JPH02217254A - インクジェットヘッド及びその製造方法 - Google Patents
インクジェットヘッド及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH02217254A JPH02217254A JP3886789A JP3886789A JPH02217254A JP H02217254 A JPH02217254 A JP H02217254A JP 3886789 A JP3886789 A JP 3886789A JP 3886789 A JP3886789 A JP 3886789A JP H02217254 A JPH02217254 A JP H02217254A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- flow path
- forming
- ink flow
- film
- oscillating plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 10
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 9
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract 2
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
1監分互
本発明は、インクジェットヘッド及びその製造方法に関
する。
する。
従米致五
本発明に係る従来技術としては、特開昭59−1593
56号公報、特公昭62−59672号公報、特公昭6
3−44067号公報などがある。
56号公報、特公昭62−59672号公報、特公昭6
3−44067号公報などがある。
これらに記載されているように、従来各種のインクジエ
ツト方式が提案され、試作、或いは、実用化されてきて
いるが、それぞれに長所、短所をもっており、これとい
った決め手になる方式が見つかっていないのが現状であ
るが、その中で現在実用化され、市販されている物の内
、圧電素子を使用した物や、バブルジェット方式による
ドロップオンデマンド方式が比較的有望視されている。
ツト方式が提案され、試作、或いは、実用化されてきて
いるが、それぞれに長所、短所をもっており、これとい
った決め手になる方式が見つかっていないのが現状であ
るが、その中で現在実用化され、市販されている物の内
、圧電素子を使用した物や、バブルジェット方式による
ドロップオンデマンド方式が比較的有望視されている。
圧電素子を用いた方式にも各種あるが、圧電素子の大き
さが成る程度必要なのと、液室や、流路の関係から高密
度化しにくいなどの欠点がある。
さが成る程度必要なのと、液室や、流路の関係から高密
度化しにくいなどの欠点がある。
又、圧電素子をカットしたり、張り付けたり等の機械加
工に近い作業が多く含まれる関係から、品質のばらつき
や信頼性に欠けるなどの問題がある。
工に近い作業が多く含まれる関係から、品質のばらつき
や信頼性に欠けるなどの問題がある。
バブルジェット方式の欠点として、ヒータを発熱させて
その熱でバブルを発生させ、その力でインクを吐出させ
ているが、この時の熱によるストレスや、バブルが壊れ
る時に発生する衝撃でヘッドがダメージを受け、ヘッド
の寿命があまり長くない等の欠点がある。
その熱でバブルを発生させ、その力でインクを吐出させ
ているが、この時の熱によるストレスや、バブルが壊れ
る時に発生する衝撃でヘッドがダメージを受け、ヘッド
の寿命があまり長くない等の欠点がある。
且−一旗
もので、熱の発生によるストレスが無く長寿命になり、
同一基板上にノズルを二次元的に配置することで高密度
化して全体のドツト密度を上げることが出来、又、ヘッ
ドの製造に当たっては半導体の製造設備や技術がそのま
ま利用出来るようなインクジェットヘッド及びその製造
方法を提供することを目的としてなされたものである。
同一基板上にノズルを二次元的に配置することで高密度
化して全体のドツト密度を上げることが出来、又、ヘッ
ドの製造に当たっては半導体の製造設備や技術がそのま
ま利用出来るようなインクジェットヘッド及びその製造
方法を提供することを目的としてなされたものである。
且−一皮
本発明は、上記目的を達成するために、ノズルが形成さ
れた基板上に、振動板を兼ねた圧力作用室とインク流路
を形成すると共に、前記インク流路に連接するインク供
給流路を形成後、振動板上を除く全面に上蓋を形成し、
前記振動板上に振動子を形成して成ること、更には、前
記振動板の上面と略凹−平面となるようインク供給流路
を形成したこと、更には、前記振動板が酸化シリコンか
らなること、更には、前記インク供給流路、及び、上蓋
を感光性樹脂としたこと、或いは、ノズルが形成された
基板上に、振動板を兼ねた圧力作用室とインク流路を形
成するための充填材を設け、該充填材上にメタルマスク
を用いて酸化シリコンをスパッタし、振動板と圧力作用
室とインク流路を形成する工程と、前記振動板と圧力作
用室とインク流路を形成後、前記充填材を除去する工程
と、前記振動板上面と略凹−平面と成るよう感光性樹脂
を塗布し、該感光性樹脂を写真蝕刻法で蝕刻してインク
供給流路を形成する工程と、前記の工程終了後、全面に
感光性樹脂シートを被せて圧着する工程と、前記感光性
樹脂の振動板上面部分を写真蝕刻法で除去し、振動板上
面を露出させる工程と、前記振動板上面に金属をスパッ
タし、又は。
れた基板上に、振動板を兼ねた圧力作用室とインク流路
を形成すると共に、前記インク流路に連接するインク供
給流路を形成後、振動板上を除く全面に上蓋を形成し、
前記振動板上に振動子を形成して成ること、更には、前
記振動板の上面と略凹−平面となるようインク供給流路
を形成したこと、更には、前記振動板が酸化シリコンか
らなること、更には、前記インク供給流路、及び、上蓋
を感光性樹脂としたこと、或いは、ノズルが形成された
基板上に、振動板を兼ねた圧力作用室とインク流路を形
成するための充填材を設け、該充填材上にメタルマスク
を用いて酸化シリコンをスパッタし、振動板と圧力作用
室とインク流路を形成する工程と、前記振動板と圧力作
用室とインク流路を形成後、前記充填材を除去する工程
と、前記振動板上面と略凹−平面と成るよう感光性樹脂
を塗布し、該感光性樹脂を写真蝕刻法で蝕刻してインク
供給流路を形成する工程と、前記の工程終了後、全面に
感光性樹脂シートを被せて圧着する工程と、前記感光性
樹脂の振動板上面部分を写真蝕刻法で除去し、振動板上
面を露出させる工程と、前記振動板上面に金属をスパッ
タし、又は。
蒸着して下部電極を形成する工程と、前記下部電極上に
圧電物質をスパッタして圧電体を形成する工程と、前記
圧電体上に金属をスパッタ、又は、蒸着して上面電極を
形成する工程を有すること。
圧電物質をスパッタして圧電体を形成する工程と、前記
圧電体上に金属をスパッタ、又は、蒸着して上面電極を
形成する工程を有すること。
更には、圧力作用室、及び、インク流路を形成するため
の充填材を除去する工程を、全面に感光性樹脂シートを
被せ圧着する工程の後にしたことを特徴としたものであ
る。以下1本発明の実施例に基づいて説明する。
の充填材を除去する工程を、全面に感光性樹脂シートを
被せ圧着する工程の後にしたことを特徴としたものであ
る。以下1本発明の実施例に基づいて説明する。
第1図は、本発明によるインクジェットヘッドの一実施
例を説明するための平面図、第2図は、第1図における
B−B’断面図で、図中、lは基板、2は保護膜(S
i Oa) 、3はフォトレジスト、4はドライフィル
ム、5は上部電極、6は圧電膜、7は下部電極、8は振
動板、9は液室(インク流路)、10はノズルである。
例を説明するための平面図、第2図は、第1図における
B−B’断面図で、図中、lは基板、2は保護膜(S
i Oa) 、3はフォトレジスト、4はドライフィル
ム、5は上部電極、6は圧電膜、7は下部電極、8は振
動板、9は液室(インク流路)、10はノズルである。
第3図(a)〜(g)は、インクジェットヘッドの製造
工程を説明するための図である。以下、順次説明する。
工程を説明するための図である。以下、順次説明する。
第3図(a):ノズル10を加工した基板1の上に振動
板8を兼ねた圧力作用室と、インク流路9を形成するた
めの充填材11(フォトレジスト)で液室内形状、及び
、インク流路9を形成した後、メタルマスクを使用して
酸化シリコン(SiOz)をスパッタして振動板8を形
成する。こうすることで、振動板8と、圧力作用室が一
体となり、従来の張り合わせ等の工程が無くなると共に
、信頼性の高いヘッドを得ることができる。
板8を兼ねた圧力作用室と、インク流路9を形成するた
めの充填材11(フォトレジスト)で液室内形状、及び
、インク流路9を形成した後、メタルマスクを使用して
酸化シリコン(SiOz)をスパッタして振動板8を形
成する。こうすることで、振動板8と、圧力作用室が一
体となり、従来の張り合わせ等の工程が無くなると共に
、信頼性の高いヘッドを得ることができる。
ノズル10の加工は図示していないが、半導体(シリコ
ン)基板1に酸化シリコン膜2を形成後、ノズル部分の
酸化シリコン膜を除去し、酸化シリコン膜をマスクとし
てエツチングで穴あけをする。
ン)基板1に酸化シリコン膜2を形成後、ノズル部分の
酸化シリコン膜を除去し、酸化シリコン膜をマスクとし
てエツチングで穴あけをする。
この酸化シリコン膜によりヘッドの安定性が増す。
第3図(b)二次に、充填材11(フォトレジスト)の
溶解、除去を行い、振動板8を兼ねた圧力作用室とイン
ク流路9を形成する。この除去は。
溶解、除去を行い、振動板8を兼ねた圧力作用室とイン
ク流路9を形成する。この除去は。
インク供給流路9や共通液室の蓋になるためのドライフ
ィルムを上から圧着後、除去する方がより信頼性を増す
ことができる。即ち、ドライフィルムを上から圧着する
工程で振動板8への応力を和らげることが出来るからで
ある。
ィルムを上から圧着後、除去する方がより信頼性を増す
ことができる。即ち、ドライフィルムを上から圧着する
工程で振動板8への応力を和らげることが出来るからで
ある。
第3図(C);次に、インク液室、インク流路や、共通
液室を形成するため、振動板上面と路間−面になるよう
、全面にフォトレジスト3を塗布する。
液室を形成するため、振動板上面と路間−面になるよう
、全面にフォトレジスト3を塗布する。
第3図(d)二次に、露光、硬化後、未硬化部分を溶解
、除去してインク供給流路や、共通液室を形成をする。
、除去してインク供給流路や、共通液室を形成をする。
この第3図(d)は第1図の八−A′断面図を示してい
る。
る。
第3図(e)二次に、インク供給流路や共通液室の蓋に
なるドライフィルム4を上から圧着、露光し、圧電rI
46を形成する部分以外を硬化させた後、圧電膜形成部
分のドライフィルムの溶解、除去を行う。
なるドライフィルム4を上から圧着、露光し、圧電rI
46を形成する部分以外を硬化させた後、圧電膜形成部
分のドライフィルムの溶解、除去を行う。
第3図(f):次に、AQや、Cr−Au等の配線材料
をスパッタや蒸着して下部電極7を形成し、配線を振動
板8上と、ドライフィルム4上に形成した後、圧電物質
(酸化亜鉛(ZnO) 、PZT、配向性五酸化タンタ
ル(’razos)、等)のスパッタを行い圧電膜6を
形成する。
をスパッタや蒸着して下部電極7を形成し、配線を振動
板8上と、ドライフィルム4上に形成した後、圧電物質
(酸化亜鉛(ZnO) 、PZT、配向性五酸化タンタ
ル(’razos)、等)のスパッタを行い圧電膜6を
形成する。
第3図(g)二次に、AQや、Cr −A u等の配線
材料をスパッタや蒸着して上部電極5や、配線を形成す
る。
材料をスパッタや蒸着して上部電極5や、配線を形成す
る。
夏−一果
以上の説明から明らかなように、本発明によると、熱の
発生によるストレスが無く長寿命であり、また同一基板
上にノズルを二次元的に配置できるので高密度化が図れ
、機械加工によらない安定したヘッドを得ることができ
る。
発生によるストレスが無く長寿命であり、また同一基板
上にノズルを二次元的に配置できるので高密度化が図れ
、機械加工によらない安定したヘッドを得ることができ
る。
第1図は1本発明によるインクジェットヘッドの一実施
例を説明するための平面図、第2図は、第1図における
B−B’断面図、第3図(a)〜(g)はインクジェッ
トヘッドの製造工程を説明するための図である。 1・・・基板、2・・・保護膜(Sin、)、3・・・
フォトレジスト、4・・・ドライフィルム、5・・・上
部電極、6・・・圧電膜、7・・・下部電極、8・・・
振動板、9・・・液室(インク流路)、10・・・ノズ
ル。 第1図
例を説明するための平面図、第2図は、第1図における
B−B’断面図、第3図(a)〜(g)はインクジェッ
トヘッドの製造工程を説明するための図である。 1・・・基板、2・・・保護膜(Sin、)、3・・・
フォトレジスト、4・・・ドライフィルム、5・・・上
部電極、6・・・圧電膜、7・・・下部電極、8・・・
振動板、9・・・液室(インク流路)、10・・・ノズ
ル。 第1図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ノズルが形成された基板上に、振動板を兼ねた圧力
作用室とインク流路を形成すると共に、前記インク流路
に連接するインク供給流路を形成後、振動板上を除く全
面に上蓋を形成し、前記振動板上に振動子を形成して成
ることを特徴とするインクジェットヘッド。 2、ノズルが形成された基板上に、振動板を兼ねた圧力
作用室とインク流路を形成するための充填材を設け、該
充填材上にメタルマスクを用いて酸化シリコンをスパッ
タし、振動板と圧力作用室とインク流路を形成する工程
と、 前記振動板と圧力作用室とインク流路を形成後、前記充
填材を除去する工程と、 前記振動板上面と略同一平面と成るよう感光性樹脂を塗
布し、該感光性樹脂を写真蝕刻法で蝕刻してインク供給
流路を形成する工程と、 前記の工程終了後、全面に感光性樹脂シートを被せて圧
着する工程と、 前記感光性樹脂の振動板上面部分を写真蝕刻法で除去し
、振動板上面を露出させる工程と、前記振動板上面に金
属をスパッタし、又は、蒸着して下部電極を形成する工
程と、 前記下部電極上に圧電物質をスパッタして圧電体を形成
する工程と、 前記圧電体上に金属をスパッタ、又は、蒸着して上面電
極を形成する工程を有することを特徴とするインクジェ
ットヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3886789A JPH02217254A (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3886789A JPH02217254A (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02217254A true JPH02217254A (ja) | 1990-08-30 |
Family
ID=12537162
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3886789A Pending JPH02217254A (ja) | 1989-02-17 | 1989-02-17 | インクジェットヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02217254A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0709200A1 (en) * | 1994-10-26 | 1996-05-01 | Mita Industrial Co. Ltd. | A printing head for an ink jet printer and a method for producing the same |
-
1989
- 1989-02-17 JP JP3886789A patent/JPH02217254A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0709200A1 (en) * | 1994-10-26 | 1996-05-01 | Mita Industrial Co. Ltd. | A printing head for an ink jet printer and a method for producing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5686224A (en) | Ink jet print head having channel structures integrally formed therein | |
JPH01166965A (ja) | インク・ジェット印字ヘッド製造方法 | |
JP4594755B2 (ja) | インクジェットプリントヘッドを作製する方法 | |
JPH078569B2 (ja) | 感熱インクジエツト用印字ヘツドの製造方法 | |
US5582678A (en) | Process for producing ink jet recording head | |
JP3335972B2 (ja) | 流体噴射装置及びその製造方法 | |
US20120001986A1 (en) | Nozzle plate and method for manufacturing the nozzle plate, and inkjet printer head with the nozzle plate | |
EP0799700B1 (en) | Ink jet recording head, its fabricating method and ink jet recording apparatus | |
US4570167A (en) | Ink jet recording head | |
JPH02217254A (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
EP0860281B1 (en) | A method for manufacturing a liquid jet recording head and a liquid jet recording head manufactured by such method | |
AU2360799A (en) | Method of producing an ink jet head | |
JP3311718B2 (ja) | 流体噴射装置の製造方法 | |
KR19980065807A (ko) | 프린트 헤드의 잉크 분사 장치 구조 | |
KR20060025876A (ko) | 잉크젯 프린터 헤드 및 그 제조방법 | |
JPH0242670B2 (ja) | ||
JPH02219654A (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
US6582053B1 (en) | Method for manufacturing a liquid jet recording head and a liquid jet recording head manufactured by such method | |
JP3820665B2 (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
JP2001191540A (ja) | ノズル形成部材及びその製造方法、インクジェットヘッド並びにインクジェット記録装置 | |
JPS6087056A (ja) | インクジエツトヘツド | |
JPH07137266A (ja) | インクジェットヘッドの製造方法 | |
JP2940225B2 (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法 | |
JPH03187755A (ja) | 液滴噴出装置 | |
JPH03190744A (ja) | 液滴噴出装置 |