JPH02233118A - 高精密ガス濾過用フィルター - Google Patents

高精密ガス濾過用フィルター

Info

Publication number
JPH02233118A
JPH02233118A JP5322189A JP5322189A JPH02233118A JP H02233118 A JPH02233118 A JP H02233118A JP 5322189 A JP5322189 A JP 5322189A JP 5322189 A JP5322189 A JP 5322189A JP H02233118 A JPH02233118 A JP H02233118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
support part
housing
thin film
filter support
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5322189A
Other languages
English (en)
Inventor
Makoto Suzuki
真 鈴木
Kuniyoshi Takahara
邦好 高原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON MIRIPOA KOGYO KK
Nihon Millipore KK
Original Assignee
NIPPON MIRIPOA KOGYO KK
Nihon Millipore KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON MIRIPOA KOGYO KK, Nihon Millipore KK filed Critical NIPPON MIRIPOA KOGYO KK
Priority to JP5322189A priority Critical patent/JPH02233118A/ja
Publication of JPH02233118A publication Critical patent/JPH02233118A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Filtering Materials (AREA)
  • Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高精密ガス濾過用フィルターに係り、特に半導
体工業及び微小電子工学分野において、高性能、大容量
記憶保持集積回路の製造プロセスにおけるベース.ドー
ピング.エビタキシャル,エッチング等の工程時に使用
される高純度ガスを精製するためのフィルターに関する
, 〔従来の技術〕 従来、この種の高精密ガス濾過用フィルターとしては、
第6図に示すものが知られている.この高精密ガス濾過
用フィルターは、円筒状のハウジング2l内に多数のガ
ス連通孔22を有する円筒状のフィルター支持部23が
ハウジング21と同心円上に配置され、フィルター支持
部23の外表面には中空状多孔性薄膜24が覆設されて
おり、フィルター支持部23とハウジング21との間は
0リング25により密封されている。なお、図中26は
溶接部を示している。
また、特開昭63−7805号.特開昭63−3681
2号公報及び特開昭63−91114号公報にも高精密
ガス濾過用フィルターが提案されている。
上記した従来の高精密ガス濾過用フィルターにおいては
、いずれもフィルターエレメント(フィルター支持部を
含む)と、ハウジングとがそれぞれ別個に形成され、こ
れらの間はOリングによって密封されて未精製ガスと精
製ガスとのガス流路区画されるようになっている. 〔発明が解決しようとする課題〕 しかしながら、上記のような高精密ガス濾過用フィルタ
ーにおいては、精製ガスを得る際、O IJング等によ
るシール部分に微粒子等が捕捉される。
この捕捉された微粒子等は、いかなる洗浄技術を用いて
も除去することが不可能な構造となっており、また、上
記の洗浄処理時に使用され、シール部分に残存する溶剤
は、いかなる乾燥技術を用いても除去することが構造上
不可能である。
更に、フィルターエレメントのサポート,0リング5ハ
ウジング等が例えば、PFA (パーフルオロアルコオ
キシ樹脂),PTFE (四フソ化エチレン樹脂),S
US304L等の材質でそれぞれ構成された場合、それ
ぞれの材質の熱膨張係数が異なるので、フィルターユニ
ットの操作温度が経時的に変化すると、○リング部の密
封性が損なわれ、高純度の精製ガスを得られなく恐れが
あった。
本発明の目的は、上記した従来技術の課題を解決し、フ
ィルターユニットのシール部に残存する溶質物や微粒子
をほとんど含むことがなく、半導体プロセス等に使用さ
れるガスとして品質の高いガスを得ることができ、また
、経時的に周囲温度が変化する環境下においてもシール
部の密封性が保障され、高品質のガスを長期間にわたっ
て精製することができる高精密ガス濾過用フィルターを
提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記した目的は、ガス連通孔を有する円筒状のフィルタ
ー支持部とアウトレットハウジングが一体的に構成され
、前記円筒状のフィルター支持部の外周面に中空状多孔
性薄膜を覆設し、該中空状多孔性薄膜の両端部をシール
用リングによって密封すると共に前記アウトレットハウ
ジングとインレットハウジングとを接合して該インレッ
トハウジングの内壁面と前記フィルター支持部外周面と
の間にガス通路を形成した構造の高精密ガス濾過用フィ
ルターとすることによって達成される。
〔作用〕
フィルター支持部とアウトレットハウジングとは一体的
に構成され、アウトレットハウジングとインレットハウ
ジングとは接合された構造となっており、密封性を維持
するための0リングを要しない.したがって、○リング
を用いたシール部分での微粒子の除去及び溶剤等の乾燥
除去における問題点が解消ざれる。
フィルター支持部、アウトレットハウジング及びインレ
ットハウジングは、いずれも同一のhz又は熱膨張係数
が近似した材質で構成可能であり、経時的な熱fi歴に
よるシール部の劣化の問題点も解消される. 〔実施例〕 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明の高精密ガス濾過用フィルターの一実施
例を示す断面図、第2図は第1図におけるフィルター支
持部及びアウトレノトハウジングの断面図、第3図は第
1図におけるインレットハウジングの断面図、第4図は
第3図のA部の拡大図、第5図は第2図のY−Y線断面
図である。
この高精密ガス濾過用フィルターは、第1図に示すよう
に一体的に構成されたフィルター支持部1及びアウトレ
ットハウジング2とを備えている。
フィルター支持部1は、第2図に示すように中心部に円
柱状のガス通路3が形成され、その通路端部(図面上で
は右側端面)は閉鎖されている。
また、フィルター支持部1の外表面には、周方向に沿っ
た環状突起部4が軸方向に所定の間隔で複数個形成され
ている。互いに隣接する環状突起部4間の凹部には、第
4図に示すように各々矩形状のガス連通孔5が中心部と
対照な位置に配置されている。そして、これらのガス連
通孔5はフィルター支持部1内のガス通路3に連通して
いる。
フィルター支持部1の外表面を覆うように、所定長さの
中空状多孔性薄膜6が覆設され、その長手方向両端部の
環状部には、シール用リング7が装着されている.中空
状多孔性薄膜6は、例えば、フッ素樹脂,フン素樹脂共
重合体,セルロース混合エステル,ポリイミド,ボリア
ミド.ポリ塩化ビニル,ポリビニルアルコール.ポリメ
チルメタクリレートボリサルフォン,ポリエーテルサル
フォン等が好適に使用され、孔径は0.01〜300μ
m,厚み50〜1000μmが好適である。
シール用リング7は、例えば、有機高分子熱収縮チュー
ブ,フッ素系樹脂,形状記憶高分子,形状記憶合金.鉄
系若しくは非鉄系の金属又はその合金が好適に使用され
る。
シール用リング7がフッ素樹脂熱収縮チューブ、例えば
、FEP (パーフルオ口エチレンプロピレン樹脂)の
場合、シール用リング7を100〜200℃に加熱し、
収縮時の締めによりリングをフィルター支持部1に締結
させる。また、シール用リング7がPTFE (四フソ
化エチレン樹脂)の場合、シール用リング7を280〜
300゜Cに加熱し、収縮時の締めによりリングをフィ
ルター支持部1に締結する。このようにして中空状多孔
性薄膜6を完全にシールすることができる。
また、フィルター支持部lと一体的にアウトレットハウ
ジング2が形成されており、フィルター支持部1とアウ
トレットハウジング2との連接部付近には、フランジ部
8が設けられている。
フィルター支持部1とアウトレットハウジング2とはス
テンレス鋼又は合成樹脂からなり、それらの各表面部は
極上加工仕上げ又は電解研磨仕上げされている. 次にフィルター支持部1と一体的に構成されたアウトレ
ットハウジング2のフランジ部8に、インレットハウジ
ング9が接合される。インレットハウジング9に対して
、フィルター支持部1が同心円状に配置されるようにイ
ンレットハウジング9にフィルター支持部1が挿入され
、インレットハウジング9はアウトレットハウジング2
のフランジ部9に両者の材質がステンレス鋼の場合、例
えば、プラズマ溶接又はTIG溶接により接合される. これによって、フィルター支持部1の外周面と、インレ
ットハウジング9の内壁面との間に環状のガス流路10
が形成されて高精密ガス濾過用フィルターのユニットが
完成する. 次に上記のように構成される高精密ガスa過用フィルタ
ーの作用について説明する。
第1図に示す状態の高精密ガス濾過用フィルターにおい
て、例えば、半導体工業.微小電子工業分野におけるベ
ース.ドービンク,エビタキシャル.エッチング用に使
用されるガス(以下、被処理ガスという)は、インレッ
トハウジング9に配設されたガス導入口11からガス流
路10に流入する。そして、中空状多孔性薄膜6を透過
して、被処理ガス中に含まれる微粒子等が中空状多孔性
薄膜6に捕捉される。これによって、清浄化されたガス
は、ガス連通孔5を経てフィルター支持部1の中心部に
設けられたガス通路3に至り、その後アウトレットハウ
ジング2に設けられたガス排出口12から高純度ガスと
してユニソト外に排出される。
上記のようなガスの濾過処理時において、フィルター支
持部1とアウトレットハウジング2は一体的に構成され
ているので、従来のようなOリングを設置していない構
造となっている。このため、0リング等によるシール部
分における捕捉微粒子を除去するための操作を要しない
。また、フィルター支持部1とアウトレットハウジング
2は同一材質で一体的に構成され、アウトレ7}ハウジ
ング2とインレットハウジング9とは、例えばステンレ
ス,鉄及び鉄系又はその合金等の金属による同一材質で
の構成が可能で、この場合は熔接により接合する。また
、これらが樹脂により構成される場合には輻射熱により
熱溶着する.この場合、350℃〜380℃が好適であ
る。
さらに詳述すれば、シール用リング7として、FEP 
(パーフルオ口エチレンプロピレン樹脂)からなる内径
8mm、外径8.6mm、長さ3mmのリング2個を、
それぞれ熱風加熱温度150℃で加熱してフィルター支
持部1と例えばPTFE(四フン化エチレン樹脂)より
成る中空状多孔性薄膜6との間をシールしたところ、シ
ール性が保障され、ガス通路3及びガス排出口12から
排出されるガスは高純度に維持することができた。
なお.本発明は前記実施例に限定されるものでなく、そ
の要旨を逸脱しない範囲において、種々変更可能である
ことはいうまでもない.例えば、上記した実施例におい
て、フィルター支持部として、複数の環状突起部を備え
、これらの突起部の隣接する部位にガス連通孔を有する
例を説明したが、本発明におけるフィルター支持部はメ
ッシュ状の円箇状体、又はスワント状の円筒状体からな
る部材で構成し、その外周面に中空状多孔性薄膜を覆設
してもよい. 〔発明の効果〕 以上のように本発明によれば、精製されたガス中に高精
密ガス濾過用フィルターユニット内に残存する溶質物や
微粒子をほとんど含むことがなく、半導体プロセス等に
使用されるガスとして高品質のガスを得ることができる
。また、経時的な熱が変化する環境下においてもシール
部の密封性が保障され、高品質のガスを長期間にわたっ
て精製することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の高精密ガス濾過用フィルターの一実施
例を示す断面図、第2図は第L図におけるフィルター支
持部及びアウトレットハウジングの断面図、第3図は第
1図におけるインレットハウジングの断面図、第4図は
第3図のA部の拡大図、第5図は第2図のY−Y線断面
図、第6図は従来の高精密ガス用フィルターの断面図で
ある。 1・・・・・・フィルター支持部 2・・・・・・アウトレットハウジング3・・・・・・
ガス通路 4・・・・・・環状突起部 5・・・・・・ガス連通孔 6・・・・・・中空状多孔性薄膜 7・・・・・・シール用リング 8・・・・・・フランジ部 9・・・・・・インレットハウジング 10・・・・・・環状ガス通路 11・・・・・・ガス導入口 12・・・・・・ガス排出口 第3図 第4図 第5図

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガス連通孔を有する円筒状のフィルター支持部と
    アウトレットハウジングが一体的に構成され、前記円筒
    状のフィルター支持部の外周面に中空状多孔性薄膜を覆
    設し、該中空状多孔性薄膜の両端部をシール用リングに
    よって密封すると共に前記アウトレットハウジングとイ
    ンレットハウジングとを接合して該インレットハウジン
    グの内壁面と前記フィルター支持部外周面との間にガス
    通路を形成したことを特徴とする高精密ガス濾過用フィ
    ルター。
  2. (2)前記インレットハウジング及びアウトレットハウ
    ジングは金属性より成り、これらのハウジング単体の内
    部表面は研磨仕上げされていることを特徴とする請求項
    (1)記載の高精密ガス濾過用フィルター。
  3. (3)前記シール用リングが、有機高分子系熱収縮チュ
    ーブ、形状記憶高分子、形状記憶合金、鉄系若しくは非
    鉄系金属又はそれらの合金のいずれかであることを特徴
    とする請求項(1)記載の高精密ガス濾過用フィルター
  4. (4)前記中空状多孔性薄膜の孔径が0.01〜3.0
    0ミクロン、厚み50〜1000ミクロンのフッ素樹脂
    、フッ素樹脂共重合体、セルロース混合エステル、ポリ
    イミド、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアル
    コール、ポリメチルメタクリレート、ポリサルフォン又
    はポリエーテルサルフォン等の高分子よりなることを特
    徴とする請求項(1)記載の濾過用フィルター。
JP5322189A 1989-03-06 1989-03-06 高精密ガス濾過用フィルター Pending JPH02233118A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5322189A JPH02233118A (ja) 1989-03-06 1989-03-06 高精密ガス濾過用フィルター

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5322189A JPH02233118A (ja) 1989-03-06 1989-03-06 高精密ガス濾過用フィルター

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH02233118A true JPH02233118A (ja) 1990-09-14

Family

ID=12936769

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5322189A Pending JPH02233118A (ja) 1989-03-06 1989-03-06 高精密ガス濾過用フィルター

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH02233118A (ja)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6249922A (ja) * 1985-08-28 1987-03-04 Kurabo Ind Ltd 多層構造フイルタ−エレメント
JPS6248413B2 (ja) * 1982-10-18 1987-10-14 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6248413B2 (ja) * 1982-10-18 1987-10-14 Kokusai Denshin Denwa Co Ltd
JPS6249922A (ja) * 1985-08-28 1987-03-04 Kurabo Ind Ltd 多層構造フイルタ−エレメント

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4609465A (en) Filter cartridge with a connector seal
US5415772A (en) Module for filtering, separating, purifying gases or liquids, or for catalytic conversion
US6770202B1 (en) Porous membrane
JP2005504625A (ja) 交換可能なフィルタを有するフィルタ要素およびフィルタ装置
EP0178635A2 (en) A cartridge filter
JPH02233118A (ja) 高精密ガス濾過用フィルター
JP4912702B2 (ja) セラミックフィルタのシール方法
JP3076812B2 (ja) 精密濾過用金属フィルターの製造方法
JPH05154322A (ja) 金属フィルタ
JP2004521729A (ja) 透過性媒体とフレームとを含む組立体
JP2813274B2 (ja) ガス用フィルター装置
CA2367547A1 (en) Porous membrane
TWI668045B (zh) 高純度氣體純化器
JPS63156511A (ja) 濾過素子及びその製造方法
JP3950766B2 (ja) フィルターカートリッジ
JP2013111529A (ja) 分離膜付き多孔質体
JP2011131111A (ja) フィルターカートリッジ
JPS59225716A (ja) 半導体デバイス処理液用のフィルタ装置
US20240033662A1 (en) Redirecting filter endcap
JPH0616810B2 (ja) 流体用フィルタ
JP2003334431A (ja) フィルター装置
JPH02139014A (ja) 濾過素子
JP2004330133A (ja) フィルタ
KR100903769B1 (ko) 고청정 라인용 피티에프이 엘리멘트 및 그를 구비하는 필터
JP3113713B2 (ja) シリカガラスフイルターユニットの製造方法