JPH02227254A - インクジェット記録ヘッド、該ヘッド用基体および該基体の製造方法 - Google Patents

インクジェット記録ヘッド、該ヘッド用基体および該基体の製造方法

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JPH02227254A
JPH02227254A JP4883889A JP4883889A JPH02227254A JP H02227254 A JPH02227254 A JP H02227254A JP 4883889 A JP4883889 A JP 4883889A JP 4883889 A JP4883889 A JP 4883889A JP H02227254 A JPH02227254 A JP H02227254A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、熱エネルギーによってインク中に気泡の発生
を含む状態変化を生起させ、この状態変化に伴って吐出
口からインクを吐出させて記録を行うインクジェット記
録ヘッド、該ヘッド用基体および該基体の製造方法に関
する。
[従来の技術] インクジェット方式による記録は、記録時における騒音
の発生が無視し得る程度に小さいという点、および高速
記録が可能であり、しかも定着という特別な処理を必要
とせず普通紙に記録の行える点において最近関心を集め
ている。
中でも、例えば特開昭54−51837号公報、ドイツ
公開(DOLS)第2843084号公報等に記載され
ているインクジェット記録方式は、熱エネルギーをイン
クに作用させて、インク液滴を吐出するための作用力を
得るという点において、他のインクジェット記録方式と
は異なる特徴を有している。
すなわち、上記公報に開示されている記録方式は、熱エ
ネルギーの作用を受けた液体が急激に過熱されて気泡を
発生し、この気泡の膨張、収縮に伴うインク中の圧力波
伝帳によって吐出口よりインク液滴が吐出され、飛翔的
液滴が形成される。
特に、DO5L2843084号公報に開示されている
インクジェット記録方式は、所謂ドロップ・オンデマン
ド方式の記録方式に極めて有効に通用されるばかりでは
なく、記録ヘッド部がフルラインタイプで、高密度マル
チオリフィス化された記録ヘッドが容易に具現化できる
ため、高解像度、高品質の画像を高速で得られるという
特徴を有している。
上記の記録方式に適用される装置の記録ヘッドは、イン
ク液滴を吐出するために設けらな吐出口(以下、オリフ
ィス)と、オリフィスに連通し、インクを吐出するため
の熱エネルギーをインクに作用させる部分としての熱作
用部を構成の一部とするインク液路とを有する液吐出部
と、熱エネルギーを発生する手段としての電気熱変換体
とを具備している。
そして、この電気熱変換体は、一対の電極と、これら電
極に接続し、電極間に、発熱する領域(熱発生部)を構
成する発熱抵抗層とからなる。
これら電気熱変換体および電極は、一般的にインクジェ
ット記録ヘッドの基板部分の上部層中に形成される。こ
のような電気熱変換体の形成された基板構成の一従来例
を第1G図(^)および第10図(B)に示す、以下、
図面に従って従来例について説明する。
第1θ図(^)は、インクジェット記録ヘッドを構成す
る基体(以下、基板という)における電気熱変換体付近
の部分平面図であり、第1図(B)は第1図(A)の−
点鎖線XYで示す部分の部分断面図である。
図において、基板101は、基板支持体105上に、順
次、下部層1061発熱抵抗層107.電極103.1
04.第1の上部保護層108.第2の上部保護層10
9.第3の上部保護層110を積層して形成される。
発熱抵抗層107と電極103,104はエツチングに
よって所定の形状にバターニングされる。すなわち、電
気熱変換体102を構成する以外の部分では、同一形状
にバターニングされており、電気熱変換体102を構成
する部分では、発熱抵抗層107上に電極は積層されず
、発熱抵抗層107が熱発生部111を構成している。
第1の上部保護層108および第3の上部保護層110
は基板101の全面にわたって積層されているが、第2
の上部保護層109は電気熱変換体102上には積層さ
れないようにバターニングされている。
上記のように形成された基板の上層部に使用される材料
は、その上層部が設けられるそれぞれの部位によって要
求される耐熱性、耐液性、熱伝導性、絶縁性等の特性に
応じて選択される。上記従来例における第1の上部保護
層108の主な機能は、共通電極103と選択電極10
4間の絶縁性を保つことにあり、第2の上部保護層10
9の主な機能は、液浸透防止と耐液作用にあり、第3の
上部保護層110の主な機能は、耐波性と機械的強度の
補強にある。
[発明が解決しようとする課題] ところで、電気熱変換体(吐出ヒータともいう)102
の上層にある第1.第3の保護層108゜110では、
第3の保護層110がインクと接しており、これら層を
形成する膜の欠陥については、絶縁性等の面で特に注意
を払わなければならない。
膜の欠陥としては、ピンホールや、膜中のごみがあげら
れ、ピンホールに関しては例えば特開昭60−1578
72号公報に示すように、膜部分の下地を陽極酸化する
ことでその発生を防止できるが、膜中のごみの混入に関
しては解決できなかった。
すなわち、熱を作用させるインクジェット方式に由来し
て第1.第3の保護層108,110は薄くなければな
らず(最大3μ層)、シたがりて、その形成方法が真空
堆積法に限定されていた。真空堆積法は、その方式によ
り膜中のごみがある確率で混入するものであり、これは
、真空容器を真空にする際、または再び真空とする際に
真空容器の壁から剥離した膜の一部が基板に付着し、膜
中のごみとなるからである。
基板に形成される吐出ヒータが24個程度の基板であれ
ば、ごみ混入によって不良となる確率は低くなるため、
この基板を不良品として扱えば問題はないが、吐出ヒー
タが1000個以上形成されるような基板の場合、ごみ
混入の数が多くなりヘッドの耐久性が悪くなることがあ
る。すなわち、膜中にごみが存在した場合、そのごみが
、インクを吐出させるための気泡の消滅時の作用力によ
り膜中から離脱し、そこがピンホールとなる。このピン
ホールにインクが浸入し、インクが吐出ヒータと接触し
て反応し、吐出ヒータが断線を生じることもある。
このように、熱発生部の保護層に欠陥、特に膜中にごみ
が浸入することにより、そのヘッドの耐久性が著しく低
下することになる。このような場合、例えば24個程度
の吐出ヒータが形成される基板であれば、不良となる確
率は低いので、そのような基板を不良とすることは歩留
り上問題ないが、1000個以上の吐出ヒータが形成さ
れる基板の場合、ごみが混入する数も多くなりこれらを
全て不良とすると歩留り低下の原因となる。
本発明は上述した従来の問題点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、吐出のための熱エネル
ギーを発生する電気熱変換体の保護層中に生じた空孔を
他の保護材によって充填することにより、記録ヘッドの
耐久性を増し、また製造歩留りを向上させることが可能
なインクジェット記録ヘッドの基板を提供することにあ
る。
[課題を解決すらための手段] そのために本発明では、基体支持体上に配設され、イン
クを吐出するために利用される熱エネルギーを発生する
電気熱変換体と、電気熱変換体をインクから保護するた
め電気熱変換体を被覆して積層される保護層と、を有す
るインクジェット記録ヘッド用基体の製造方法において
、保護層中に生じた空孔に保護材を充填する工程を有す
ることを特徴とする。
[作 用] 以上の構成によれば、インクと電気熱変換体との絶縁が
確実になされる。
[実施例] 以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
第1図(^)および(B)は、本発明の一実施例を示す
記録ヘッド基板(基体ともいう)のそれぞれ上面図およ
び側断面図である。第10図に示したのと同様の要素に
は同一の符号を付してその説明は省略する0図において
、基板支持体105、下部層106が形成された上層に
、まず、発熱抵抗層107、導電層103,104を真
空薄膜作成技術を用いて成膜する0次に、フォトリソ技
術により発熱抵抗体102(電気熱変換体)、電極部1
03,104のパターンを形成する。さらに、5in2
よりなる第1の保護層108をスパッタにより0,5μ
履の厚さで形成する。
第1保護層108を形成した後、光学顕微鏡によって基
板を検査し、発熱抵抗体102の保護層108に欠陥1
12が存在する基板を抽出する。次に、この抽出された
基板を強力な超音波槽の中に入れ、欠陥部112のごみ
(異物)を除去する。この結果が第2図に示され、図中
112Aは異物が除去された後の空孔を示す。
次に、この空孔を充填するために、基板を真空チャンバ
ーに入れ、シラン(Sin4)とNO□を注入してIT
orrの雰囲気にする0次に、この空孔部分112Aに
レーザを照射し、この部分でシラン(SiH4)とNO
,を反応させる。この結果、第3図に示すように空孔1
12^にはSin、 113が堆積される。なお、空孔
に5i02を堆積させる量は、照射時間を調節すること
によりて行う、空孔の充填を終了すると、第4図に示す
ように、上部保護層109,110を形成し、基板の製
造工程を終了する。
空孔を充填する他の実施例として、以下に示すような方
法がある。
第2図に示したような基板にスパッタにより、第5図に
示すように51(h 11Bを0.5μ■の厚さで成膜
する0次に、レジスト114(OFPR800)を4μ
lの厚さでスピンコードにより塗布する。そしてフォト
リソ技術により、空孔部分に対応して窓114Aをあけ
たパターンを形成する。さらに、レジスト115(OF
PR800)を1μ票の厚さでスピンコードにより塗布
する。後から塗布したレジスト115の厚みは、先に塗
布したレジスト114の厚みより薄いので平坦化されず
、第6図に示すような形態となる。
その後、リアクティブイオンエツチング装置を用いてC
F、とH2とを1:lの比で注入し、 400Wのパワ
ーでエツチングする。この時レジストのエツチング速度
はSOO人/+in、 Sin、のそれは500人/l
1inなのでレジストと5i02は等速度でエツチング
される。このエツチングにより、レジストが塗布された
発熱抵抗体の部分は、510211Bの厚み0.5μl
に対してレジスト115の厚みは1μ■なので、エツチ
ングによる形成面は平坦になり、従って、元の形状のま
までエツチングされる。発熱抵抗体102の部分でレジ
ストがエツチングされなくなった時点でエツチングを終
了する。この結果、基板の形態は第7図に示すようにな
る0次に、レジスト114.115を剥離し、電極10
3,104の保護層として有機ポリイミドよりなる第2
の保護層109を形成する。最後に第3の保護層110
としてTaをスパッタにより成膜し、第8図に示す形態
とする。
上述のようにして形成した基板を用いて作成した記録ヘ
ッドの吐出耐久試験の結果を以下に示す。
比較例として、約3μm程度の欠陥部を有した基板で構
成される記録ヘッドを用いた。また、印加パルスとして
は、周波数2kHz、パルス幅lOμSの矩形パルスを
用い、さらに、印加電圧は、通常の吐出のための電圧値
の1.2倍とした。
ここで、実施例1とは前述した空孔充填方法における前
者の方法、実施例2は後者の方法によってそれぞれ空孔
の充填がなされた基板の記録ヘッドによるものである。
上記実施例では、記録ヘッドの構成を基板が延在する方
向にインク吐出を行うものとしたが、基板の延在方向と
垂直な方向にインク吐出を行う構成の記録ヘッドにも本
発明が有効であることは明らかである。このような記録
ヘッドの一例を第9図に示す。
[発明の効果] 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、イン
クと電気熱変換体との絶縁が確実になされる。
この結果、記録ヘッドの使用に伴う電気熱変換体の断線
等が生じ難くなり、記録ヘッドの耐久性が向上する。
また、基板の不良を少なくすることができ、歩留りが向
上する結果、記録ヘッドの製造コストを低下させること
が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図(^)および(B)は、本発明の一実施例にかか
る基板の上面図および該上面図におけるX−Y断面図、 第2ないし第4図は、本発明の一実施例を示し、空孔の
充填過程を説明するための断面図、第5図ないし第8図
は、本発明の他の実施例を示し、同様に空孔の充填過程
を説明するための断面図、 第9図は、本発明の基板が適用可能な他の形態の記録ヘ
ッドを示す斜視図、 第10図(^)および(幻は、従来の基板構成を示す各
々上面図および断面図である。 101・・・ヘッドの基板、 102−・・発熱抵抗体(電気熱変換体)、103.1
04・・・電極、 105−・・支持体、 106・・・下部層、 107・・・発熱抵抗層、 ioa・・・第1の上部保護層、 109・・・第2の上部保護層、 110・・・第3の上部保護層、 112・1欠陥部、 112^・・・空孔、 113・・・充填保護材、 114.115・・・レジスト、 116・・・5I02層。 第7図(8) 第6図 第4図 第7図 第8図 第9図 Y 第1O図(A) 第10図CB>

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)基体支持体上に配設され、インクを吐出するために
    利用される熱エネルギーを発生する電気熱変換体と、該
    電気熱変換体をインクから保護するため前記電気熱変換
    体を被覆して積層される保護層と、を有するインクジェ
    ット記録ヘッド用基体の製造方法において、 前記保護層中に生じた空孔に保護材を充填する工程を有
    することを特徴とするインクジェット記録ヘッド用基体
    の製造方法。 2)前記充填は、前記保護材を組成するための複数の物
    質を、前記空孔において反応させることにより行うこと
    を特徴とする請求項1に記載のインクジェット記録ヘッ
    ド用基体の製造方法。 3)前記充填は、前記保護層の前記空孔の上に前記保護
    材を成膜することによって行うことを特徴とする請求項
    1に記載のインクジェット記録ヘッド用基体の製造方法
    。 4)前記充填を、前記保護層の前記空孔の上に前記保護
    材を成膜することによって行い、当該成膜の後、前記充
    填に関与する以外の前記保護材を前記空孔のパターンに
    応じたエッチングによって除去することを特徴とする請
    求項1に記載のインクジェット記録ヘッド用基体の製造
    方法。 5)請求項1ないし4のいずれかの項に記載の製造方法
    によって製造されたインクジェット記録ヘッド用基体。 6)請求項5に記載の基体を用いて構成されたインクジ
    ェット記録ヘッド。 7)基体支持体上に配設され、インクを吐出するために
    利用される熱エネルギーを発生する電気熱変換体と、該
    電気熱変換体をインクから保護するため前記電気熱変換
    体を被覆して積層される保護層と、を有するインクジェ
    ット記録ヘッド用基体の製造方法において、 前記保護層中に混入した異物を除去する工程と、当該除
    去によって生じた空孔に保護材を充填する工程とを有す
    ることを特徴とするインクジェット記録ヘッド用基体の
    製造方法。
JP4883889A 1989-03-01 1989-03-01 インクジェット記録ヘッド、該ヘッド用基体および該基体の製造方法 Expired - Fee Related JP2659238B2 (ja)

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