JPH02236192A - 放射線検出器の実装方法 - Google Patents
放射線検出器の実装方法Info
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- JPH02236192A JPH02236192A JP5702289A JP5702289A JPH02236192A JP H02236192 A JPH02236192 A JP H02236192A JP 5702289 A JP5702289 A JP 5702289A JP 5702289 A JP5702289 A JP 5702289A JP H02236192 A JPH02236192 A JP H02236192A
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- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は放射線線量計、医療用放射線診断装置、工業用
非破壊検査装置等に用いられる放射線検出器の実装方法
に関するものである。
非破壊検査装置等に用いられる放射線検出器の実装方法
に関するものである。
従来の技術
半導体放射線検出器は従来の気体検出器に比べ放射線の
吸収係数が大きいことから微小な体積でも高感度であり
、また半導体結晶に入射した放射線の光子が直接電荷に
変換され電気信号として出力されるので、シンチレーシ
ロン検出器のように光電変換系を別途設けて検出器を構
成する必要がなく検出器サイズを小さく抑えられる事か
ら、様々な用途への応用が注目されている。
吸収係数が大きいことから微小な体積でも高感度であり
、また半導体結晶に入射した放射線の光子が直接電荷に
変換され電気信号として出力されるので、シンチレーシ
ロン検出器のように光電変換系を別途設けて検出器を構
成する必要がなく検出器サイズを小さく抑えられる事か
ら、様々な用途への応用が注目されている。
中でも、多チャンネル型の放射線検出器への応用におい
ては高感度であることから単位検出素子のサイズが小さ
くでき、従来の検出器にないような高い空間分解能が実
現可能である。
ては高感度であることから単位検出素子のサイズが小さ
くでき、従来の検出器にないような高い空間分解能が実
現可能である。
このような多チャンネル型の検出器の実用化にあったっ
て重要なポイントの一つは、放射線の入射により各単位
検出素子で発生した信号電荷を外部回路系へ取り出す為
の配線である。特に検出器の空間分解能を高めるほど単
位検出素子のサイズが小さくなり素子密度が高まる。配
線密度も必然的に高まる。
て重要なポイントの一つは、放射線の入射により各単位
検出素子で発生した信号電荷を外部回路系へ取り出す為
の配線である。特に検出器の空間分解能を高めるほど単
位検出素子のサイズが小さくなり素子密度が高まる。配
線密度も必然的に高まる。
このような高密度配線を行う手段としてフイルムキャリ
アーを使用し各々の電極とフィンガーリードとを導電性
ペーストや半田で接続する方法が考えられる。
アーを使用し各々の電極とフィンガーリードとを導電性
ペーストや半田で接続する方法が考えられる。
発明が解決しようとする課題
ところが素子密度が高まると必然的に電極面積も小さく
なり、導電性ペーストや半田が電極以外の表面に回り込
み検出器特性に悪影響を与える可能性が大きくなる。ま
た、電極間の距離も短くなるので隣接する電極に導電性
ペースト等が回り込み単位検出素子間が電気的に短絡す
る確率も高まる。
なり、導電性ペーストや半田が電極以外の表面に回り込
み検出器特性に悪影響を与える可能性が大きくなる。ま
た、電極間の距離も短くなるので隣接する電極に導電性
ペースト等が回り込み単位検出素子間が電気的に短絡す
る確率も高まる。
課題を解決するための手段
放射線検出器の少なくとも複数個の電荷収集電極が設け
られた面において、各々の電極もしくは各々の電極にお
いて一部分が露出するようなパターン窓を設けた絶縁膜
を形成し、パターン窓内で導電性ペーストもしくは、半
田を用いてフィルムキャリアーとの接続を行う。
られた面において、各々の電極もしくは各々の電極にお
いて一部分が露出するようなパターン窓を設けた絶縁膜
を形成し、パターン窓内で導電性ペーストもしくは、半
田を用いてフィルムキャリアーとの接続を行う。
作用
本発明によればパターン窓が導電性ペースト溜りや半田
溜りとなり、これらの検出器の他の部分への回り込みが
防げる。
溜りとなり、これらの検出器の他の部分への回り込みが
防げる。
実施例
以下に本発明の実施例を説明する。
(実施例1)
第1図は第1の発明の放射線検出器の実装方法の一実施
例を示す断面斜視図である。第1図において、1はp型
CdTe結晶、2は電荷収集電極、3は電荷収集電極と
対向する面に形成した共通電極、4は絶縁膜、5はパタ
ーン窓、6はフィルムキャリア− 7はフィノレムキャ
リアーのフィンガーリード、8は銀ペーストである。
例を示す断面斜視図である。第1図において、1はp型
CdTe結晶、2は電荷収集電極、3は電荷収集電極と
対向する面に形成した共通電極、4は絶縁膜、5はパタ
ーン窓、6はフィルムキャリア− 7はフィノレムキャ
リアーのフィンガーリード、8は銀ペーストである。
p型CdTe結晶1の片面に一次元に配列した複数個の
電荷収集電極2を設けている。そして個々の電荷収集電
極2は互いに電気的に独立している。
電荷収集電極2を設けている。そして個々の電荷収集電
極2は互いに電気的に独立している。
電荷収集電極2の電極材料は例えばptである。
電荷収集電極2と対向する面には共通電極3が設けてあ
る。共通電極3はすべての電荷収集電極2に対向する様
に設けられている。共通電極3の電極材料はPtである
。
る。共通電極3はすべての電荷収集電極2に対向する様
に設けられている。共通電極3の電極材料はPtである
。
本構成により、検出器内の電気力線は各電荷収集電極ご
とに分割され、Ptの等価な電極をp型CdTe結晶の
対向面に設けた均質型の半導体放射線検出器を複数個配
列したと等価の結果となる。この多チャンネル型の検出
器においては放射線の入射により各単位検出素子で発生
した電気信号を各単位検出素子の電荷収集電極2からそ
れぞれ外部回路系にロスなく取り出すことが重要であり
、本構造において高密度のリード接続が必要となるのは
電荷収集電極2である。
とに分割され、Ptの等価な電極をp型CdTe結晶の
対向面に設けた均質型の半導体放射線検出器を複数個配
列したと等価の結果となる。この多チャンネル型の検出
器においては放射線の入射により各単位検出素子で発生
した電気信号を各単位検出素子の電荷収集電極2からそ
れぞれ外部回路系にロスなく取り出すことが重要であり
、本構造において高密度のリード接続が必要となるのは
電荷収集電極2である。
電荷収集電極2が設けられた面上には、各電荷収集電極
2の一部が露出するようパターン窓5が形成された絶縁
膜4が設けられている。絶縁膜材料はポリイミド、膜厚
は2μmである。
2の一部が露出するようパターン窓5が形成された絶縁
膜4が設けられている。絶縁膜材料はポリイミド、膜厚
は2μmである。
銀ペースト8を各パターン窓5内の電荷収集電極2上に
ディスペンサーを用いて適当量注入する。
ディスペンサーを用いて適当量注入する。
フィルムキャリア−6に設けられた各フィンガーリード
7の先端を銀ペースト8を介して電荷収集電極2と接着
させ、熱硬化により固着する。
7の先端を銀ペースト8を介して電荷収集電極2と接着
させ、熱硬化により固着する。
上記構成により絶縁膜4に形成されたパターン窓5が銀
ペースト溜りとなるのでフィンガーリード7接着時に銀
ペースト8が押し広げられても隣接するパターン窓への
回り込みは防がれ単位検出素子間の短絡が防止される。
ペースト溜りとなるのでフィンガーリード7接着時に銀
ペースト8が押し広げられても隣接するパターン窓への
回り込みは防がれ単位検出素子間の短絡が防止される。
また電荷収集電極2以外の半導体表面への回り込みも防
止される。
止される。
フィンガーリード7の配列ピッチは電荷収集電極2のピ
ッチと同等である。フィルムキャリア−6にはそれぞれ
外部回路系が接続されており、各々の単位検出素子の電
荷収集電極2と外部回路系が電気的に接続される。
ッチと同等である。フィルムキャリア−6にはそれぞれ
外部回路系が接続されており、各々の単位検出素子の電
荷収集電極2と外部回路系が電気的に接続される。
共通電極3はバイアス印加の為の電極であり、高圧回路
系9と接続される。
系9と接続される。
また電極面積が比較的広いので、特に電荷収集電極2側
と同様な構成を取らなくてもよい。
と同様な構成を取らなくてもよい。
以上述べた実施例はp型CdTeの対向面に等価なPt
電極を設けた均質型の半導体放射線検出器について説明
した。これは一実施例あって、均質型の半導体放射線検
出器に限らず、表面障壁型、pn接合型、Mis型等の
全てのタイプの半導体放射線検出器においても適用され
る。従うて電極材料のPtに限ったものではなく、また
半導体結晶にはそれぞれのタイプの検出器を構成するた
めに必要な不純物拡散、酸化等の処理が行われていても
よい。
電極を設けた均質型の半導体放射線検出器について説明
した。これは一実施例あって、均質型の半導体放射線検
出器に限らず、表面障壁型、pn接合型、Mis型等の
全てのタイプの半導体放射線検出器においても適用され
る。従うて電極材料のPtに限ったものではなく、また
半導体結晶にはそれぞれのタイプの検出器を構成するた
めに必要な不純物拡散、酸化等の処理が行われていても
よい。
また、半導体結晶もp型CdTeに限ったものでな(、
GsAs,■gLa ,CdS ,CdSSe ,S1
,Go等の半導体放射線検出器と成りつる半導体結晶
に全て適用される。
GsAs,■gLa ,CdS ,CdSSe ,S1
,Go等の半導体放射線検出器と成りつる半導体結晶
に全て適用される。
また、本実施例では絶縁膜をポリイミドとして説明した
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
また、絶縁膜の膜厚も2μmに限ったものではない。
また、導電性接着剤に銀ペーストを用いたがこれに限っ
たものでなく、銅ペースト、金ペースト、カーボンペー
スト等の他の導電性接着剤であっても良い。
たものでなく、銅ペースト、金ペースト、カーボンペー
スト等の他の導電性接着剤であっても良い。
また、パターン窓5は各電荷収集電極2の一部露出する
よう設けられたが、各電極の全部が露出するような形状
であっても良い。
よう設けられたが、各電極の全部が露出するような形状
であっても良い。
また、フィンガーリード7の接続にあたって銀ペースト
8をパターン窓S側に注入したがフィンガーリード7側
に銀ペーストを塗布し接着を行っても良い。
8をパターン窓S側に注入したがフィンガーリード7側
に銀ペーストを塗布し接着を行っても良い。
フィンガーリード7の形杖も図に限ったものではない。
また検出器の形状及び電極の形状も限定されない。
また、共通電極3側でも同様な構成を実施しても良い。
(実施例2)
第2図は第2の発明の放射線検出器の実装方法の一実施
例を示す断面斜視図である。第2図において、11はp
型CdTe結晶、12は電荷収集電極、13は電荷収集
電極と対向する面に形成した共通電極、14は絶縁膜、
15はパターン窓、16はフィルムキャリア− 17は
フィルムキャリアーのフィンガーリード、18はインジ
ウム半田である。
例を示す断面斜視図である。第2図において、11はp
型CdTe結晶、12は電荷収集電極、13は電荷収集
電極と対向する面に形成した共通電極、14は絶縁膜、
15はパターン窓、16はフィルムキャリア− 17は
フィルムキャリアーのフィンガーリード、18はインジ
ウム半田である。
p型CdTe結晶11の片面に一次元に配列した複数個
の電荷収集電極12を設けている。そして個々の電荷収
集電極l2は互いに電気的に独立している。電荷収集電
極12の電極材料は例えばptである。
の電荷収集電極12を設けている。そして個々の電荷収
集電極l2は互いに電気的に独立している。電荷収集電
極12の電極材料は例えばptである。
電荷収集電極12と対向する面には共通電極13が設け
てある。共通電極l3はすべての電荷収集電極12に対
向する様に設けられている。共通電極13の電極材料は
Ptである。
てある。共通電極l3はすべての電荷収集電極12に対
向する様に設けられている。共通電極13の電極材料は
Ptである。
本構成により、検出器内の電気力線は各電荷収集電極ご
とに分割され、Ptの等価な電極p型CdTe結晶の対
向面に設けた均質型の半導体放射線検出器を複数個配列
したと等価の結果となる。この多チャンネル型の検出器
においては放射線の入射により各単位検出素子で発生し
た電気信号を各単位検出素子の電荷収集電極12からそ
れぞれ外部回路系にロスなく取り出すことが重要であり
、本構晟において高密度のリード接続が必要となるのは
電荷収集電極12である。
とに分割され、Ptの等価な電極p型CdTe結晶の対
向面に設けた均質型の半導体放射線検出器を複数個配列
したと等価の結果となる。この多チャンネル型の検出器
においては放射線の入射により各単位検出素子で発生し
た電気信号を各単位検出素子の電荷収集電極12からそ
れぞれ外部回路系にロスなく取り出すことが重要であり
、本構晟において高密度のリード接続が必要となるのは
電荷収集電極12である。
電荷収集電極12が設けられた面上には、各電荷収集電
極12の一部が露出するようパターン窓15が形成され
た絶縁膜14が設けられている。,絶縁膜材料はポリイ
ミド、膜厚は2μmである。
極12の一部が露出するようパターン窓15が形成され
た絶縁膜14が設けられている。,絶縁膜材料はポリイ
ミド、膜厚は2μmである。
各パターン窓15内でフィルムキャリア−16に設けら
れた各フィンガーリード17の先端をインジウム半田1
8を溶融して電荷収集電極12と接続固定する。
れた各フィンガーリード17の先端をインジウム半田1
8を溶融して電荷収集電極12と接続固定する。
上記構成により絶縁膜14に形成されたパターン窓15
がインジウム半田溜りとなるのでフィンガーリード17
接着時にインジウム半田18が押し広げられても隣接す
るパターン窓への回り込みは防がれ単位検出素子間の短
絡が防止される。また電荷収集電極12以外の半導体表
面への回り込みも防止される。
がインジウム半田溜りとなるのでフィンガーリード17
接着時にインジウム半田18が押し広げられても隣接す
るパターン窓への回り込みは防がれ単位検出素子間の短
絡が防止される。また電荷収集電極12以外の半導体表
面への回り込みも防止される。
フィンガーリード17の配列ピッチは電荷収集電極12
のピッチと同等である。フィルムキャリア−16にはそ
れぞれ外部回路系が接続されており、各々の単位検出素
子の電荷収集電極12と外部回路系が電気的に接続され
る。
のピッチと同等である。フィルムキャリア−16にはそ
れぞれ外部回路系が接続されており、各々の単位検出素
子の電荷収集電極12と外部回路系が電気的に接続され
る。
共通電極13はバイアス印加の為の電極であり、高圧回
路系19と接続される。
路系19と接続される。
また電極面積が比較的広いので、特に電荷収集電極12
側と同様な構成を取らなくてもよい。
側と同様な構成を取らなくてもよい。
以上述べた実施例はp型CdTeの対向面に等価なpt
電極を設けた均質型の半導体放射線検出器について説明
した。これは一実施例あって、均質型の半導体放射線検
出器に限らず、表面障壁型、I)n接合型、His型等
の全てのタイプの半導体放射線検出器においても適用さ
れる。従って電極材料のptに限ったものではなく、ま
た半導体結晶にはそれぞれのタイプの検出器を構成する
ために必要な不純物拡散、酸化等の処理が行われていて
もよい。
電極を設けた均質型の半導体放射線検出器について説明
した。これは一実施例あって、均質型の半導体放射線検
出器に限らず、表面障壁型、I)n接合型、His型等
の全てのタイプの半導体放射線検出器においても適用さ
れる。従って電極材料のptに限ったものではなく、ま
た半導体結晶にはそれぞれのタイプの検出器を構成する
ために必要な不純物拡散、酸化等の処理が行われていて
もよい。
また、半導体結晶もp型CdTeに限ったものでなく、
GsAs ,■gl* ,CdS ,CdSSe ,S
l ,Ge等の半導体放射線検出器と成りつる半導体結
晶に全て適用される。
GsAs ,■gl* ,CdS ,CdSSe ,S
l ,Ge等の半導体放射線検出器と成りつる半導体結
晶に全て適用される。
また、本実施例では絶縁膜をポリイミドとして説明した
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
また、絶縁膜の膜厚も2μmに限ったものではない。
また、接続にインジウム半田を用いたがこれに限ったも
のでなく、他の半田であっても良い。
のでなく、他の半田であっても良い。
また、パターン窓6、10は各電荷収集電極2の一部及
び共通電極3の一部が露出するよう設けられたが、各電
極の全部が露出するような形状であっても良い。
び共通電極3の一部が露出するよう設けられたが、各電
極の全部が露出するような形状であっても良い。
フィンガーリード7、11の形状も図に限ったものでは
ない。
ない。
また検出器の形状及び電極の形状も限定されない。
また、共通電極3側で同様な構成を実施しても良い。
(実施例3)
第3図に第1の発明の放射線検出器の実装方法の別の実
施例を示す。本実施例は第1の発明を変形応用したもの
であり、対応する部分には第1図と同様な符号を記した
。なお、10はパターン窓、27はフィンガーリードで
ある。
施例を示す。本実施例は第1の発明を変形応用したもの
であり、対応する部分には第1図と同様な符号を記した
。なお、10はパターン窓、27はフィンガーリードで
ある。
p形CdTe結晶1の片方の面に一次元に配列した複数
個の電荷収集電極2と電荷収集電極2の配列軸方向に平
行に共通電極3が設けられている。電荷収集電極2、共
通電極3とも電極材料はPtである。電荷収集電極2は
互いに電気的に独立しており、電気力線は各電荷収集電
極2ごとに分割されている。その結果半導体放射線検出
器を複数個配列したに相当する多チャンネル形の検出器
が構成されている。
個の電荷収集電極2と電荷収集電極2の配列軸方向に平
行に共通電極3が設けられている。電荷収集電極2、共
通電極3とも電極材料はPtである。電荷収集電極2は
互いに電気的に独立しており、電気力線は各電荷収集電
極2ごとに分割されている。その結果半導体放射線検出
器を複数個配列したに相当する多チャンネル形の検出器
が構成されている。
電荷収集電極2と共通電極3が設けられた面上には、各
電荷収集電極2の一部および共通電極3の一部が露出す
るようパターン窓5および10が形成された絶縁膜4が
設けられている。絶縁膜材料はポリイミド、膜厚は2μ
mである。
電荷収集電極2の一部および共通電極3の一部が露出す
るようパターン窓5および10が形成された絶縁膜4が
設けられている。絶縁膜材料はポリイミド、膜厚は2μ
mである。
銀ペースト8を各パターン窓5内の電荷収集電極2上に
ディスペンサーを用いて適当量注入する。
ディスペンサーを用いて適当量注入する。
フィルムキャリア−6に,設けられた各フィンガーリー
ド7の先端を銀ペースト8を介して各電荷収集電極2と
接着させ、熱硬化により固着する。
ド7の先端を銀ペースト8を介して各電荷収集電極2と
接着させ、熱硬化により固着する。
また、共通電極3に設けられたパターン窓lOにおいて
も同様に銀ペースト8をディスペンサーで適量注入し別
のフィンガーリード27を接着している。
も同様に銀ペースト8をディスペンサーで適量注入し別
のフィンガーリード27を接着している。
上記構成により絶縁膜4に形成されたパターン窓6およ
び10が銀ペースト溜りとなるのでフィンガーリード7
接着時に銀ペースト8が押し広げられても隣接するパタ
ーン窓への回り込みは防がれ単位検出素子間の短絡及び
電荷収集電極2と共通電極3の短絡が防止される。また
電荷収集電極2及び共通電極3以外の半導体表面への銀
ペーストの接触も防止される。
び10が銀ペースト溜りとなるのでフィンガーリード7
接着時に銀ペースト8が押し広げられても隣接するパタ
ーン窓への回り込みは防がれ単位検出素子間の短絡及び
電荷収集電極2と共通電極3の短絡が防止される。また
電荷収集電極2及び共通電極3以外の半導体表面への銀
ペーストの接触も防止される。
フィンガーリード7の配列ピッチは電荷収集電極2のピ
ッチと同等である。フィルムキャリア−8にはそれぞれ
外部回路系が接続されており、各々の単位検出素子の電
荷収集電極2と外部回路系が電気的に接続される。
ッチと同等である。フィルムキャリア−8にはそれぞれ
外部回路系が接続されており、各々の単位検出素子の電
荷収集電極2と外部回路系が電気的に接続される。
共通電極3はバイアス印加の為の電極であり、別のフィ
ンガーリド27で高圧回路系θと接続される。
ンガーリド27で高圧回路系θと接続される。
以上述べた実施例はp型CdTeに等価なPt電極を設
けた均質型の半導体放射線検出器について説明した。こ
れは一実施例あって、均質型の半導体放射線検出器に限
らず、表面障壁型、pn接合型、MIS型等の全てのタ
イプの半導体放射線検出器においても適用される。従っ
て電極材料のPtに限ったものではなく、また半導体結
晶にはそれぞれのタイプの検出器を構成するために必要
な不純物拡散、酸化等の処理が行われていてもよい。
けた均質型の半導体放射線検出器について説明した。こ
れは一実施例あって、均質型の半導体放射線検出器に限
らず、表面障壁型、pn接合型、MIS型等の全てのタ
イプの半導体放射線検出器においても適用される。従っ
て電極材料のPtに限ったものではなく、また半導体結
晶にはそれぞれのタイプの検出器を構成するために必要
な不純物拡散、酸化等の処理が行われていてもよい。
また、半導体結晶もp型CdTeに限ったものでな<、
GsAseHgl**CdS,CdSSe,Si+Ge
等の半導体放射線検出器と成りうる半導体結晶に全て適
用される。
GsAseHgl**CdS,CdSSe,Si+Ge
等の半導体放射線検出器と成りうる半導体結晶に全て適
用される。
また、本実施例では絶縁膜をポリイミドとして説明した
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
また、絶縁膜の膜厚も2μmに限らない。
また、導電性接着剤に銀ペーストを用いたがこれに限っ
たものでなく、銅ペースト、金ペースト、カーボンペー
スト等の他の導電性接着剤であっても良い。
たものでなく、銅ペースト、金ペースト、カーボンペー
スト等の他の導電性接着剤であっても良い。
また、パターン窓5、10は各電荷収集電極2の一部及
び共通電極3の一部が露出するよう設けられたが、各電
極の全部が露出するような形吠であっても良い。
び共通電極3の一部が露出するよう設けられたが、各電
極の全部が露出するような形吠であっても良い。
また、フィイガーリード7、27の接続にあたって銀ペ
ースト8をパターン窓5、10側に注入したがフィンガ
ーリード7、27側に銀ペーストを塗布し接着を行って
も良い。
ースト8をパターン窓5、10側に注入したがフィンガ
ーリード7、27側に銀ペーストを塗布し接着を行って
も良い。
フィンガーリード7、27の形吠も図に限ったものでは
ない。
ない。
また、検出器の形状、電極の形状も限定されない。
(実施例4)
第4図は第2の発明の放射線検出器の実装方法の別の実
施例を示す断面斜視図である。本実施例は第2の発明を
変形応用したものであり、対応する部分には第2図と同
様な符号を記した。
施例を示す断面斜視図である。本実施例は第2の発明を
変形応用したものであり、対応する部分には第2図と同
様な符号を記した。
p形CdTe結晶11の片方の面に一次元に配列し゛た
複数個の電荷収集電極l2と電荷収集電極12の配列軸
方向に平行に共通電極13が設けられている。電荷収集
電極12、共通電極l3とも電極材料はptである。電
荷収集電極12は互いに電気的に独立しており、電気カ
線は各電荷収集電極12ごとに分割されている。その結
果半導体放射線検出器を複数個配列したに相当する多チ
ャンネル形の検出器が構成されている。
方向に平行に共通電極13が設けられている。電荷収集
電極12、共通電極l3とも電極材料はptである。電
荷収集電極12は互いに電気的に独立しており、電気カ
線は各電荷収集電極12ごとに分割されている。その結
果半導体放射線検出器を複数個配列したに相当する多チ
ャンネル形の検出器が構成されている。
電荷収集電極12と共通電極13が設けられた面上には
、各電荷収集電極12の一部および共通電極13の一部
が露出するようパターン窓15および20が形成された
絶縁膜14が設けられている。絶縁膜材料はポリイミド
、膜厚は2μmである。
、各電荷収集電極12の一部および共通電極13の一部
が露出するようパターン窓15および20が形成された
絶縁膜14が設けられている。絶縁膜材料はポリイミド
、膜厚は2μmである。
各パターン窓15内でフィルムキャリア−16に設けら
れた各フィンガーリード17の先端をインジウム半田1
8を溶融して電荷収集電極12と接続固定する。
れた各フィンガーリード17の先端をインジウム半田1
8を溶融して電荷収集電極12と接続固定する。
また、共通電極13に設けられたパターン窓20におい
ても同様にインジウム半田18を用いて別のフィンガー
リード27と接続固定している。
ても同様にインジウム半田18を用いて別のフィンガー
リード27と接続固定している。
上記構成により絶縁膜14に形成されたパターン窓15
および20がインジウム半田溜りとなるのでフィンガー
リード17接着時にインジウム半田18が押し広げられ
ても隣接するパターン窓への回り込みは防がれ単位検出
素子間の短絡及び電荷収集電極12と共通電極13の短
絡が防止される。また電荷収集電極12及び共通電極1
3以外の半導体表面へのインジウム半田の接触も防止さ
れる。
および20がインジウム半田溜りとなるのでフィンガー
リード17接着時にインジウム半田18が押し広げられ
ても隣接するパターン窓への回り込みは防がれ単位検出
素子間の短絡及び電荷収集電極12と共通電極13の短
絡が防止される。また電荷収集電極12及び共通電極1
3以外の半導体表面へのインジウム半田の接触も防止さ
れる。
フィンガーリード17の配列ピッチは電荷収集電極12
のピッチと同等である。フィルムキャリア−16にはそ
れぞれ外部回路系が接続されており、各々の単位検出素
子の電荷収集電極12と外部回路系が電気的に接続され
る。
のピッチと同等である。フィルムキャリア−16にはそ
れぞれ外部回路系が接続されており、各々の単位検出素
子の電荷収集電極12と外部回路系が電気的に接続され
る。
共通電極13はバイアス印加の為の電極であり、別のフ
ィンガーリド27で高圧回路系9と接続される。
ィンガーリド27で高圧回路系9と接続される。
以上述べた実施例はp型CdTeに等価なPt電極を設
けた均質型の半導体放射線検出器について説明した。こ
れは一実施例あって、均質型の半導体放射線検出器に限
らず、表面障壁型、pn接合型、lS型等の全てのタイ
プの半導体放射線検出器においても適用される。従って
電極材料のPtに限ったものではなく、また半導体結晶
にはそれぞれのタイプの検出器を構成するために必要な
不純物拡散、酸化等の処理が行われていてもよい。
けた均質型の半導体放射線検出器について説明した。こ
れは一実施例あって、均質型の半導体放射線検出器に限
らず、表面障壁型、pn接合型、lS型等の全てのタイ
プの半導体放射線検出器においても適用される。従って
電極材料のPtに限ったものではなく、また半導体結晶
にはそれぞれのタイプの検出器を構成するために必要な
不純物拡散、酸化等の処理が行われていてもよい。
また、半導体結晶もp型CdTeに限ったものでな(、
GsAs,Hgl2,CdS.CdSSe.Si,Ge
等の半導体放射線検出器と成りうる半導体結晶に全て適
用される。
GsAs,Hgl2,CdS.CdSSe.Si,Ge
等の半導体放射線検出器と成りうる半導体結晶に全て適
用される。
また、本実施例では絶縁膜をポリイミドとして説明した
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
が、ポリアミド等の他の有機絶縁材料や、酸化シリコン
、窒化シリコン等の無機絶縁材料等全ての絶縁材料に適
用される。
また、絶縁膜の膜厚も2μmに限ったものではない。
また、接続にインジウム半田を用いたがこれに限ったも
のでなく、他の半田であっても良い。
のでなく、他の半田であっても良い。
また、パターン窓15、20は各電荷収集電極12の一
部及び共通電極13の一部が露出するよう設けられたが
、各電極の全部が露出するような形状であっても良い。
部及び共通電極13の一部が露出するよう設けられたが
、各電極の全部が露出するような形状であっても良い。
フィンガーリード17、27の形状も図に限ったもので
はない。
はない。
また検出器の形状及び電極の形状も限定されない。
発明の効果
本発明によれば、半導体放射線検出器においてフィルム
キャリアーによる高密度リード接続が可能となるので、
単位検出素子の配列密度を高めることができ、高空間分
解能の多チャンネル型の検出器が提供される。
キャリアーによる高密度リード接続が可能となるので、
単位検出素子の配列密度を高めることができ、高空間分
解能の多チャンネル型の検出器が提供される。
第1図は本発明の第1の実施例における放射線検出器の
実装方法を示す断面斜視図、第2図は本発明の他の実施
例における放射線検出器の実装方法を示す断面斜視図、
第3図は本発明の更に他の実施例における放射線検出器
の実装方法を示す断面斜視図、第4図は本発明の更に他
の実施例における放射線検出器の実装方法を示す断面斜
視図である。 1、1 1 ・−・p型CdTe結晶、2、12・・・
・電荷収集電極、3、13・・・・共通電極、4、14
・・・・絶縁膜、5、 10、15、20・・・・パタ
ーン窓、θ、16・・・・フィルムキャリア− 7、1
7、27・・・・フィンガーリード、8・・・・銀ペー
スト、18・・・・インジウム半田、9・・・・高圧回
路。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名II 図 瘍 因 Q)
実装方法を示す断面斜視図、第2図は本発明の他の実施
例における放射線検出器の実装方法を示す断面斜視図、
第3図は本発明の更に他の実施例における放射線検出器
の実装方法を示す断面斜視図、第4図は本発明の更に他
の実施例における放射線検出器の実装方法を示す断面斜
視図である。 1、1 1 ・−・p型CdTe結晶、2、12・・・
・電荷収集電極、3、13・・・・共通電極、4、14
・・・・絶縁膜、5、 10、15、20・・・・パタ
ーン窓、θ、16・・・・フィルムキャリア− 7、1
7、27・・・・フィンガーリード、8・・・・銀ペー
スト、18・・・・インジウム半田、9・・・・高圧回
路。 代理人の氏名 弁理士 粟野重孝 はか1名II 図 瘍 因 Q)
Claims (4)
- (1)半導体結晶に入射する放射線により発生する電荷
を半導体結晶に形成した電極により収集するよう構成さ
れ、複数個の電荷収集電極と共通電極が設けられた放射
線検出器の実装方法であって、少なくとも前記電荷収集
電極が形成された面において絶縁膜を形成し、その絶縁
膜に前記電極の少なくとも一部が露出するようにパター
ン窓を形成し、前記パターン窓内で導電性接着剤を用い
てフィルムキャリアーと接続固着することを特徴とする
放射線検出器の実装方法。 - (2)半導体結晶に入射する放射線により発生する電荷
を半導体結晶に形成した電極により収集するよう構成さ
れ、複数個の電荷収集電極と共通電極が設けられた放射
線検出器の実装方法であって、少なくとも前記電荷収集
電極が形成された面において絶縁膜を形成し、その絶縁
膜に前記電極の少なくとも一部が露出するようにパター
ン窓を形成し、前記パターン窓で半田を用いてフィルム
キャリアーと融着し接続することを特徴とする放射線検
出器の実装方法。 - (3)絶縁膜がポリイミド、ポリアミド等の有機材料で
あることを特徴とする請求項1叉は2に記載の放射線検
出器の実装方法。 - (4)絶縁膜が酸化シリコン、窒化シリコン等の無機材
料であることを特徴とする請求項1叉は2に記載の放射
線検出器の実装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5702289A JPH02236192A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 放射線検出器の実装方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5702289A JPH02236192A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 放射線検出器の実装方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02236192A true JPH02236192A (ja) | 1990-09-19 |
Family
ID=13043805
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5702289A Pending JPH02236192A (ja) | 1989-03-09 | 1989-03-09 | 放射線検出器の実装方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02236192A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11316280A (ja) * | 1997-12-31 | 1999-11-16 | General Electric Co <Ge> | 直接変換光子検出器 |
-
1989
- 1989-03-09 JP JP5702289A patent/JPH02236192A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11316280A (ja) * | 1997-12-31 | 1999-11-16 | General Electric Co <Ge> | 直接変換光子検出器 |
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