施例7.8および9)
を用いた以外は、実施例1と同様に触媒調製、還元処理
および触媒活性試験を行った。その結果を表3に示す。
に同マグネシア平均粒径100人、 1,000人あ
るいは2,000人(それぞれ実施例7.8および9)
を用いた以外は、実施例1と同様に触媒調製、還元処理
および触媒活性試験を行った。その結果を表3に示す。
表 3
表 4
比較例2および3
高純度超微粉単結晶マグネシア平均粒径500人の代り
に市販の液相決裂マグネシア(平均粒径500人、BE
T比表面積30イ/g)あるいは市販のアルミン酸リチ
ウム(平均粒径500 A、BET比表面積30rrf
/g)を用いた以外は、実施例1と同様に触媒調製、還
元処理および触媒活性試験を行った。その結果を表4に
示す。
に市販の液相決裂マグネシア(平均粒径500人、BE
T比表面積30イ/g)あるいは市販のアルミン酸リチ
ウム(平均粒径500 A、BET比表面積30rrf
/g)を用いた以外は、実施例1と同様に触媒調製、還
元処理および触媒活性試験を行った。その結果を表4に
示す。
実施例10−15および比較例4〜5
ビスアセチルアセトナトニツケルのトルエン溶液の代り
に、ビスジメチルグリオキシマトニッケルのエタノール
溶液(実施例1O)、ビスシクロペンタジェニルニッケ
ルのエーテル溶液(実施例11)、アセチレンビスシク
ロペンタジェニルニッケルのへブタン溶液(実施例12
)、ニッケルア、ルコキシドのイソプロパツール溶液(
実施例13)、酢酸ニッケルのエタノール溶液(実施例
14)、硝酸ニッケルのエタノール溶液(実施例15)
、ビスアセチルアセトナトニッケルのトルエン溶液(比
較例4)あるいは硝酸ニッケルの水・溶液(比較例5)
を用い、熱分解処理の条件をそれぞれ下記のように代え
た以外は、実施例1と同様に触媒調製、還元処理および
触媒活性試験を行った。その結果を表5に示す。
に、ビスジメチルグリオキシマトニッケルのエタノール
溶液(実施例1O)、ビスシクロペンタジェニルニッケ
ルのエーテル溶液(実施例11)、アセチレンビスシク
ロペンタジェニルニッケルのへブタン溶液(実施例12
)、ニッケルア、ルコキシドのイソプロパツール溶液(
実施例13)、酢酸ニッケルのエタノール溶液(実施例
14)、硝酸ニッケルのエタノール溶液(実施例15)
、ビスアセチルアセトナトニッケルのトルエン溶液(比
較例4)あるいは硝酸ニッケルの水・溶液(比較例5)
を用い、熱分解処理の条件をそれぞれ下記のように代え
た以外は、実施例1と同様に触媒調製、還元処理および
触媒活性試験を行った。その結果を表5に示す。
表 5
実施例16〜18
第一還元処理温度400℃を350℃に(実施例16)
、第二還元処理温度725℃を600°cに(実施例1
7)あるいは第一還元処理条件の濃度100%の水素ガ
ス10100N/win 、温度400℃1圧力1at
11.、時間2hを濃度30%の水素ガス2008m1
./win 、温度350℃1圧力fats、、時間4
hに、さらに第二還元処理条件の濃度100%の水素ガ
ス10100N/ff1in 、温度725℃1圧力1
atII+、、時間1hを濃度30%の水素ガス20O
Nml/win 、温度600℃1圧力1at11.、
時間2hに(実施例18)代えた以外は実施例1と同様
に触媒調製および触媒活性試験を行った。その結果を表
6に示す。
、第二還元処理温度725℃を600°cに(実施例1
7)あるいは第一還元処理条件の濃度100%の水素ガ
ス10100N/win 、温度400℃1圧力1at
11.、時間2hを濃度30%の水素ガス2008m1
./win 、温度350℃1圧力fats、、時間4
hに、さらに第二還元処理条件の濃度100%の水素ガ
ス10100N/ff1in 、温度725℃1圧力1
atII+、、時間1hを濃度30%の水素ガス20O
Nml/win 、温度600℃1圧力1at11.、
時間2hに(実施例18)代えた以外は実施例1と同様
に触媒調製および触媒活性試験を行った。その結果を表
6に示す。
表 6
実施例19
Ni担持量18重量%の代りに2重量%、および第一な
らびに第二還元処理条件の水素ガス流量1010O8/
winの代りに15Nn+l /sinに代えた以外は
、実施例1と同様に触媒調製および触媒活性試験を行っ
た。その結果を表7に示す。
らびに第二還元処理条件の水素ガス流量1010O8/
winの代りに15Nn+l /sinに代えた以外は
、実施例1と同様に触媒調製および触媒活性試験を行っ
た。その結果を表7に示す。
表 7
但し、触媒ニッケル担持量は2重量%
比較例6〜8
第一還元処理温度400℃の代りに500″Cに(比較
例6)、第二還元処理温度725℃の代りに800℃に
(比較例7)、あるいは第一還元処理温度400℃の代
りに500℃ならびに第二還元処理温度725℃の代り
に800℃に(比較例8)代えた以外は、実施例1と同
様に触媒調製および触媒活性試験を行った。
例6)、第二還元処理温度725℃の代りに800℃に
(比較例7)、あるいは第一還元処理温度400℃の代
りに500℃ならびに第二還元処理温度725℃の代り
に800℃に(比較例8)代えた以外は、実施例1と同
様に触媒調製および触媒活性試験を行った。
その結果を表8に示す。
表 9
実施例22〜23および比較例12〜15実施例1ON
i/MgO系触媒、比較例2のNi/MgO系触媒、あ
るいは比較例3のNi/LiAl’Oz系触媒を約1g
用い、通常の固定床型反応器にセットし、実施例1と同
様の還元処理を行った後、)1./COモル比3.0の
混合ガスを20ONa+I/ll1n 、1at11.
の条件下で流通させた6反応温度300℃あるいは40
0゛Cにおける結果をそれぞれ表10に示す。
i/MgO系触媒、比較例2のNi/MgO系触媒、あ
るいは比較例3のNi/LiAl’Oz系触媒を約1g
用い、通常の固定床型反応器にセットし、実施例1と同
様の還元処理を行った後、)1./COモル比3.0の
混合ガスを20ONa+I/ll1n 、1at11.
の条件下で流通させた6反応温度300℃あるいは40
0゛Cにおける結果をそれぞれ表10に示す。
表 8
実施例20〜21および比較例9〜12実施例IのNi
/MgO系触媒、比較例2の液相法制マグネシアを用い
たNi/MgO系触媒あるいは比較例3のアルミン酸リ
チウムを用いたNi/LjAlO□系触媒それぞれ約1
gを用い、HzO/CLモル比2.5の混合ガスINI
/winを5NI、/winあるいは10 Nl/si
nに代えた以外は、実施例1と同様に触媒活性試験を行
った。その結果を表9に示す。
/MgO系触媒、比較例2の液相法制マグネシアを用い
たNi/MgO系触媒あるいは比較例3のアルミン酸リ
チウムを用いたNi/LjAlO□系触媒それぞれ約1
gを用い、HzO/CLモル比2.5の混合ガスINI
/winを5NI、/winあるいは10 Nl/si
nに代えた以外は、実施例1と同様に触媒活性試験を行
った。その結果を表9に示す。
表 10
なお、いずれの実施例においても反応後触媒に炭素の析
出はみられなかった。また反応後の触媒に比表面積の変
化も認められなかった。
出はみられなかった。また反応後の触媒に比表面積の変
化も認められなかった。
本発明の触媒およびその調製方法は、炭化水素の水蒸気
改質、合成ガスのメタネーションなどに好適なニッケル
/マグネシア系触媒に関するものであり、本発明の方法
に従って触媒を調製すれば以下の効果が顕著に認められ
る。すなわち、■触媒活性が高く、空時収率が極めて高
い。特にこのことは反応温度が比較的低温域あるいは高
空間速度域において顕著である。■炭素の析出が認めら
れず、寿命が長い。■耐熱性が高く、失活がない。
改質、合成ガスのメタネーションなどに好適なニッケル
/マグネシア系触媒に関するものであり、本発明の方法
に従って触媒を調製すれば以下の効果が顕著に認められ
る。すなわち、■触媒活性が高く、空時収率が極めて高
い。特にこのことは反応温度が比較的低温域あるいは高
空間速度域において顕著である。■炭素の析出が認めら
れず、寿命が長い。■耐熱性が高く、失活がない。
■アルカリなどの飛散がなく、反応器や配管などの腐蝕
がない。■炭酸アルカリ塩の高温蒸気による化学的侵蝕
を受けない。
がない。■炭酸アルカリ塩の高温蒸気による化学的侵蝕
を受けない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、平均粒径100〜2000Å(BET比表面積6〜
170m^2/g)の高純度超微粉単結晶マグネシア担
体表面に均一に十分よく分散された金属ニッケルまたは
酸化ニッケルがマグネシア担体に対して金属ニッケルと
して0.1〜50重量パーセント担持されていることを
特徴とする高活性ニッケル系触媒。 2、高純度超微粉単結晶マグネシア、ニッケル化合物お
よび有機溶媒を混合して、マグネシア担体表面にニッケ
ル化合物をインシピエントウェットネス法により均一に
十分よく分散担持させた後、有機溶媒を除去し、さらに
空気気流中においてニッケル化合物前駆体を400℃以
下の比較的低温で熱分解処理して活性化することを特徴
とする高活性ニッケル系触媒の調製方法。 3、高純度超微粉単結晶マグネシア、ニッケル化合物お
よび有機溶媒を混合して、マグネシア担体表面にニッケ
ル化合物をインシピエントウェットネス法により均一に
十分よく分散担持させた後、その有機溶媒を除去した混
合物を空気気流中において400℃以下の比較的低温で
熱分解処理して活性化し、さらにこれを成形ペレット化
した後、濃度30〜100パーセントの水素ガス気流中
において温度350〜450℃の第一還元処理および温
度600〜750℃の第二還元処理を行って活性化する
ことを特徴とする高活性ニッケル系触媒の調製方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1065965A JPH02245239A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高活性ニッケル系触媒およびその調製方法 |
EP90302618A EP0389158A1 (en) | 1989-03-20 | 1990-03-12 | High activity nickel catalyst and process for preparation thereof |
US07/495,047 US5053379A (en) | 1989-03-20 | 1990-03-19 | High-activity nickel catalyst and process for preparation thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1065965A JPH02245239A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高活性ニッケル系触媒およびその調製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02245239A true JPH02245239A (ja) | 1990-10-01 |
Family
ID=13302216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1065965A Pending JPH02245239A (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 高活性ニッケル系触媒およびその調製方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5053379A (ja) |
EP (1) | EP0389158A1 (ja) |
JP (1) | JPH02245239A (ja) |
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DE4310053A1 (de) * | 1993-03-27 | 1994-09-29 | Hoechst Ag | Hydrierkatalysator, ein Verfahren zur Herstellung und Verwendung |
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US7585990B2 (en) | 2003-07-31 | 2009-09-08 | Cargill, Incorporated | Low trans-fatty acid fat compositions; low-temperature hydrogenation, e.g., of edible oils |
US8067332B2 (en) * | 2006-05-03 | 2011-11-29 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Methanation catalyst, and carbon monoxide removing system, fuel processor, and fuel cell including the same |
CN102909085A (zh) * | 2012-10-12 | 2013-02-06 | 安徽工程大学 | 一种加氢催化剂颗粒 |
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US11311869B2 (en) | 2019-12-03 | 2022-04-26 | Saudi Arabian Oil Company | Methods of producing isomerization catalysts |
US11517892B2 (en) | 2019-12-03 | 2022-12-06 | Saudi Arabian Oil Company | Methods of producing isomerization catalysts |
US11679378B2 (en) | 2021-02-25 | 2023-06-20 | Saudi Arabian Oil Company | Methods of producing isomerization catalysts |
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US2951044A (en) * | 1955-07-18 | 1960-08-30 | Degussa | Stable dispersions of metal oxide blends and process for their manufacture |
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JPS5432365B2 (ja) * | 1972-05-24 | 1979-10-13 | ||
FR2196193B1 (ja) * | 1972-08-18 | 1977-08-26 | Anvar | |
CA1008668A (en) * | 1972-11-28 | 1977-04-19 | Kunihiko Uemoto | Low-temperature steam reforming process for hydrocarbons |
JPS5550080B2 (ja) * | 1972-11-28 | 1980-12-16 | ||
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-
1989
- 1989-03-20 JP JP1065965A patent/JPH02245239A/ja active Pending
-
1990
- 1990-03-12 EP EP90302618A patent/EP0389158A1/en not_active Withdrawn
- 1990-03-19 US US07/495,047 patent/US5053379A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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US5053379A (en) | 1991-10-01 |
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