JPH02232399A - 磁束密度が極めて高い低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、磁束宙度が極めて高い低鉄損一方向性けい
素鋼板の製造方法に関し、とくに電解処理による表面性
状の改質によって磁気特性の有利な改善を図ったもので
ある。

一方向性けい素泪板は、製品の２次再結晶粒を（１１０
）　（００１）すなわちゴス方位に集積させたもので、
主として変圧器その他の電気機器の鉄心として使用され
る。このため一方向性けい素網板には、その特性として
磁束密度（Ｂ，。値で代表される）が高く、かつ鉄損（
Ｗ＋ｔ７ｓ。値で代表される）が低いことが要求される
。

（従来の技術） 従来の一方向性けい素鋼板の製造方法は、たとえばＳｔ
を２．０〜４．Ｑ　ｗｔ％（以下単に％で示す）含有さ
せた素材を、熱間圧延したのち、１回または中間焼鈍を
挟む２回以上の冷間圧延によって最終板厚とし、脱炭焼
鈍後、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから
コイルに巻き取り、ついで２次再結晶焼鈍および純化焼
鈍を行い、しかるのち必要に応じてりん酸塩系絶縁コー
ティングを施す方法が通常行われている。

なお上記の純化焼鈍の際には、脱炭焼鈍時に鋼板表面に
生成したＳｉｎｇを主成分とする酸化層と焼鈍分離剤中
のＭｇＯとが反応してフォルステライト（ＭｇｚＳｉＯ
ｎ）被膜が形成される。

ところでゴス方位集積度の高い２次再結晶組織を形成す
るためには、鋼中にインヒビターと呼ばれるＭｎＳ，　
ＭｎＳｅ，ＡＩＮ等の微細析出分散相や粒界偏析型元素
を適量含有させる必要がある。

従来、粒界偏析型元素としてＳ＋　Ｓｅ，　Ｔｅ＋　Ｓ
ｂ，八ｓ，ＢｉおよびＳｎなどを鋼中に含有させる方法
が、たとえば特公昭４９−６７３２号、特公昭５１−１
３４６９号、特公昭５１−２９４９６号、特公昭５４−
３２４１２号、特開昭５５−６４１２号、特開昭５５−
３４６３３号、特開昭５５−８９４２８号各公報に開示
されている。

しかしながら発明者らの研究によると、上記の各元素は
いずれもゴス方位集積度の高い２次再結晶組織を発達さ
せる上では極めて有効ではあるものの、その反面、以下
に示すような鋼板の表面欠陥を誘発することを突き止め
た。

すなわち ）不純物元素が粒界に偏析すると、熱延工程で引張り応
力が加わったときに粒界割れが発生し、この割れが最終
製品において線状の表面疵となる。

ｉｉ）粒界偏析型元素は、表面濃化傾向が強いため、脱
炭焼鈍における表面酸化層の生成および仕上げ焼鈍工程
における上記酸化物層と焼鈍分離剤との反応に悪影響を
及ぼし、最終製品のフォルステライトガラス質被膜が薄
くなって下地金属の結晶組織が見えるいわゆるスパング
ル状態となったり、また斑点状にガラス質被膜が欠落し
て全く存在しない部分が発生するいわゆるベアースポッ
トが発生したり、さらにはガラス質被膜の色調が不均一
となるいわゆる焼鈍模様等の被膜欠陥を発生する欠点が
ある。

とくにゴス方位集積度の高い２次再結晶組織を発達させ
る上では、インヒビターとして粒内分敗型のＭｎＳ，　
ＭｎＳｅと共に粒界偏析型元素であるＳｂ，Ｓｎ，Ｂｉ
．Ａｓ，Ｔｅなどを複合添加するのが有効であることが
知られていて、そのうちとくにＡｓ，Ｂｉ，Ｔｅは磁束
密度の向上に偉効を発揮するけれども、反面で−Ｌ述し
たｉ），ｉｉ）のような表面欠陥の発生程度も大きいた
め、工業的利用は事実上困難視されていた。

ところで上記の問題の解決策としては、表面欠陥層の除
去が考えられる。

たとえば特公昭５２−２４４９９号公報では、仕上げ焼
鈍後の方向性けい素綱仮表面の酸化物を酸洗により除去
したのち、表面を化学研磨または電解研澄によって鏡面
状態に仕上げる技術が開示されている。

また特公昭５６−４１５０号公報には、一方向性けい素
鋼板表面の非金属物質を除去したのち、その表面を化学
研麿または電解研磨によって鏡面状態に仕上げ、ついで
この鏡面仕上げ表面にセラミックス薄膜を被成する技術
が開示されている。

さらに特開昭６０−８９５８９号公報には、アルミナを
主成分とする焼鈍分離剤を用いて行った２次再結晶後の
方向性けい素調板の表面酸化物を除去後、化学研磨また
は電解研磨を施す技術が開示されている。

またさらに特開昭６０−３９１２３号公報には、アルミ
ナを主成分とする焼鈍分離剤を用いて鋼板表面の酸化物
量を規制した上で、酸洗なしに直接化学研？または電解
研磨を施す技術が開示されている。

（発明が解決しようとする課題） しかしながら洞板表面を鏡面化することによる鉄損低減
効果は非常に明確であるにもかかわらず、未だ工業的に
実施されるまでには至っていないのが現状である。

その理由は、化学研磨の場合、研磨液として用いられる
ＨＦ＋｝１．０■や｝ＩａＰＯ４＋　ＨｚＯ■などが高
価である上、液の劣化がはやいためコスト高になること
である。同様に電解研磨の場合も、研磨液として通常用
いられるりん酸系浴、硫酸系浴、りん酸−硫酸系浴およ
び過塩素酸系浴などはいずれも高濃度の酸を主成分とし
、しかも添加物としてクロム酸塩、ぶつ酸、有機化合物
等を使用するためコスト高となり、さらに大量に鋼板を
処理するには、均質性、生産性および液の早期劣化など
未解決の問題も多い。

その他、工業化を妨げるもう一つの理由として、鏡面に
仕上げられた表面には絶縁コートがのりにくいことが挙
げられる。すなわち従来知られているりん酸塩コートや
セラミックコートは鏡面故に密着性が悪く、現実の使用
には耐え得なかったのである。

この発明は、上記の実情に鑑み開発されたもので、電解
研磨または化学研磨による鏡面化処理を施さずとも、磁
気的に平滑すなわちヒステリシス用の原因となる磁壁の
移動を妨害するようなことがなくしかも被膜密着性にも
優れた面を形成し、たとえ粒界偏析型元素を使用した場
合であっても、被膜欠陥を生じる不利なしに、高磁束密
度で低鉄損の一方向性けい素畑板を得ることができる脊
利な方法を提案ずることを目的とする。

（課題を解決するための手段） この発明は、以下の知見に基づく。

すなわち鉄損とくにヒステリシス損に対して大きく影響
を与えているのは、主として表面酸化物であり、表面の
凹凸に関しては必ずしも鏡面状態とする必要はないこと
、および表面酸化物を除去すると磁束密度はむしろ向上
することである。ここに鏡面状態とは光学的な概念であ
り、定量的に定義づけられていないが表面粗さが中心線
平均粗さで０．４μｍ以下望むらくは０．１μｍ以下の
ことを指す。

第１図に、酸化物が表面に存在する方向性けい素鋼板、
鏡面化処理を施した方向性けい素鋼板およびその後さら
に酸洗を施して表面が荒れた方向性けい素鋼板の各鉄損
を比較して示したが、同図から明らかなように酸洗によ
って鏡面が失われても鉄損はさほど劣化していない。

このように低ヒステリシス損のけい素鋼板を得るために
は、必ずしも鏡面にする必要はなく、鋼板の表面を磁気
的に平滑な面、すなわちヒステリシス損の原因となる磁
壁の移動を妨害することがない表面にすればよい。した
がって電解研磨や化学研磨は必要不可欠の条件ではなく
、もっと自由に表面処理手段を選択できることになる。

そこで発明者らは、従来、けい素鋼板に対して実施され
ることがなかった処理も含めて種々の表面処理について
検討したところ、ハロゲン化物浴中で陽極電解処理する
ことが所期した目的の達成に関し、極めて有効であるこ
との知見を得た。

すなわち方向性けい素鋼板を、ハロゲン化物水溶液中で
陽極電解処理した場合に、鏡面とは異なる独特の網目状
文様を呈する表面（電解エッチングＣ丁）際に得られる
グ」／イｆ−ング（　ｇｒａｉｎｉｎｇ　）面に酷似し
，ているのご、以下グレイニング様面という）が得られ
、しかもかかるグレイニング様面をそなえる鋼板は、ヒ
ステリシス損が極めて小さいだけでなく、被ｌｌＷ密着
性にも優れていることを究明し、だのである。

第２図に、高磁束密度材および低磁束密度材両者につい
て陽極電解処理ついでＴｉＮコートを施したときの鉄損
値について調べた結果を示す。

同図より明らかなように、高磁束密度材および低磁束密
度材とも陽極電解処理さらにはＴｊＮコートを施すこと
によって鉄損特性は向上する。なおＴｉＮコートによっ
て両者とも鉄損値は低下するけれども高磁束密度材の方
が鉄損改善効果がより大きいことが注目される。

なお上記したグレイニング様面は、｛１１０｝面を有す
るけい素鋼板をハロゲン化物水溶液中で陽極電解処理し
た場合にのみ得られるものである。

この発明は、上記の知見に立脚する。

すなわちこの発明は、 Ｃ：０．０２５〜０．０６０％、 Ｓｔ：２．０〜４．０％、 Ｍｎ　：　０．０１〜０．２０％、 ＳおよびＳｅのうちから選んだ１種または２種合計：　
０．００５〜０．０５０％、Ａｓ．　ＢｉおよびＴｅの
うちから選んだ少なくとも１種：　０．００３〜０．０
５０％ を含み、さらに必要に応じて、 ＳｎおよびＳｂのうちから選んだ少なくとも１種：　ｏ
．ｏｉ〜０，０５％ を含有する組成になる含けい素鋼スラブを、常法に従っ
て熱間圧延し、ついで１回または中間焼鈍を挟む２回以
上の冷間圧延を施して最終製品厚の冷延板としたのち、
脱炭・１次再結晶焼鈍を施し、さらに焼鈍分離剤を塗布
してから最終仕上げ焼鈍を施したのち、水溶性のハロゲ
ン化物をＩＮ以上含む水溶液中で陽極電解処理を施し、
ときにはさらにその後該鋼板表面に張力コーティングを
施すことからなる磁束密度が掻めて高い低鉄損一方向性
けい素鋼板の製造方法である． 以下、この発明を具体的に説明する． この発明において、素材の成分組成を上記の範囲に限定
したのは、次の理由による。

Ｃ　：　０．０２５〜０．０６０％ Ｃは、熱延中にγ相を生成させ、これに伴ない熱延組織
の微細化均一化を促進するためには少なくとも０．０２
５％が必要である。しかしながらＣ量があまりに過剰に
なるとスラブ加熱温度の上昇、脱炭不良を招き鉄榎劣化
を起こすため０．０６０％以下とした。

Ｓｉ　；　２．０〜４．０％ Ｓｉ濃度の増加とともに磁束密度は低下するが、一方で
比抵抗が高くなり渦電流損が減少する。また、Ｓｉの添
加により延性脆性遷移温度が上昇するので冷延が困難に
なる。これらの兼合いよりＳｉ：２．０〜４．０％とし
た。

Ｍ．ｎ　：　０．０１〜０．２０％ Ｍｎ濃度が低いとインヒビター不足が生じ、一方過剰に
添加すると熱間脆性が発生するので、Ｍｎ、０．０１〜
０．２０％とした。

Ｓおよび／またはＳｅ　：　０．００５　〜０．０５０
％濃度が低いとインヒビター不足を生と，、一方過剰に
添加されるとインヒビターの完全固溶が困難になったり
熱間圧延時に内部割れなどが発生することから、適正濃
度として０．００５〜０．０５０％の範囲に限定した。

Ａｓ．　Ｂ（およびＴｅのうちから選んだ少なくとも１
種：０．００３〜０．０５０％ Ａｓ＋　ＢｔおよびＴｅはいずれも、粒界偏析型イン叫
、ビターとして均等であり、とくに磁束密度の向上に有
効に寄与する．しかしながら添加量が０．００３％に満
たないとその添加効果に乏しく、一ブｉ’　０．０５０
％を超えて多量に添加してもその効果が飽和に達するだ
けでなく、むしろ粒界偏析割れなどの欠陥が生じるので
、含有量は０．００３〜０．０５０％の範囲に限定した
。

Ｓｎおよび／またはＳｂ　：　０．０１〜０．０５％Ｓ
ｎおよびＳｂはそれぞれ、インヒビターとしてのＭｎＳ
やＭｎＳｅの抑制効果を助成する補助インヒビターとし
て有用である。しかしながら添加量が０．０１％に満た
ないと十分な効果が得られず、一方０．０５％を超える
と結晶粒界の脆化を招くので、０．０１〜０．０５％の
範囲で添加するものとした。

上記の好適組成に調整された溶鋼は、常法に従って造塊
されてスラブとされたのち、熱間圧延し、必要に応じ熱
延板焼鈍を施してから、中間焼鈍を挟む冷間圧延を施し
て最終板厚とする。このとき熱延板焼鈍および中間焼鈍
は８５０〜１１５０゜Ｃ，１０ｓ〜１０ｍ　ｉ　ｎ程度
とするのが好ましい。

′〕いで脱炭・１次再結晶焼鈍を施して、圧延板の冷延
組織を１次再結晶組織にすると同時に、その後の２次再
結晶工程において有害となる炭素を除去する。この脱炭
・１次再結晶焼鈍は通常、湿水素中において７５０　〜
８５０　’Ｃ．１〜２０ａ＋ｉｎ程度で行うが、その他
公知の方法を排除するものではない。

次に、ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから
、８００〜ｉｏｏｏ”ｃ程度の温度域での２次再結晶焼
鈍および水素雰囲気中１１００〜１２５０″Ｃ程度の温
度域での純化焼鈍からなる最終仕上げ焼鈍を行う。

この最終仕上げ焼鈍の際の焼鈍分離剤としては、従来か
らフォルステラ・イト被膜も同時に形成させるために用
いられてきたＦＩｇＯ　＠主成分とする焼鈍分離剤も勿
論使用できるが、かかるフォルステライト被膜を生成さ
せない様に配合された、たとえばＡ　ｆ　ｚｏｚ等を主
成分とし、これに不活性のＭｇＯやＣａ，　Ｓｒ化合物
を添加し、た分離剤がとりわけ有利である。

次に最終仕上げ焼鈍板の表面酸化層を必要に応じて除去
する。除去方法としては、酸洗等の化学的方法とエメリ
ー研磨等の機械的手法とがあり、特に限定はしないが、
機械的手法で表面酸化層を除去した場合には、鋼板内部
に歪みが入り易く、かかる歪は続く電解処理によっても
完全には解放できないので、表面酸化物の除去は酸洗処
理で行う方が好ましい。

ついでこのように表面酸化層を除去した表面を陽極電解
処理によって磁気的平滑面、すなわち結晶粒界がＲ．．
８で０．４μ１以上の段差状または溝状の凹部を形成す
るとともに、結晶粒の表面が凸部の境界を介して窪みが
隣接したいわゆるダレイニンゲ欅面とする． ここに磁気的に平滑面なグレイニング様面は、水溶性の
ハロゲン化物を１種以上含む水溶液を電解′／：￥とｒ
る陽極電解処理によー・，て容易に得ることり＜７′　
　き　る。

゜ζで水溶性のハロゲン化物とは、Ｃｊ！．Ｆ，Ｂｒ．
■を陰イオンとする酸、またはそのアルカリ、アルカリ
土類、、その他の金属塩類およびアンモニウム塩のうち
の水溶性のもの、さらにはほうふつ化物（ＢＦ，塩）お
よびけいふっ化物（Ｓｉｈ塩）のうちの水溶性のものを
意味する。その代表例を例示すると、ＨＦ＋　Ｎａｐ，
　Ｋｐ，　ＮＨｎＰ，　ＨＢｒ．　ＮａＢｒ，　ＫＢｒ
，ＭｇＢｒｚ，　ＣａＢｒｔ＋　ＮＨ４Ｂｒ，旧＋　Ｎ
ａＬ　ＫＩ＋　ＮＨａＬ　ＣａｌｚＭｇｌｚ．　ＨｚＳ
ｉＰａ，　ＭｇＳｉＦａｌ（ＮＨａ）ｚｓｉＰｂ＋　Ｈ
ＢＦ４１　ＮＨ４ＢＰａ，ＮａＢＦａ＋　ＨＣＬ　Ｎａ
Ｃｌ，　ＫＣ１＋　ＮＨ４Ｃ１＋　ＭｇＣ］ｚ，　Ｃａ
Ｃｌｚお．よび＾ＩｃＩｆｆ等である。これらはいずれ
も（１１０｝面を有する仕上げ焼鈍後の方向性けい素鋼
板に対し磁気的平滑化効果を持つものであるが、実操業
においては陰極への金属析出の防止等を考慮して、これ
らの中から適宜に選択して使用することが望ましい。こ
こに浴濃度は、浴の電気伝導度を確保するうえから２０
ｇ＃２以上、また浴温は常温〜９０゜Ｃ程度が望ましい
．さらに一流密度は、数＋Ａ／ｄｍ”〜数百４／ｄａｚ
の広い範西．ご一定できる。なお鉄損を低下させる見地
：：ｌ・・“・、こ・′）ネ明における電、：騨の電気
量および電解除去＠　ｌ．ｆイれぞれ　３００Ｃ／ｃｌ
ｍ”以上、片面当り１〃ＩｌｌレソＪ：番、′ｔ′ろ１
二とが好ま１．，い，、以上のようにこの発明において
は従来の方法にくらべてきわめて広範囲な条件下で磁気
的平滑化効果を得ることができ、この点もこの発明が工
業的に実施されるうえで有利であることの重要な根拠と
である。

ここで電解反応による浴の変化をＮａＣ　ｌ水溶液を例
にとって示すと次のとおりである。

陽極：　Ｆｅ＋２ＣＩ−　−＋　ＦｅＣ１ｚ　＋２ｅ−
　　　　　　　−（１）陰極：　２Ｎａ”＋２ＨｚＯ＋
２ｅ−　−４　２ＮａＯＨ十Ｈｚ↑　　　−（２）バル
ク：　ＦｅＣＩｚ　＋２ＮａＯＨ　−＋２ＮａＣｌ　＋
Ｆｅ（ＯＨ）ｚ　↓　−（３）すなわち（１）式によっ
て生成したＰｅＣｌ，と、（２）式で生成したＮａＯＨ
とは、（３）式に示した反応によって自動的にＮａＣ１
を再生する。したがって浴組成の制御は、基本的には（
３）式で生成するＦｅ　（ＯＨ）　ｚの沈澱の除去と、
水の補給、および鋼板が系外へ持ち出すＮａＣｌの補給
を行えばよいことになり、従来の化学研磨あるいは電解
研磨にくらべ、はるかに容易かつ低コストなものとなる
。この点もこの発明方法が工業的に優れたものであるこ
との一つの理由である。

上記の磁気的平滑化処理を施すことによって、磁気特性
の効果的な向上を図ることができるが、処理後の鋼板表
面ば地鉄が露出しているので積層時における眉間抵抗が
ない。従って鋼板の表面には絶縁コーティングを施す必
要がある。その際、絶縁被膜として鋼板表面に対し、引
っ張り応力を付与できるものを用いれば、渦電流損の低
下による鉄損の＃．滅が期待できる。しかしながら従来
の磁気的平滑面を得る手段である鏡面研磨によって得ら
れた面は、絶縁コーティングを施し難いだけでなく、被
膜の密着性に問題があったことは前述したとおりである
。

この点、この発明に係るグレイニング様面は、網目上粒
の境界に凸部を有するだけでなく、結晶粒解が段差や溝
状の凹部を形成しているので、コーティング被膜の密着
性は極めて良好である。

（実施例） 表１に示す種々の組成になるけい素鋼素材スラブを、熱
間圧延し、ついで中間焼鈍を含む２回の冷間圧延を施し
て板厚７　０．２３ｍｍの最終冷延板としたのち、８０
０゜Ｃの湿水素中で脱炭・１次再結晶焼鈍を施した。そ
の後ＭｇＯを主成分とする焼鈍分離剤を塗布してから、
８６０″０．５０時間の２次再結晶焼鈍、ついで１２０
０゜Ｃ，　　５時間の純化焼鈍を施した。

次に、表面の酸化物を除去したのち、表２に示す種々の
組成になる電解液を用いて陽極電解処理を行った。

かくして得られた製品板の磁気特性について調べた結果
を表２に示す。

なお同表には、比較のため、りん酸一クロム酸を用いた
鏡面研磨および機械的研磨（エメリー５１０００仕上げ
）を行った場合についての調査結果も併せて示す。

この発明法に従って得られたもの（適合例１〜２５）は
いずれも、高い磁束密度と共に低い鉄損値が得られてい
る。

これに対し、化学成分は満足するものの、従来法に従う
りん酸一２１”コ！゛、酸液で処理したもの（比較例１
）は、鉄ｔＪＪ　ｔｒｉ向！―は認められたけれども、
磁束密度の改善効果は小さかった。また機械的研磨法で
処理したもの（比較例２）は、鉄損および磁束密度とも
かえって劣化した。

さらに化学成分がこの発明の適正範囲を逸脱した試料番
号２５〜２６についごは、この発明法に従って処理した
場合（比較し・！１３．６）であ．っても、磁束密度お
よび鉄損の改５″Ｆ　Ｑｂ果はこの発明に及ばフ，Ｃか
った３またり．４、ゲ！一／メロｌ、酸液で処理した場
合（比較例４，’？）は、鉄Ｉ口の向上は認められたも
のの、磁束密度゛−１、依然ばてシて低いままであった
。

なお機械的研磨法で卵．．理した場合（比較例５．８）
に到っては、磁気特性は劣悪であった．ついで適合例１
．２および比較例１．３について、電解処理後、さらに
ＰｖＤにて１ｕｍ厚のＴｉＮ張力コーティングを施した
ところ、得られた鉄…特性は次のとおりであり、 Ｗ＋ｆｆ／ｓｏ（Ｗ／ｋｇ） 適合例１　　　　　０．６５ 適合例２　　　　０．６３ 比較例１　　　　　０．７０ 比較例３　　　　０．７９ この発明に従う場合には、より一層の鉄損改善効果が見
られた． 次に、上記のＴｉＮコーティングを施したものについて
、２０ｍｍφの曲げ密着性テストを行った結果４ｃＬ、
次表３ 表３ のとおりであり，この発明に従いハロゲン化物浴中で電
解処理したものについては、ＴＩＮ被膜密着性は極めて
良好′ごめった．このＴｉＮコーティングは、ｉｔい素
崎板表Ｉｆｉ］に幻しーと等方的な張力を付与し、還流
磁区を消失、きω’．′ｒ　１８０゜磁区幅を細分化さ
拷る効果がある， 実施例２ 表４に示す種々の組成になるけい素調素材スうブを、熱
間圧延し・、ついで中間焼鈍を含む２回の冷間圧延を施
して板厚：　０．２３ｍｍの最終冷延板としたのち、８
００　’Ｃの湿水素中で脱炭・１次再結晶焼鈍を施した
４その後恥りを主成分とｒる焼鈍分離削を塗布してか・
′：Ｉ、８６０　’Ｃ．　５０時間の２．次再結晶焼鈍
、ついで１１８Ｑ’Ｃ．　　５時間の純化焼鈍を施し，
．上，．次に、表面の酸化物ｆ：除去したのち、表５に
承す種々の岨膚．１．７！・イ）電解液を用いて陽極電
解処理を行った。

さらに一部にー・いては　ＰｖＤにて片面１〃脅戸のＴ
ｉＮ張カコーティングを両面に施した．かくして得られ
た製ｌ１＾板の磁気特性について羽べた結果を表５に示
す。

なお同表には、比較のため、りん酸一クロム酸を用いた
鏡面研磨および機械的研磨（エメリー”　１ｔｌＱＯ仕
上げ）を行った場合についての調査結果一、、併仕て示
す． 同表より明らかなように、この発明法に従いハロゲン化
物浴中で電解処理、さらにはＴｊＮコーティングを施し
たもの（適合例２６〜４９）はいずれも、高い磁束密度
と共に低い鉄損値が得られた。

これに対し、インヒビターとしてＡｓ＋　ａｘ，　Ｔｅ
を含有せず、化学成分がこの発明の適正範囲から逸脱し
た試料番号５１〜５２については、この発明法に従って
処理した場合（比較例９．１２）であっても、磁束密度
および鉄損の改善効果は小さかった。またりん酸一クロ
ム酸液で処理した場合（比較例１０．１３）は、鉄損の
向上は認められたものの、磁束密度は依然として低いま
まであった。なお機械的研磨法で処理した場合（比較例
１１．　１４）に到っては、磁気特性は劣悪であった。

（発明の効果） かくしてこの発明によれば、磁束密度ならびに鉄攬特性
に優れ、しかも被膜密着性に優れた方向性けい素鋼板を
、低コストの下で安定して得ることができる，

【図面の簡単な説明】

第１図は、酸化物が表面に存在する方向性けい素鋼板、
鏡面化処理を施した方向性けい素鋼板およびその後さら
に酸洗を施して表面が荒れた方向性けい素調板の各鉄堝
を比較して示したグラフ、第２図は、高磁束密度材およ
び低磁束密度材両者について陽極電界処理ついでＴｆＮ
コートを施したときの鉄損値を示したグラフである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、Ｃ：０．０２５〜０．０６０ｗｔ％、 Ｓｉ：２．０〜４．０ｗｔ％、 Ｍｎ：０．０１〜０．２０ｗｔ％、 ＳおよびＳｅのうちから選んだ１種また は２種合計：０．００５〜０．０５０ｗｔ％、Ａｓ、Ｂ
   ｉおよびＴｅのうちから選んだ少なくとも１種：０．０
   ０３〜０．０５０ｗｔ％を含む組成になる含けい素鋼ス
   ラブを、常法に従って熱間圧延し、ついで１回または中
   間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施して最終製品厚の
   冷延板としたのち、脱炭・１次再結晶焼鈍を施し、さら
   に焼鈍分離剤を塗布してから最終仕上げ焼鈍を施したの
   ち、水溶性のハロゲン化物を１種以上含む水溶液中で陽
   極電解処理を施すことを特徴とする磁束密度が極めて高
   い低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法。 ２、Ｃ：０．０２５〜０．０６０ｗｔ％、 Ｓｉ：２．０〜４．０ｗｔ％、 Ｍｎ：０．０１〜０．２０ｗｔ％、 ＳおよびＳｅのうちから選んだ１種また は２種合計：０．００５〜０．０５０ｗｔ％、Ａｓ、Ｂ
   ｉおよびＴｅのうちから選んだ少なくとも１種：０．０
   ０３〜０．０５０ｗｔ％を含む組成になる含けい素鋼ス
   ラブを、常法に従って熱間圧延し、ついで１回または中
   間焼鈍を挟む２回以上の冷間圧延を施して最終製品厚の
   冷延板としたのち、脱炭・１次再結晶焼鈍を施し、さら
   に焼鈍分離剤を塗布してから最終仕上げ焼鈍を施したの
   ち、水溶性のハロゲン化物を１種以上含む水溶液中で陽
   極電解処理を施し、しかるのち該鋼板表面に張力コーテ
   ィングを施すことを特徴とする磁束密度が極めて高い低
   鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法。 ３、含けい素鋼スラブが、 Ｃ：０．０２５〜０．０６０ｗｔ％、 Ｓｉ：２．０〜４．０ｗｔ％、 Ｍｎ：０．０１〜０．２０ｗｔ％、 ＳおよびＳｅのうちから選んだ１種また は２種合計：０．００５〜０．０５０ｗｔ％、Ａｓ、Ｂ
   ｉおよびＴｅのうちから選んだ少なくとも１種：０．０
   ０３〜０．０５０ｗｔ％のほか、 ＳｎおよびＳｂのうちから選んだ少なくと も１種：０．０１〜０．０５ｗｔ％ を含むものである請求項１または２記載の製造方法。