JPH02221364A - 非酸化物セラミックスコーティング材料 - Google Patents
非酸化物セラミックスコーティング材料Info
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- JPH02221364A JPH02221364A JP1040154A JP4015489A JPH02221364A JP H02221364 A JPH02221364 A JP H02221364A JP 1040154 A JP1040154 A JP 1040154A JP 4015489 A JP4015489 A JP 4015489A JP H02221364 A JPH02221364 A JP H02221364A
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 37
- 229910052575 non-oxide ceramic Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 16
- 239000011225 non-oxide ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 title claims abstract description 12
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000011195 cermet Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 33
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 19
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 abstract description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 abstract description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 9
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 9
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 7
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- -1 tungsten nitride Chemical class 0.000 description 3
- INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 1-(chloromethyl)-4-[4-(chloromethyl)phenyl]benzene Chemical compound C1=CC(CCl)=CC=C1C1=CC=C(CCl)C=C1 INZDTEICWPZYJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910026551 ZrC Inorganic materials 0.000 description 2
- LRTTZMZPZHBOPO-UHFFFAOYSA-N [B].[B].[Hf] Chemical compound [B].[B].[Hf] LRTTZMZPZHBOPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N [C].[Zr] Chemical compound [C].[Zr] OTCHGXYCWNXDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N alumanylidynemethyl(alumanylidynemethylalumanylidenemethylidene)alumane Chemical compound [Al]#C[Al]=C=[Al]C#[Al] CAVCGVPGBKGDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 2
- UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N chromium carbide Chemical compound [Cr]#C[Cr]C#[Cr] UFGZSIPAQKLCGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- WHJFNYXPKGDKBB-UHFFFAOYSA-N hafnium;methane Chemical compound C.[Hf] WHJFNYXPKGDKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 description 2
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N tungsten carbide Chemical compound [W+]#[C-] UONOETXJSWQNOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N zirconium nitride Chemical compound [Zr]#N ZVWKZXLXHLZXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFEAOSSMQHGXMM-UHFFFAOYSA-N 12007-10-2 Chemical compound [W].[W]=[B] OFEAOSSMQHGXMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003925 SiC 1 Inorganic materials 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021550 Vanadium Chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009043 WC-Co Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N azane;chromium Chemical compound N.[Cr] SJKRCWUQJZIWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SKKMWRVAJNPLFY-UHFFFAOYSA-N azanylidynevanadium Chemical compound [V]#N SKKMWRVAJNPLFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229960002050 hydrofluoric acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I pentachlorovanadium Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[V+5] RPESBQCJGHJMTK-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はセラミックス材料、サーメット材料、超硬会合
材料および金属材料の母材表面に、非酸化物セラミック
スをコーティングすることにより、耐食性、耐摩耗性を
向上させた非酸化物セラミックスコーティング材料に関
する。
材料および金属材料の母材表面に、非酸化物セラミック
スをコーティングすることにより、耐食性、耐摩耗性を
向上させた非酸化物セラミックスコーティング材料に関
する。
[従来の技術]
従来、炭化ケイ素、炭化チタニウム、炭化ホウ素、炭化
アルミニウム、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、
炭化ハフニ゛ウム、炭化クロム、炭化バナジウムの炭化
物セラミックスや、窒化ケイ素、窒化チクニウム、窒化
ホウ素、窒化、アルミニウム、窒化ジルコニウム、窒化
タングステン、′@化八へニウム、窒化りロム、′?!
化バナジウムの窒化物セラミックスや、ホウ化チタニウ
ム、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化ク
ロム、ホウ化タングスデンのホウ化物セラミックスやカ
ーボン専の非酸化物セラミックスは一般的に加i[[5
00g程度のビッカース硬度が2000 kgf/ca
”以上で硬度が高く、また、高温での耐酸化′性や、溶
融金属に対する耐食性が高い特徴があるので、金属、超
硬合金、サーメット、セラミックス材料へ溶射法、塗装
法、?M合メツキ法、PVD法、CVD法などの種々の
方法でコーティングされている。
アルミニウム、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、
炭化ハフニ゛ウム、炭化クロム、炭化バナジウムの炭化
物セラミックスや、窒化ケイ素、窒化チクニウム、窒化
ホウ素、窒化、アルミニウム、窒化ジルコニウム、窒化
タングステン、′@化八へニウム、窒化りロム、′?!
化バナジウムの窒化物セラミックスや、ホウ化チタニウ
ム、ホウ化ジルコニウム、ホウ化ハフニウム、ホウ化ク
ロム、ホウ化タングスデンのホウ化物セラミックスやカ
ーボン専の非酸化物セラミックスは一般的に加i[[5
00g程度のビッカース硬度が2000 kgf/ca
”以上で硬度が高く、また、高温での耐酸化′性や、溶
融金属に対する耐食性が高い特徴があるので、金属、超
硬合金、サーメット、セラミックス材料へ溶射法、塗装
法、?M合メツキ法、PVD法、CVD法などの種々の
方法でコーティングされている。
溶射法−t?!装法、複合メツキ法では緻密なセラミッ
クスをコーティングすることが困難であり、また密着性
も不十分である。
クスをコーティングすることが困難であり、また密着性
も不十分である。
PVD法は緻密で密着性も優れた膜をコーティングする
ことができるが、合成温度が低いために多くのセラミッ
クス材料では非晶質になりその特性を十分発揮できてい
ない。
ことができるが、合成温度が低いために多くのセラミッ
クス材料では非晶質になりその特性を十分発揮できてい
ない。
CVD法はコーテイング膜は緻密で、母材との化学反応
を起こし密着強度も強いが、結晶質のコーティングを行
なうためには、−数的には1000℃以上のコーティン
グ温度を必要とする。コーティング温度が高いと母材と
の熱膨張率の違いから膜に亀裂(クラック)が入ったり
、剥離が起ってしまうものである。
を起こし密着強度も強いが、結晶質のコーティングを行
なうためには、−数的には1000℃以上のコーティン
グ温度を必要とする。コーティング温度が高いと母材と
の熱膨張率の違いから膜に亀裂(クラック)が入ったり
、剥離が起ってしまうものである。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は上記実情に鑑み種々研究した結果、発明したも
のであり、特性的に優れ、緻密な結晶質の非酸化物セラ
ミックス膜をセラミックス材料、サーメット材料、超硬
合金材料および金属材料の表面にコーティングするもの
に関する。
のであり、特性的に優れ、緻密な結晶質の非酸化物セラ
ミックス膜をセラミックス材料、サーメット材料、超硬
合金材料および金属材料の表面にコーティングするもの
に関する。
[課題を解決するための手段〕
本発明はセラミックス材料、サーメット材料、超硬合金
材料および金属材料の母材表面に、初め1200℃以下
のコーティング温度で、CVD法あるいはPVD法で、
炭化ケイ素、炭化チタニウム、炭化ホウ素、炭化アルミ
ニウム、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化ハ
フニウム、炭化クロム、炭化バナジウムの炭化物セラミ
ックスや、窒化ケイ素、窒化チタニウム、窒化ホウ素。
材料および金属材料の母材表面に、初め1200℃以下
のコーティング温度で、CVD法あるいはPVD法で、
炭化ケイ素、炭化チタニウム、炭化ホウ素、炭化アルミ
ニウム、炭化ジルコニウム、炭化タングステン、炭化ハ
フニウム、炭化クロム、炭化バナジウムの炭化物セラミ
ックスや、窒化ケイ素、窒化チタニウム、窒化ホウ素。
窒化アルミニウム、窒化ジルコニウム、窒化タングステ
ン、窒化八ツニウム、窒化クロム、窒化バナジウムの窒
化物セラミックスや、ホウ化チタニウム、ホウ化ジルコ
ニウム、ホウ化ハフニウム9ホウ化クロム、ホウ化タン
グステンのホウ化物セラミックスおよびカーボン等のう
ち1種あるいは2種以上の混合組成からなる非酸化物セ
ラミックスを、0.3μm以上の厚みでコーティングし
た後、合成温度あるいは原料組成、もしくはその両方を
連続的あるいは断続的に変更させて傾斜構造(結晶層の
量と非晶質層の量とが傾斜状に形成される状態をいう)
を製造し、析出層を非晶質から結晶質へ変化させること
で、母材との剥がれやクラックの発生を防止できる。こ
のように傾斜構造であるので、母材と接触する部分は非
晶質で表面は結晶質になる。また表面層が結晶質である
ので耐食性や耐摩耗性が向上した膜を形成する。
ン、窒化八ツニウム、窒化クロム、窒化バナジウムの窒
化物セラミックスや、ホウ化チタニウム、ホウ化ジルコ
ニウム、ホウ化ハフニウム9ホウ化クロム、ホウ化タン
グステンのホウ化物セラミックスおよびカーボン等のう
ち1種あるいは2種以上の混合組成からなる非酸化物セ
ラミックスを、0.3μm以上の厚みでコーティングし
た後、合成温度あるいは原料組成、もしくはその両方を
連続的あるいは断続的に変更させて傾斜構造(結晶層の
量と非晶質層の量とが傾斜状に形成される状態をいう)
を製造し、析出層を非晶質から結晶質へ変化させること
で、母材との剥がれやクラックの発生を防止できる。こ
のように傾斜構造であるので、母材と接触する部分は非
晶質で表面は結晶質になる。また表面層が結晶質である
ので耐食性や耐摩耗性が向上した膜を形成する。
特に途中でコーティング温度を上げると初めに母材にコ
ーティングされた膜が適当な熱処理をうけた結果となり
、母材との密着性がよくなる効果がある。
ーティングされた膜が適当な熱処理をうけた結果となり
、母材との密着性がよくなる効果がある。
熱CVD法あるいはプラズマCVD法も同様の効果があ
る。非晶質コーティング層の厚みが0゜3μm以上が好
ましく、また結晶質コーティング層の厚みは全コーティ
ング層の50%以上が好ましい。
る。非晶質コーティング層の厚みが0゜3μm以上が好
ましく、また結晶質コーティング層の厚みは全コーティ
ング層の50%以上が好ましい。
次に本発明の実施例について説明する。
実施例1
T i C−T i N−WC−N i −G o系の
サーメット母材へ硬度と耐酸化特性の優れたSiCをコ
ーティングした。
サーメット母材へ硬度と耐酸化特性の優れたSiCをコ
ーティングした。
まず始めに、500℃で10分間0.5μmの非晶質T
i C1kCVD法でコーティングした後、2時間かけ
てコーティング温度を500℃から1100℃へ変化さ
せながら同時に原料ガス、TiCl sとC1,からS
iH4とCH,へ徐々に切替えた。
i C1kCVD法でコーティングした後、2時間かけ
てコーティング温度を500℃から1100℃へ変化さ
せながら同時に原料ガス、TiCl sとC1,からS
iH4とCH,へ徐々に切替えた。
表面の層はβ−3iCの結晶層となり、全膜厚・は10
μmとなった0曲げ強度はl 500MPab’ら12
00MPaへ若干低下したが、空気中での耐酸化温度は
800℃から1200℃へ上がった。また表面のビッカ
ース硬度も1200kgf/■がから1800kgf/
as”へ増加した。
μmとなった0曲げ強度はl 500MPab’ら12
00MPaへ若干低下したが、空気中での耐酸化温度は
800℃から1200℃へ上がった。また表面のビッカ
ース硬度も1200kgf/■がから1800kgf/
as”へ増加した。
比較のため、始めから1100℃でSiCをコーティン
グした場合は、SiC膜に多くのクラックが発生し、一
部膜が剥離した0強度も600MPaまで低下し、耐酸
化温度の向上もほとんどなかった。
グした場合は、SiC膜に多くのクラックが発生し、一
部膜が剥離した0強度も600MPaまで低下し、耐酸
化温度の向上もほとんどなかった。
実施例2
反応焼結した5i−3iC焼結体母材の表面にSiCを
コーティングした。
コーティングした。
まず始めに、1150℃で20分間2μmの非晶質5i
sNnをCVD法でコーティングした後3時間かけてコ
ーティング温度を1250℃へ上昇させながら同時に原
料ガスを5iC14とNH,からS i C14とC,
H,へ徐々に切替え、1250℃で2時間コーティング
を続けた。
sNnをCVD法でコーティングした後3時間かけてコ
ーティング温度を1250℃へ上昇させながら同時に原
料ガスを5iC14とNH,からS i C14とC,
H,へ徐々に切替え、1250℃で2時間コーティング
を続けた。
表面層はβ−3iCの結晶層となり、全膜厚は約30μ
mとなった。
mとなった。
本発明でコーティングした材料の曲げ強度は200MP
aでコーティング前と変化はなく、空気中での耐酸化温
度は1000℃から1300℃へ上がった。
aでコーティング前と変化はなく、空気中での耐酸化温
度は1000℃から1300℃へ上がった。
1000℃と室温の間での熱サイクル試験(空気雰囲気
中で1000℃で1時間放置後、25℃の部屋に取り出
し、室温迄冷却後、フッ素酸水溶液で表面の酸化膜を取
り除くという試験)を10回行なった後でも、本発明で
は特性の劣化はなかったが未コーテイング品では強度が
170MPaまで低下した。
中で1000℃で1時間放置後、25℃の部屋に取り出
し、室温迄冷却後、フッ素酸水溶液で表面の酸化膜を取
り除くという試験)を10回行なった後でも、本発明で
は特性の劣化はなかったが未コーテイング品では強度が
170MPaまで低下した。
比較のため、初めから1300℃でSiCをコーティン
グした場合は、5tcl!gにクラックの発生は観察さ
れなかったが、コーテイング膜と母材との熱歪のため、
強度がl 00MPaまで低下した。さらに一部では5
tclliの剥がれも発生した実施例3 ステンレス鋼に表面硬度を向上させるため、VCをコー
ティングした。
グした場合は、5tcl!gにクラックの発生は観察さ
れなかったが、コーテイング膜と母材との熱歪のため、
強度がl 00MPaまで低下した。さらに一部では5
tclliの剥がれも発生した実施例3 ステンレス鋼に表面硬度を向上させるため、VCをコー
ティングした。
まず初めに、400℃で10分間0.5μmの非晶質V
CをプラズマCVD法でコーティングした後、2時間か
けてコーティング温度を800℃へ上昇させた0表面の
層はVCの結晶層となり、全膜厚は10μmとなった。
CをプラズマCVD法でコーティングした後、2時間か
けてコーティング温度を800℃へ上昇させた0表面の
層はVCの結晶層となり、全膜厚は10μmとなった。
この場合にも初めから温度を800℃で行なうとVCに
剥がれやクラックが発生した。
剥がれやクラックが発生した。
また、低温だけのコーティングでは膜とステンレス鋼の
密着性が悪く、容易に膜が剥がれてしまった。
密着性が悪く、容易に膜が剥がれてしまった。
実施例4
W C−Co系の超硬合金の切削チップに耐摩耗性を上
げるため、TiC,T1Ni合膜をコーティングした。
げるため、TiC,T1Ni合膜をコーティングした。
まず初めに500℃で20分間ILLmの非晶質TiN
をプラズマCVD法でコーティングした後2時間かけて
コーティング温度をtooo℃へ上昇させると同時に、
原料ガスをT i Cl a−とNH5から、新たにC
H,を加え徐々にCH,をNH、と等量になるまで増加
させた。
をプラズマCVD法でコーティングした後2時間かけて
コーティング温度をtooo℃へ上昇させると同時に、
原料ガスをT i Cl a−とNH5から、新たにC
H,を加え徐々にCH,をNH、と等量になるまで増加
させた。
表面の層はT1CNの結晶層となり、全膜厚は6μmと
なった。
なった。
全てを結晶質のT1CNをコーティングした場合にくら
べ、チップへのコーティングの不良率および使用中の不
良率(コーテイング膜のクラックや使用中の剥がれ)が
2%から1%へ低下した。
べ、チップへのコーティングの不良率および使用中の不
良率(コーテイング膜のクラックや使用中の剥がれ)が
2%から1%へ低下した。
実施例5
反応焼結した窒化ケイ素の表面に耐酸化性を向上させる
ため、a 5isNnをコーティングした。
ため、a 5isNnをコーティングした。
初めに、1000℃で30分間SiC1mH*とN H
sから2μmの非晶質のSisNmを熱CVD法でコー
ティングした後、2時間かけてコーティング温度を13
00℃へ−り昇させた。
sから2μmの非晶質のSisNmを熱CVD法でコー
ティングした後、2時間かけてコーティング温度を13
00℃へ−り昇させた。
さらに°、この温度で、2時間コーティングを続け、全
コーティング膜厚な30μmとした。
コーティング膜厚な30μmとした。
未コーティングの反応焼結窒化ケイ素は、700℃付近
から空気酸化が始まり1000℃以上の空気中での使用
は困難であった。しかしながら本発明のコーティングを
したことで、1200℃付近まで殆ど空気酸化は起こら
なかった。
から空気酸化が始まり1000℃以上の空気中での使用
は困難であった。しかしながら本発明のコーティングを
したことで、1200℃付近まで殆ど空気酸化は起こら
なかった。
初めから1300℃のコーティングを行なうとすると、
母材が5iC1*Hxにより腐食を受は表面が荒れ、ま
た、コーテイング膜も剥がれてしまった。
母材が5iC1*Hxにより腐食を受は表面が荒れ、ま
た、コーテイング膜も剥がれてしまった。
i ooo℃の低温コーティングのみで、非晶質の5i
sNnのみをコーティングした場合には、900〜t
ooo℃付近から空気酸化が始まり本発明より耐酸化性
が劣る。
sNnのみをコーティングした場合には、900〜t
ooo℃付近から空気酸化が始まり本発明より耐酸化性
が劣る。
[発明の効果]
本発明は結晶層と非晶質層とが傾斜構造である非酸化物
セラミックスをセラミックス材料、サーメット材料、超
硬合金材料および金属材料などの母材にコーティングし
たもので、母材との接触する側は非晶質であって、母材
と化学反応を起こし密着強度は強く、また表面側は結晶
質であるので、特性的に優れた緻密な非酸化物セラミッ
クスのコーティングができ、クラック(亀裂)が入るこ
とがなく、剥離が起こらないものである。
セラミックスをセラミックス材料、サーメット材料、超
硬合金材料および金属材料などの母材にコーティングし
たもので、母材との接触する側は非晶質であって、母材
と化学反応を起こし密着強度は強く、また表面側は結晶
質であるので、特性的に優れた緻密な非酸化物セラミッ
クスのコーティングができ、クラック(亀裂)が入るこ
とがなく、剥離が起こらないものである。
このように、結晶層と非晶質層の傾斜構造であり、セラ
ミックスコーティング層の気孔率が1%以下の緻密なも
のである。
ミックスコーティング層の気孔率が1%以下の緻密なも
のである。
Claims (1)
- セラミックス材料、サーメット材料、超硬合金材料およ
び金属材料の母材表面に、非酸化物セラミックスコーテ
ィングしたもので、非酸化物セラミックスコーティング
膜の最外表面が結晶質の非酸化物セラミックスコーティ
ングであり、母材との接触する部分が非晶質の非酸化物
セラミックスコーティングで、非晶質層と結晶質層が傾
斜構造である非酸化物セラミックスコーティング材料
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1040154A JPH02221364A (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 非酸化物セラミックスコーティング材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1040154A JPH02221364A (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 非酸化物セラミックスコーティング材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02221364A true JPH02221364A (ja) | 1990-09-04 |
Family
ID=12572848
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1040154A Pending JPH02221364A (ja) | 1989-02-22 | 1989-02-22 | 非酸化物セラミックスコーティング材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02221364A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05339702A (ja) * | 1991-09-13 | 1993-12-21 | Takeshi Masumoto | 傾斜機能薄膜 |
WO1998010120A1 (de) * | 1996-09-03 | 1998-03-12 | Balzers Aktiengesellschaft | Verschleissschutz-beschichtetes werkstück |
JP2006150461A (ja) * | 2004-11-25 | 2006-06-15 | Mitsubishi Materials Kobe Tools Corp | 耐熱合金の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具 |
CN115231953A (zh) * | 2022-07-22 | 2022-10-25 | 燕山大学 | 一种硬质合金基体陶瓷复合材料及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5969851U (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-11 | トヨタ自動車株式会社 | 硬質砥石付エンドミル |
JPS62290504A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-17 | 日研ツール株式会社 | コンクリ−ト構造物への穿孔方法 |
-
1989
- 1989-02-22 JP JP1040154A patent/JPH02221364A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5969851U (ja) * | 1982-10-28 | 1984-05-11 | トヨタ自動車株式会社 | 硬質砥石付エンドミル |
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CN115231953A (zh) * | 2022-07-22 | 2022-10-25 | 燕山大学 | 一种硬质合金基体陶瓷复合材料及其制备方法 |
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