JPH02241563A

JPH02241563A - 静電塗着方法及びその装置

Info

Publication number: JPH02241563A
Application number: JP6205189A
Authority: JP
Inventors: Heihachiro Oda; 小田　平八郎
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1989-03-16
Filing date: 1989-03-16
Publication date: 1990-09-26
Anticipated expiration: 2014-04-19
Also published as: JP2883346B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔発明の目的〕（産業上の利用分野）本発明は、例えば小形アモルファス可飽和コアの量産用
絶縁保護被覆を行うための絶縁被覆方法及びその装置に
関する。

（従来の技術）近時、断面がドーナツ形の小形アモルファス可飽和コア
が量産されている。このコアは、アモルファス薄帯を巻
き重ねて作り、熱処理したもので、金属質であるが非常
に脆い状態になっている。

これを電子部品として用いるため、保６膜塗布１こより
、電気的絶縁性を付与するとともに、形状保持をはかつ
ている。

この場合の、保護塗膜としては、従来、特開照６３−５
４９７４号公報に開示されているように、エポキシ樹脂
粉体塗料が用いられている。ところで、この従来の粉体
塗装は、予熱したコアに粉体を付着し、その後にコアに
付着した粉体を加熱硬化（キュア）することにより、コ
ア表面に絶縁被膜を形成するものである。そうして、こ
の場合、浸漬流動法によるバッチ処理でコアに粉体を塗
布している。

しかしながら、このようなバッチ処理では、個体コアの
体積が大きく、粉末を熱融解するに足りる熱容量を必要
とする。したがって、熱容量の小さい小形アモルファス
可飽和コアには適用が困難である。

そこで、従来においては、熱容量の小さいコアは、個々
それぞれを２本の糸で方向を揃え、接着剤で固定しつる
し上げた後、加熱及び粉体への浸漬の作業を２〜３回繰
返し、必要量の粉末を熱融解して塗着している。ついで
、所定量の塗着を得たコアは、本キュアして冷却後、保
持したつるし糸を切り離す。そうして、必要１こ応じて
、つるし糸の切断部をシール材で補修し、絶縁性を保つ
。

しかるに、このような従来のつるし糸を用いる方法は、
量産性に乏しく、製造コストの上昇を招く欠点をもって
いる。

（発明が解決しようとする課題）前述したように、従来の絶縁被覆方法は、連続加工法の
適用が困難であるため量産性ｌこ乏しい欠点をもってい
る。

この発明は、前記事情を勘案してなされたもので、小形
アモルファス可飽和コアの絶縁保護被覆を連続的に、か
つ、糸や接着剤等の副資材を用いることなく大量加工す
ることのできる絶縁被覆方法及びその装置を提供するこ
とを目的とする。

〔発明の構成〕

（課題を解決するための手段と作用）円筒形をなすワークを円柱状の保持治具に遊挿保持させ
た状態で、ワークに絶縁被覆となる粉体を静電塗着した
後、ワークを高周波誘導加熱法番こより仮キュア後、遠
赤外線加熱法により本キュアすることにより絶縁被覆を
高能率かつ高精度で形成するようにしたものである。

（実施例）以下、本発明の一実施例を図面を参照して詳述する。

第１図囚、（８）は、この実施例において絶縁被覆され
るコア局を示している。このコアＷは、内径４．０〜４
．５鱈、外径４．５〜８．０園であり、長さは３．０〜
４．５鴫であって、コバルト系のアモルファル薄帯を円
筒形に巻回したものである。

また、第２図は、コア（５）を保持するための保持治具
０を示している。この保持治具０は、両端部がテーパ部
（１）、　（１）となっていてこれらテーパ部（１）。

（１）に嵌合穴（２）、　（２）が設けられている円柱
状のテフロン（商品名：　Ｄｕ　ｐｏｎｔ社製）製雌部
（３）と、この雌部（３）の嵌合穴（２）、　（２）に
嵌入するピン部（４）、　（４）を有する銅（Ｃｕ）　
、アルミニウム（ＡＩ）などの電気抵抗が比較的小さい
一対の雄部（５１，（５）とからなっている。そうして
、雄部（５）は、コア局を遊挿させて保持するピン部（
４）と、このピン部（４）が同軸に突設された円柱状の
支持部（６）とからなっている。この支持部（６）のピ
ン部（４）が突設されている基端部には、テーパ部（７
）が付けられている。しかして、一対の雄部（５）、　
（５）　、ピン部（４１，（＜が雌部（３）の嵌合穴（
２）。

（２）に嵌入している状態で、雄部（５）、（５）と雌
部（３）とは同軸となっている。したがって、ピン部（
４）、　（４）に一対のコアＭ、　（９１嵌挿されてい
るとすると、これら一対のコア（５）、＠は、互に同軸
となりている。

一方、第３図は、この実施例の絶縁被覆装置であって、
環状に配置され矢印（８）方向に保持治具Ｉ及びこの保
持治具Ｉに遊挿状態で保持されたコアＷ、岡をエンドレ
スチェーンによりそれらの軸線のまわりに回転させなが
ら送行させる搬送コンベア（９）と、第２図においてピ
ン部（４）、　（４）に遊挿されているコアＷ９局がテ
ーパ部（１）、　（１）　、　（７）、　（力に接触し
ないようにピン部（４）、　（４）の中央部に位置決め
する第１のワーク整列機（１１と、この第１のワーク整
列機ａ値を経由してきた保持治具０１こ保持されたコア
（５）、局にエポキシ樹脂からなる粉体を静電流浸法（
こより塗着するための静電粉体塗装機αυと・、この靜
電粉体塗装機住旧こて粉体が塗着しているコアＷ、Ｗを
肪導加熱することによりコア（５）、Ｗ及び保持治具（
財）に静電塗着している粉体を仮キュアする仮キ轟ア加
熱炉αりと、加圧空気を噴出するエアノズル（図示せず
。）から圧縮空気を噴射し仮キュア終了後のコア局、■
以外の保持治具０部分に付着している粉体を除去するエ
アブロ−装置（１３と、このエアブロ−装置α謙にて余
分の粉体が除去されたコアＷ、Ｗを保持治具０から取り
はずし、搬送コンベア（９）により搬送されているワー
ク整列板（Ｓ）・・・上に載置する第２のワーク整列機
Ｉと、この第２のワーク整列機ａ４によりワーク整列板
（８）・・・上Ｉこ載置されているコア局・・・を遠赤
外加熱することによりコア（５）、＠ｌζ静電塗着して
いる粉体を本キュアする本キュア加熱炉（１！９と、本
キュア終了後のコア（５）・・・にエアを吹き付けて強
制空冷する空冷装置（ｌｅト、エアフロー装置ｕ３番ご
て脱落した粉体を回収して静電粉体塗装機αυに戻す粉
体回収装置住ηとから構成されている。なお、本キ晶ア
加熱炉α９は、中間で、ワーク（５）の反転を行ない、
ワークＷの両面をキュアーするようになっている。しか
して、上記静電粉体塗装機ａυは、第４図に示すように
、粉体層住樽が格納される流浸槽翰を有している。この
流浸槽αωの中段部には、多孔板端が配設されて、この
多孔板端上に粉体層αｌが載置されるようになっている
。また、多孔板（至）と流浸槽ａ］の下半分により形成
される下部室−は、気密に設けられていて、この下部室
＠には、流動化空気＠を噴出する空気管＠、Ｃ４が連通
している。また、多孔板（イ）には、荷電電極（ホ）・
・・が埋設されている。これら荷電電極（ハ）・・・に
は、電線（２５ａ）により直流の高電圧が印加される。

しかして、荷電電極（ハ）・・・に例えば４５〜５０Ｋ
Ｖの負電圧が印加され、かつ、多孔板翰を介して下部室
＠から上部室（イ）に流動化空気（ハ）が送入されると
、多孔板（至）上の粉体層ａＦｊは、流動化（ニアレイ
ト：　ａｅｒａｔｅ　）され、粉体層α樽は流動層とな
る。そうして、この流動化した粉体層特甲の空気は、空
気の電離により荷電される。この帯電した空気は、粉体
の粒子と衝突することにより空気の電荷が粉体粒子に移
行し、荷電電極（ハ）・・・と同じ符号の電荷をもつよ
うになる。その結果、荷電した粉体粒子は、互に反発し
、上方に移動することにより、粉体層←尋の上に帯電し
た粉体粒子のクラウド罰が発生する。このクラウド（２
）中を接地状態の搬送コンベア（９２に保持されたコア
局が通過すると、帯電した粉体粒子がコア局及び保持治
具０に静電塗着する。一方、仮キュア加熱炉αりは、第
５図及び第６図に示すように、一対の互に対向する棒状
の誘導コイル（至）、＠を２組有し、これら各誘導コイ
ル弼・・・は、保持治具０に保持された一対のコア（５
）、（５）の直上となるように、保持治具０に平行に沿
う上方位置ｉζ配設されている。そうして、定電流制御
の電源（Ｅ８）から誘導コイル（至）・・・１ζ、例え
ば周波数１００〜１２０ｋｌＬｇの高周波電流を例えば
３に１で印加すると、コア局・・・には、渦電流が誘起
され、コア局・・・は、時間の経過とともに例えば９５
〜１００℃付近まで加熱される。さらに、本キ１ア加熱
炉αＧは、第７図に示すように、コア局・・・が載置さ
れたワーク整列板（８）・・・の進行方向に沿って設け
られた一対の遠赤外線加熱パネル（１５す。

（１ｓａ）’と、これら遠赤外線加熱パネル（１５ａ）
、　（１５Ｍ）’間に設けられワーク反転機（１５ｂ）
とからなっている。しかして、上記遠赤外線加熱パネル
（１５ａ）、　（１５ａ）／は、静電粉体の素材である
エポキシ樹脂に最も吸収され易い遠赤外線をコア（５）
・・・に対して照射するものである。一方、ワーク反転
！　（１５ｂ）は、コア周を磁気的に吸着して、一方の
端面を上にしてワーク整列板（８）上に載置されている
コア局を、他方の端面が上になるように反転させるもの
である。

つぎに、上記構成の装置を用いてこの実施例の絶縁被憶
方法について述べる。

まず、一対のコア（５）１局をビン部（４）、　（４）
に遊挿させる。ついで、ビン部（４）、　（４）を雌部
（５）、（５）の嵌合穴（２）、　（２）に嵌入した後
、各コア局、（５）をテーパ部（１）、　（１）、　（
７）、　（７）の中央部に位置決めする。つぎに、コア
（５）１局を保持している保持治具０を搬送コンベア（
９）に移載し、矢印（８）方向に送行する。そうして、
この搬送コンベア（９３により保持治具０が第１の位置
整列機ａ〔まで搬送されると、保持治具０により保持さ
れているコア間１局は、テーパ部（１）。

（１）、　（７）、　（７）に接触しないようにビン部
（４）、　（４）の中央部ｌこ位置決めされる（第２図
参照）。ついで、この第１の位置整列機（１１によりコ
ア（Ｎ、　Ｈの位置が整列された保持治具■は、接地さ
れた状態で搬送コンベア（９）により、軸線のまわりに
例えば毎分２０〜３０回転で転動しながら静電粉体塗装
機αυ中を通過する（第４図参照）。すると、コアＷ。

周は、エポキシ樹脂からなる粉体層部上の４５〜５０Ｋ
ｖに負帯電したクラウド（５）中を通過する。すると、
第８図に示すように、コアＷ、Ｗの内外周面並びに両端
面には、クラウド（財）を構成している帯電した粉体粒
子が静電塗着する。このとき、コア（５）、Ｗを保持し
ている保持治具Ｕにも粉体が静電塗着する。つぎに、エ
ポキシ樹脂粉体（２）が静電塗着されたコア周２周とこ
れらを保持している保持治具Ｉは、搬送コンベア（９）
により仮キュア加熱炉αりまで搬送される。この仮キュ
ア加熱炉（Ｌりにては、コアＷ、鞠が遊挿されている保
持治具Ｉは、誘導コイル（ハ）・・・直下を移動する。

このとき、これらの誘導コイル（至）・・・には、１０
０〜２００にムの高周波電流が３にＷで印加されている
。その結果、第９図に示すように、コア（５）１問は、
９５〜１００℃に誘導加熱され、静電塗着しているエポ
キシ樹脂粉体（至）は溶融し、仮キ晶アが行われ絶縁被
覆（６）が形成される（８６図参照）。このとき、保持
治具Ｈに塗着している粉体（ト）は、溶融せず粉体のま
まである。ついで、仮キュア終了後のコア（５）１局を
保持している保持治具０は、搬送コンベア（９）により
、エアブロ−装置０３にまで搬送され、このエアブロ−
装置α国のエアノズルから圧縮空気を噴射することによ
り仮キュアされたコアＷ、（５）及び保持治具Ｉに付着
している余分のエポキシ樹脂粉体（至）が除去される（
第１０図参照）。このとき、コア局１局に形成されてい
る仮キュアされた絶縁被覆（６）、■）はそのままの状
態で残る。なお、このとき脱落した粉体は、粉体回収装
置αηにより回収され、静電粉体塗装機ａυに戻される
。つぎに、エアブロ−処理後、コア局、Ｗを保持してい
る保持治具■は、搬送コンベア（９）により第２のワー
ク整列機Ｑ４）にまで搬送され、この第２のワーク整列
機Ｉにより、コア局２局は、保持治具０から取りはずさ
れ、ワ一り整列板（Ｓ）・・・上に載置される。つづい
て、第２のワーク整列機ＩによりコアＷ・・・が載置さ
れたワーク整列機（Ｓ）・・・は、搬送コンベア（９）
により、本キネア加熱炉（ｌ！９まで搬送される。この
本キ具ア加熱炉住９にては、まず最初の遠赤外線加熱パ
ネル（１５ａ）によりワーク整列板（８）・・・上のコ
アＷ・・・の表面側を遠赤外線照射する。つぎに、ワー
ク反転機Ｑｓｂ）によりコアＷ・・・を反転した後、表
面側が遠赤外線照射されたコアＷ・・・の裏面側を遠赤
外線照射する。

その結果、第１０図参照（Ｂ）に示すように、コアＷ・
・・の全面には本キュアされた絶縁被覆（ト）・・・が
形成される。つぎに、本キュア終了後のコアＷ・・・を
載置しているワーク整列板（Ｓ）・・・は、搬送コンベ
ア（９）により空冷装置αｅに搬送され、エアにより約
３０秒間空冷される。ついで、空冷後のコア局１局を整
列板（８・・・から取り外し、一連の工程を終了する。

以上のように、本実施例は、エポキシ樹脂粉体の塗着ｉ
こ靜電流浸法を利用しているので、流動浸漬法のように
、あらかじめコア（５）、（５）を予熱する必要がない
。したがりて、コア局、（５）が小型で熱容量が小さく
とも、コアＷ、（５）の全面に十分な量の粉体層を塗着
することができ、なおかつ膜厚が均一な絶縁被覆（ト）
を得ることができる。さらに、コア（５）・・・の加熱
方法として、高周波誘導加熱法とこれに続く赤外線加熱
法の組み合わせを採用しているので、コアＷ・・・のみ
を選択的かつ効率的に加熱することが可能となる。した
がって、短時間加熱が可能となり、しかも、装置自体は
高温にならず、装置の小型化が可能となる。また、加熱
条件の変更は、印加電圧の切替で迅速に対処でき、多品
種中小量生産にも適合したものとなる。

なお、上記実施例における保持治具０は、一対のコア（
５）９局を同時に保持するよう（こしているが、１個の
コア（５）又は３個以上のコアＷ・・・を保持させるよ
うにしてもよい。さらに、静電塗着法としては、静電流
浸法に限ることなく例えば静電粉体吹付法など他の方法
を採用してもよい。さらに、上記実施例の靜電流浸法に
ては、流浸槽傾の下部室臼から流動化空気（ハ）を噴出
する方式を採用しているが、クラウド罰の形成が可能で
あれば、空気を噴出しない方式を採用してもよい。さら
に、第１の位置整列機Ｑｌからエアブロ−装置（Ｉ３ま
での工程を繰返し行うようにして粉体を多層に塗り重ね
るようにしてもよい。このとき、静電塗着される粉体の
種類を変えること番こより、異種材料を塗り重ねること
ができる。さらに、粉体の種類としても、エポキシ樹脂
ｉこ限ることなく、ポリエチレン、アクリル、ポリエス
テル、ナイロン等を用いてもよい。さらｌこ、仮キュア
工程と本キュア工程に同一の加熱炉を用いるようにして
もよい。

〔発明の効果〕

本発明は、絶縁被覆用のプラスチック樹脂粉体の円筒状
のワークの塗着に静電塗着法を採用しているので、あら
かじめワークを予熱する必要がなくなる。したがって、
ワークの熱容量の大小により塗着状態に影響を受けるこ
とがなくなり、ワークの全面に均一な膜厚の絶縁被覆を
得ることができる。さらに、ワークの加熱方法として、
高周波誘導加熱法とこれに続く赤外線加熱法の組み合わ
せを採用しているので、ワークのみが選択的Ｉこ発熱し
、短時間加熱が可能となる。また、加熱条件の変更は、
印加電圧の切替で迅速に対処でき、多品種中小量生産に
も適合したものとなる。

縁被覆方法において絶縁被覆されるコアの正面図及びＩ
−１線に沿う矢視断面図、第２図は第１図に示すコアを
保持するための保持治具、第３図乃至第７図は本発明の
一実施例の絶縁被覆装置の構成図、第８図乃至第１０図
は本発明の一実施例の絶縁被覆方法の説明図、第１１図
囚、（日はそれぞれ絶縁被覆されたコアの正面図及び■
−■線に沿う矢視断面図、である。

局・・・コア（ワーク）、（Ｉｌ・・・保持治具。

（９）・・・搬送コンベア（ワーク搬送部）。

αυ・・・静電粉体塗装機（静電粉体塗着部）。

ｕ３・・・仮キュア加熱炉（仮キュア加熱部）。

αト・・エアブロ−装置（粉体除去部）。

（１！１９・・・本キュア加熱炉（本キュア加熱部）。

（＾）（８ン第図第　８　図第　３　口第　９　凹第　　４　　口第　１０　　図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）中空円筒形をなす金属製のワークの全面に絶縁被
覆を形成する絶縁被覆方法において、円柱状の保持治具
に上記ワークを遊挿させて上記ワークの全面に上記絶縁
被覆となる粉体を静電塗着する静電塗着工程と、この静
電塗着工程後に上記ワークに静電塗着している粉体を高
周波誘導加熱して融解させる仮キュア工程と、この仮キ
ュア工程にて融解塗着している絶縁被覆に遠赤外線を照
射し加熱硬化させる本キュア工程とを具備することを特
徴とする絶縁被覆方法。
（２）円柱状の保持治具に遊挿保持された中空円筒形を
なす金属製のワークの全面に絶縁被覆を形成する絶縁被
覆装置において、上記保持治具に遊挿保持されているワ
ークの全面に上記絶縁被覆となる粉体を静電塗着する静
電粉体塗着部と、上記保持治具に保持されているワーク
を高周波誘導加熱し上記静電粉体塗着部にて塗着されて
いる粉体の仮キュア処理を行う仮キュア加熱部と、この
仮キュア処理されたワークに遠赤外線を照射し加熱硬化
させる本キュア加熱部とを具備することを特徴とする絶
縁被覆装置。