JPH02224380A - 圧電変位素子及びその製造方法 - Google Patents
圧電変位素子及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、アクチュエータやブザー等に使用するための
圧電変位素子及びその製造方法に関する。
圧電変位素子及びその製造方法に関する。
[従来の技術〕
アクチュエータやブザー等に用いられている従来のモノ
モルフ構造の圧電変位素子は、第2図に示すように圧電
性磁器1と、一対の電極2.3と、金属板4とから成る
。
モルフ構造の圧電変位素子は、第2図に示すように圧電
性磁器1と、一対の電極2.3と、金属板4とから成る
。
[発明が解決しようとする課題]
ところで、圧電変位素子の小型化、低電圧駆動化が要求
されている。この要求に応える為に、圧電性磁器を薄く
することが必要になり、100μm以下の肉厚の圧電性
磁器が作られている。しかし、圧電性磁器を薄くすれば
、機械的強度が低下し、電極形成工程又は分極処理工程
又は金属板の接着工程で圧電性磁器が破損し、製造歩留
りが低下する。
されている。この要求に応える為に、圧電性磁器を薄く
することが必要になり、100μm以下の肉厚の圧電性
磁器が作られている。しかし、圧電性磁器を薄くすれば
、機械的強度が低下し、電極形成工程又は分極処理工程
又は金属板の接着工程で圧電性磁器が破損し、製造歩留
りが低下する。
そこで、本発明の目的は、小型化又は低電圧駆動が可能
であるにも拘らず、厚い磁器を有している圧電変位素子
及びその製造方法を提供することにある。
であるにも拘らず、厚い磁器を有している圧電変位素子
及びその製造方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するための本発明は、一方の主面側に圧
電変位する第1の領域を有し、他方の主面側に前記第1
の領域よりも圧電変位が少ないか又は圧電変位しない第
2の領域を有する磁器と、前記一方及び他方の主面に設
けられた第1及び第2の電極とから成る圧電変位素子に
係わるものである。
電変位する第1の領域を有し、他方の主面側に前記第1
の領域よりも圧電変位が少ないか又は圧電変位しない第
2の領域を有する磁器と、前記一方及び他方の主面に設
けられた第1及び第2の電極とから成る圧電変位素子に
係わるものである。
また、上記目的を達成するための圧電変位素子の製造方
法は、一対の主面を有する板状の圧電性磁器の一方の主
面に卑金属又は卑金属化合物を含む電極材料の層を形成
し、加熱処理によって卑金属又は卑金属化合物を前記磁
器の他方の主面に達しない深さに拡散させることによっ
て圧電変位が少ないか又は圧電変位しない領域を形成す
ることを特徴とするものである。
法は、一対の主面を有する板状の圧電性磁器の一方の主
面に卑金属又は卑金属化合物を含む電極材料の層を形成
し、加熱処理によって卑金属又は卑金属化合物を前記磁
器の他方の主面に達しない深さに拡散させることによっ
て圧電変位が少ないか又は圧電変位しない領域を形成す
ることを特徴とするものである。
[作用]
本発明の圧電変位素子における第1の領域は従来の圧電
性磁器と同様に作用する。この第1の領域を薄く形成し
ても、第1の領域に一体に第2の領域が形成されている
ので、磁器の強度の低下を防ぐことができる。また、第
2の領域は従来の金属板と等価な機能を有する。
性磁器と同様に作用する。この第1の領域を薄く形成し
ても、第1の領域に一体に第2の領域が形成されている
ので、磁器の強度の低下を防ぐことができる。また、第
2の領域は従来の金属板と等価な機能を有する。
[第1の実施例]
本発明の第1の実施例に係わる圧電変位素子及びその製
造方法を説明する4 )O−PbTiO3 P b (Z n 1/3 N b 2/3 3−P
bZrO−(LiLa)1/27103(LiBl)
Tie3系磁器を得るために、1/2 P b (Z n 1/3 N b 2/3 ) 03
が23モル部、PbTlO3が27.6モル部、 PbZr0 が41.4モル部、 (L i L a ) T i O3が2モル部、
1/2 (LiBi)1,2TiO3が6モル部、の割合となる
ように各材料粉末を計量し、主成分原料粉末を得、この
主成分原料粉末100重量部に対して副成分としてNb
2O5の粉末を0.5重量部添加した。
造方法を説明する4 )O−PbTiO3 P b (Z n 1/3 N b 2/3 3−P
bZrO−(LiLa)1/27103(LiBl)
Tie3系磁器を得るために、1/2 P b (Z n 1/3 N b 2/3 ) 03
が23モル部、PbTlO3が27.6モル部、 PbZr0 が41.4モル部、 (L i L a ) T i O3が2モル部、
1/2 (LiBi)1,2TiO3が6モル部、の割合となる
ように各材料粉末を計量し、主成分原料粉末を得、この
主成分原料粉末100重量部に対して副成分としてNb
2O5の粉末を0.5重量部添加した。
次に、主成分原料粉末と副成分との合計重量に対して、
アクリル酸エステルポリマーグリセリン縮合リン酸塩の
水溶液から成る有機バインダを151:量%添加し、更
に50重量%の水を加え、これ等をボールミルに入れて
粉砕し、混合して磁器原料のスラリーを作製した。
アクリル酸エステルポリマーグリセリン縮合リン酸塩の
水溶液から成る有機バインダを151:量%添加し、更
に50重量%の水を加え、これ等をボールミルに入れて
粉砕し、混合して磁器原料のスラリーを作製した。
つぎに、このスラリーを使用してドクタブレード法によ
り、厚さ約150μmのグリーンシートを作った0次に
このシートを長さ45市、幅15市の長方形になるよう
にカットした後、1150℃で2時間焼成することによ
り、厚さ約100μm、長さ約30rm、幅約10市の
圧電性磁器を得た。
り、厚さ約150μmのグリーンシートを作った0次に
このシートを長さ45市、幅15市の長方形になるよう
にカットした後、1150℃で2時間焼成することによ
り、厚さ約100μm、長さ約30rm、幅約10市の
圧電性磁器を得た。
次に、第1図(A)に示すように圧電性磁器11の一方
の主面に、Ag粉末が100重量部、Pbo−B O
−3102系ガラス粉末が10重1部、有機バインダー
が20重量部からなる導電ペーストを塗布して第1の導
電ペースト層12を形成し、また他方の主面に、Zn粉
末が100重量部、PbO−8203−3102系ガラ
ス粉末が10重量部、有機バインダーが20重量部から
なる導電ペーストを塗布して第2の導電ペースト層13
を形成した。
の主面に、Ag粉末が100重量部、Pbo−B O
−3102系ガラス粉末が10重1部、有機バインダー
が20重量部からなる導電ペーストを塗布して第1の導
電ペースト層12を形成し、また他方の主面に、Zn粉
末が100重量部、PbO−8203−3102系ガラ
ス粉末が10重量部、有機バインダーが20重量部から
なる導電ペーストを塗布して第2の導電ペースト層13
を形成した。
次に、第1図に示すものを650℃の温度で大気中にお
いて30分間熱処理し、第1図(B)に示す第1及び第
2の電極12a、12bを得た。
いて30分間熱処理し、第1図(B)に示す第1及び第
2の電極12a、12bを得た。
なお、熱処理を施すと、第2の導電ペースト層13中の
Zn(亜鉛)が磁器11に拡散し、磁器11の中にZn
非拡散領域から成る第1の領域11aと、Zn拡散領域
から成る第2の領域11bとが生じる。第1の領域11
aは圧電変位を得ることができる領域であり、第2の領
域11bは還元層であって圧電変位を得ることができな
い半導体領域である。
Zn(亜鉛)が磁器11に拡散し、磁器11の中にZn
非拡散領域から成る第1の領域11aと、Zn拡散領域
から成る第2の領域11bとが生じる。第1の領域11
aは圧電変位を得ることができる領域であり、第2の領
域11bは還元層であって圧電変位を得ることができな
い半導体領域である。
次に、静電容量CをLCRメーターにより1kHz、I
Vrmsの条件で測定したところ124゜2nFであっ
た。この静電容量値から第1の領域11aの厚みを推定
した後、120℃のシリコンオイル中で、第1の領域1
1aに対して2kV/關となるように直流電圧を第1及
び第2の電極12a、13a間に印加し、約1時間の分
極処理を施した0分極処理から24時間経過した後に、
磁器11の一端を固定し、一対のt極12a、13aに
直流電圧50Vを分極方向と同じ方向になる極性で印加
して磁器11の他端の変位量δを光電式非接触変位計を
用いて測定しなところ、40μmであった。
Vrmsの条件で測定したところ124゜2nFであっ
た。この静電容量値から第1の領域11aの厚みを推定
した後、120℃のシリコンオイル中で、第1の領域1
1aに対して2kV/關となるように直流電圧を第1及
び第2の電極12a、13a間に印加し、約1時間の分
極処理を施した0分極処理から24時間経過した後に、
磁器11の一端を固定し、一対のt極12a、13aに
直流電圧50Vを分極方向と同じ方向になる極性で印加
して磁器11の他端の変位量δを光電式非接触変位計を
用いて測定しなところ、40μmであった。
比較のなめに、第1図(A)のペースト層12.13の
いずれも銀ペーストとして、これを800℃で焼き付け
た他は、第1の実施例と同一方法で圧電変位素子を作り
、第1の実施例と同一の方法で特性を測定したところ、
静電容量Cは102゜8nF、変位量δは零であった。
いずれも銀ペーストとして、これを800℃で焼き付け
た他は、第1の実施例と同一方法で圧電変位素子を作り
、第1の実施例と同一の方法で特性を測定したところ、
静電容量Cは102゜8nF、変位量δは零であった。
両者の比較から明らかなように、本実施例によれば、金
属板を接着することなしに必要な変位量を得ることがで
きる。
属板を接着することなしに必要な変位量を得ることがで
きる。
[第2の実施例]
ペースト層121.13の焼付は温度を700’C57
50℃、800℃、850’Cに変えた他は、第1の実
施例と同一の方法で圧電変位素子をそれぞれ作り、それ
ぞれの特性を第1の実施例と同一の方法で測定したとこ
ろ、700℃の場合には静電容量Cが154.1nF、
変位量δが70μmであり、750℃の場合にはCが1
74.3nF、δが105μmであり、800℃の場合
にはCが206.5nF、δが140μmであり、85
0℃の場合にはCが224.5nF、δが155μmで
あった。
50℃、800℃、850’Cに変えた他は、第1の実
施例と同一の方法で圧電変位素子をそれぞれ作り、それ
ぞれの特性を第1の実施例と同一の方法で測定したとこ
ろ、700℃の場合には静電容量Cが154.1nF、
変位量δが70μmであり、750℃の場合にはCが1
74.3nF、δが105μmであり、800℃の場合
にはCが206.5nF、δが140μmであり、85
0℃の場合にはCが224.5nF、δが155μmで
あった。
[第3の実施例]
第1の実施例におけるZnペーストの代りに、Snペー
スト、N1ペースト、AIペーストを使用してペースト
層13をそれぞれ作り、700’Cで焼付処理した他は
第1の実施例と同一の方法でそれぞれの圧電変位素子を
作り、第1の実施例と同一方法で特性を測定したところ
、Snペーストの場合にはCが150.6nF、δが6
0umであり、Niペーストの場合にはCが143.6
nF、δが50μmであり、AIペーストの場合にはC
が161.5nF、δが75.czmであった。
スト、N1ペースト、AIペーストを使用してペースト
層13をそれぞれ作り、700’Cで焼付処理した他は
第1の実施例と同一の方法でそれぞれの圧電変位素子を
作り、第1の実施例と同一方法で特性を測定したところ
、Snペーストの場合にはCが150.6nF、δが6
0umであり、Niペーストの場合にはCが143.6
nF、δが50μmであり、AIペーストの場合にはC
が161.5nF、δが75.czmであった。
[変形例]
本発明は上述の実施例に限定されるものでなはく、例え
ば次の変形が可能なものである。
ば次の変形が可能なものである。
(1) ペーストの焼付温度は550’C〜850℃の
範囲が適当であり、650℃〜850℃の範囲が特に良
い、ペーストの焼付温度が低いとペースト中の卑金属又
はその酸化物が磁器11の粒界に拡散し難く、還元層即
ち半導体化された第2の領域11bが不十分となり、逆
に焼付温度が高過ぎると、電極金属が酸化してしまう。
範囲が適当であり、650℃〜850℃の範囲が特に良
い、ペーストの焼付温度が低いとペースト中の卑金属又
はその酸化物が磁器11の粒界に拡散し難く、還元層即
ち半導体化された第2の領域11bが不十分となり、逆
に焼付温度が高過ぎると、電極金属が酸化してしまう。
(2) 圧電性の第1の領域11aに対する第1の電極
12aはAg等の貴金属で形成することが好ましいが、
卑金属で形成することもできる。
12aはAg等の貴金属で形成することが好ましいが、
卑金属で形成することもできる。
卑金属で形成する場合には、メツキ法又はスパッタリン
グ法又はペーストの低温焼付で形成する。
グ法又はペーストの低温焼付で形成する。
(3) 磁器11はB a T i Osを主成分とす
るものであってもよい。
るものであってもよい。
(4) 第2の領域11bを形成するために、卑金属の
ペースト層13aの代りに、卑金属のスパッタリング層
、メツキ層等を設け、熱処理することによって拡散させ
てもよい。
ペースト層13aの代りに、卑金属のスパッタリング層
、メツキ層等を設け、熱処理することによって拡散させ
てもよい。
(5) 第2の電f!13 aに金属板等を接着しても
よい。
よい。
[発明の効果]
上述のように本発明によれば、磁器を薄型化せずに実質
的に薄型化したと同等の°圧電効果を有する圧電変位素
子を提供することができる。従って、圧電変位素子の製
造歩留りが向上する。また、金属板を接着することなし
に、モノモルフ型の圧電変位素子を構成することができ
る。
的に薄型化したと同等の°圧電効果を有する圧電変位素
子を提供することができる。従って、圧電変位素子の製
造歩留りが向上する。また、金属板を接着することなし
に、モノモルフ型の圧電変位素子を構成することができ
る。
第1図(A)(B)は本発明の実施例に係わる圧電変位
素子を製造工程順に示す原理的な断面図、第2図は従来
の圧電変位素子を示す断面図である。 11・・・磁器、lla・・・第1の領域、llb・・
・第2の領域、12a・・・第1の電極、13a・・・
第2の電極。
素子を製造工程順に示す原理的な断面図、第2図は従来
の圧電変位素子を示す断面図である。 11・・・磁器、lla・・・第1の領域、llb・・
・第2の領域、12a・・・第1の電極、13a・・・
第2の電極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 [1]一方の主面側に圧電変位する第1の領域を有し、
他方の主面側に前記第1の領域よりも圧電変位が少ない
か又は圧電変位しない第2の領域を有する磁器と、 前記一方及び他方の主面に設けられた第1及び第2の電
極と から成る圧電変位素子。 [2]一対の主面を有する板状の圧電性磁器の一方の主
面に卑金属又は卑金属化合物を含む電極材料の層を形成
し、加熱処理によって卑金属又は卑金属化合物を前記磁
器の他方の主面に達しない深さに拡散させることによっ
て圧電変位が少ないか又は圧電変位しない領域を形成す
ることを特徴とする圧電変位素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1045892A JP2584310B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 圧電変位素子及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1045892A JP2584310B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 圧電変位素子及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02224380A true JPH02224380A (ja) | 1990-09-06 |
JP2584310B2 JP2584310B2 (ja) | 1997-02-26 |
Family
ID=12731896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1045892A Expired - Lifetime JP2584310B2 (ja) | 1989-02-27 | 1989-02-27 | 圧電変位素子及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2584310B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6235748A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Hitachi Ltd | 多重集配信装置 |
JPH01232812A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-18 | Fujitsu Ltd | タンタル酸リチウムウェハ分極反転層形成方法 |
-
1989
- 1989-02-27 JP JP1045892A patent/JP2584310B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6235748A (ja) * | 1985-08-09 | 1987-02-16 | Hitachi Ltd | 多重集配信装置 |
JPH01232812A (ja) * | 1988-03-14 | 1989-09-18 | Fujitsu Ltd | タンタル酸リチウムウェハ分極反転層形成方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2584310B2 (ja) | 1997-02-26 |
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