JPH02212513A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

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JPH02212513A
JPH02212513A JP3097789A JP3097789A JPH02212513A JP H02212513 A JPH02212513 A JP H02212513A JP 3097789 A JP3097789 A JP 3097789A JP 3097789 A JP3097789 A JP 3097789A JP H02212513 A JPH02212513 A JP H02212513A
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JP
Japan
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epoxy resin
polymer
group
vinyl
silicone
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Pending
Application number
JP3097789A
Other languages
English (en)
Inventor
Mikio Kitahara
北原 幹夫
Koichi Machida
町田 貢一
Takayuki Kubo
久保 隆幸
Motoyuki Torikai
基之 鳥飼
Kotaro Asahina
浩太郎 朝比奈
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Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
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Publication date
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高耐熱性、低及水性及び耐熱衝撃性に優れた
樹脂組成物で高僧や■性を要求される半導体等電子部品
の封止用に適した半導体封止用樹脂組成物に関するもの
である。
(従来の技術) 従来、IC,LSI等の半導体封止用樹脂組成物として
は、エポキシ樹脂が原料の低順、大量生産に適するとい
った経済的利点をいかして広く実用化されている。
(発明が解決しようとするIff) 一方、最近の電子部品の高密度実装化の流れにより、半
導体のパッケージは表面実装型のパッケージに変わりつ
つある0表面実装においては、従来の挿入型と違ってパ
ッケージ全体が200°C以上の半田付温度に曝される
ため、封止樹脂として高耐熱性が要求されるようになっ
てきた。従来このような高耐熱性を得るためには、ビス
マレイミドが多く使用されてきたがビスマレイミド単独
の硬化物は跪く、吸水率が高いという欠点を有している
。この様なビスマレイミドを使用して製造された樹脂組
成物の耐熱性は、特に半田耐熱性を考えた場合、この水
分が実装時の高温により急激に膨張してパッケージにク
ラックを発生させるため不利と考えられてきた。 また
半導体技術のめざましい革新により素子の高集積化、高
機能化が進み素子のサイズはより大きく、アルミ配線巾
はより細くなる傾向にある。従って封止樹脂と素子の熱
膨張の差に起因する応力のレベルは更に低い物が要求さ
れており、この点でもビスマレイミド系の封止樹脂は高
耐熱性と合わせて低応力化の必要も生じてきた。
ビスマレイミドに可トウ性を付与するため、エポキシ樹
脂を併用する事が多くの研究者らによりなされて来た。
しかしながらイミドとエポキシは本来相溶性に乏しく、
必ずしも十分に満足のできる結果が得られていない。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者等は種々検討した結果、特定の構造を有するビ
スマレイミド化合物が高耐熱、低吸水率を示し、更にエ
ポキシ樹脂と予め反応させておくことによりイミドとエ
ポキシの相溶性を改良できる事を見出すとともに、エポ
キシ樹脂中にシリコーンポリマーの微粒子を分散させる
事により優れた耐熱衝撃性をも付与できることを見出し
本発明に達した。
即ち本発明は、 (1)(a)−殺伐(1) よりなる2価の基を表し、Xは直結、炭素数1〜10の
2価の炭化水素基、6フツ素化されたイソプロピリデン
基、カルボニル基、チオ基、スルフィニル基、スルホニ
ル基又はオキシドから成る群より選ばれた基を表す、) にて表されるビスマレイミド化合物とエポキシ樹脂の反
応物 (b)エポキシ樹脂とビニルポリマーとのグラフト重合
体中にシリコーンポリマーが1.0μ以下の粒子径で均
一に分散された変性エポキシ樹脂、(2)エポキシ樹脂
ととニルポリマーとのグラフト重合体中に分散されたシ
リコーンポリマーが反応してなるシリコーンゴムおよび
/またはビニル変性シリコーン重合体を主体とする軟質
ビニル重合体である半導体封止用樹脂組成物。
(3) (a)−殺伐(1) よりなる2価の基を表し、Xは直結、炭素数1〜10の
2価の炭化水素基、6フツ素化されたイソプロピリデン
基、カルボニル基、チオ基、スルフィニル基、スルホニ
ル基又はオキシドから成る群より選ばれた基を表す、) にて表されるビスマレイミド化合物とエポキシ樹脂の反
応物 (b)エポキシ樹脂とビニルポリマーとのグラフト重合
体中にシリコーンポリマーが1.0μ以下の粒子径で均
一に分散された変性エポキシ樹脂、(C)無機充填剤、 (d)硬化剤 を主成分とすることを特徴とする半導体封止用樹脂組成
物。
(4)エポキシ樹脂とビニルポリマーとのグラフト重合
体中に分散されたシリコーンポリマーが付加反応型のシ
リコーンポリマーが反応してなるシリコーンゴムおよび
/またはビニル変性シリコーン重合体を主体とする軟質
ビニル重合体である半導体封止用樹脂組成物。
(5)硬化剤が1分子中に少なくとも2個のフェノール
性水酸基を有する化合物である半導体封止用樹脂組成物
本願発明において用いられる(a)の−殺伐(1)で表
わされるビスマレイミド化合物は通常公知の方法により
一般式(II)で表わされるジアミン化合物と無水マレ
イン酸を縮合・脱水反応させて容易に製造できる。
(式中、Rは前記と同様の意味を表す)(II)のジア
ミン化合物は、具体的には1.3−ビス(3−アミノフ
ェノキシ)ベンゼン、ビス(3−アミノフェノキシ)メ
タン、1.1−ビス〔4(3−アミノフェノキシ)フェ
ニル〕エタン、1.2−ビス(4−(3−アミノフェノ
キシ)フェニル)エタン、2.2−ビス(4−(3−ア
ミノフェノキシ)フェニル〕プロパン、2.2−ビス(
4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ブタン、2.
2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)−
1,1,1,3,3,3−へキサフルオロプロパン、4
,4°−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビ
ス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニルコケトン、
ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフ
ィド、ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)
スルホキシド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フ
ェニル〕スルホン、ビス(4−(3−アミノフェノキシ
)フェニル〕エーテル等があげられる。
一般式(11)のジアミン化合物と無水マレイン酸を縮
合・脱水反応して得られるビスマレイミド化合物は、具
体的には)J、N’−1,3−ビス(3−アミノフェノ
キシ)ベンゼンビスマレイミド、N、N’−ビス[4−
(3−アミノフェノキシ)フェニルコメタンビスマレイ
ミド、N、N’−1,1−ビス〔4−(3−アミノフェ
ノキシ)フェニル〕エタンビスマレイミド、N、H’−
1,2−(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル)エ
タンビスマレイミド、N、N’−1,2−(4−(3−
アミノフェノキシ)フェニル〕エタンビスマレイミド、
N、N’−2,2−ビス(4−(3−アミノフェノキシ
)フェニル〕プロパンビスマレイミド、N、N’−2,
2−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フヱニル〕ブ
タンビスマレイミド、N、N’−2,2−ビス(4−(
3−アミノフェノキシ)フェニル)−1,1,1,3,
3,3−ヘキサフルオロプロパンビスマレイミド、N、
N”−4,4゛−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェ
ニルビスマレイミド、N、N”−ビス(4−(3−アミ
ノフェノキシ)フェニルコケトンビスマレイミド、N。
N゛−ビス(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕
スルフィドビスマレイミド、N、N’−ビス〔4−(3
−アミノフェノキシ)フェニル]スルホキシドビスマレ
イミド、 N、N’−ビス[4−(3アミノフエノキシ
)フェニル]スルホンビスマレイミド、N、N’−ビス
(4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル等
があげられる。
また上記ビスマレイミドは単独で使用しても2種以上併
用してもよい、更に必要に応じて(1)以外のマレイミ
ド化合物を併用してもよい。
上記ビスマレイミドと反応物を形成するために使用され
るエポキシ樹脂は多価エポキシ樹脂であれば一般的に使
用されるエポキシ樹脂が使用可能であり、耐熱性、電気
特性からフェノールノボラック、クレゾールノボラック
などのグリシジル化物等のノボラックエポキシ樹脂が好
ましいが、その他の1分子に2ヶ以上の活性水素を有す
る化合物、例えばビスフェノールA1ビスヒドロキシジ
フエニルメタン、レゾルシン、ビスヒドロキシジフェニ
ルエーテル、テトラブロムビスフェノールA等の多価フ
ェノール類、エチレングリコール、ネオペンチルグリコ
ール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエ
リスリトール、ジエチレングリコール、ポリプロピレン
グリコール、ビスフェノールA−エチレンオキサイド付
加物、トリスヒドロキシエチルイソシアヌレート等の多
価アルコール、エチレンジアミン、アニリン等のポリア
ミノ化合物、アジピン酸、フタル酸、イソフタル酸等の
多価カルボキシ化合物等とエビクロルヒトリンスは2−
メチルエピクロルヒドリンを反応させて得られるグリシ
ジル型のエポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンジエボキ
サイド、ブタジェンダイマージエポキサイド等の如き脂
肪族(脂環族を含む〕のエポキシ樹脂などから選ばれた
1種以上のエポキシ樹脂を使用することができる。
−a式(1)で示されるビスマレイミドと上記エポキシ
樹脂の反応は、イミド環の二重結合へのエポキシ環の開
環付加反応と推定されるが、生成する反応物としては、
反応物中に未反応のイミド環およびエポキシ環が残存し
ているいわゆるプレポリマーが好ましい、このような反
応物を得るには、ビスマレイミドとエポキシ樹脂を固体
状で粉砕混合したものを加熱処理してプレポリマーとす
る方法もあるが、好ましくはビスマレイミドとエポキシ
樹脂を有機溶媒中に溶解させ、加熱処理によりプレポリ
マーの段階まで部分硬化させた後、貧溶媒中に排出し、
析出してきた結晶を濾過乾燥してベレット状又は粉状と
する。この場合の加熱処理条件は一般には70〜220
 ’Cの温度で5〜240分、望ましくは80〜200
°Cの温度で10〜180分とすることが適当である。
使用可能な有機溶媒としては両成分と実質的に反応しな
い溶媒という点で制限を受けるが、このほかに再反応成
分に対する良溶媒であることが望ましい。通常、用いら
れる反応溶媒は塩化メチレン、ジクロロエタン、トリク
ロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、ジイソプロピル
ケトンなどのケトン類、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、メチルセロソルブなどのエーテル類、ベンゼン、ト
ルエン、クロロベンゼンなどの芳香族化合物、アセトニ
トリル、N、N−ジメチルホルムアミド、N、II−ジ
メチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、1.3−ジメチル−2−イミダシ
リンなどの非プロトン性極性溶媒等である。
ビスマレイミドとエポキシ樹脂を反応させてプレポリマ
ーを製造するにあたっては触媒を使用することが好まし
い、触媒としてはトリブチルホスフィン、トリオクチル
ホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフェ
ニルホスフィン、トリベンジルホスフィン、トリトリル
ホスフィン、p−スチリルジフェニルホスフィン等のホ
スフィン頚、1.2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エ
タン、1.4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン等
のジフェニルホスフィノアルカン類、トリフェニルホス
フィン・トリフェニルボラン、テトラフェニルホスホニ
ウム・テトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウ
ム・テトラフェニルポレート等のホウ素化合物、 1.
8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7及
びその誘導体、トリス(3,6−シオキサヘブチル)ア
ミンに代表されるトリス(ポリオキサアルキル)アミン
類等が挙げられる。その他三級アミン類、イミダゾール
類も使用可能である。
触媒の使用量は、ビスマレイミドとエポキシ樹脂の総量
100重量部に対して0.1〜10重量部である。
ビスマレイミドとエポキシ樹脂の使用割合は、ビスマレ
イミド100重量部に対してエポキシ樹脂5重量部から
250重量部の範囲が好ましい、5重量部未満では、良
好な相溶性が得られず、250重量部を超えると十分な
耐熱性が得られない。
プレポリマーの使用量は樹脂組成物中にビスマレイミド
が30〜80重景%含重量るように配合することが好ま
しい。
本発明(b)に使用されるエポキシ樹脂は(a)におい
て使用したエポキシ樹脂が全て使用することができる。
本発明の■)に於ける変性エポキシ樹脂は、本出願人に
よりさきに開示された方法等により製造することがでる
。  (特開昭62−270617 、特開昭62−2
73222等) 即ち、エポキシ樹脂とビニルポリマーとのグラフト重合
体は、エポキシ樹脂の存在下に前記ビニルポリマーを生
成させるべくビニル七ツマ−を重合する事により製造す
る方法が代表的である。
ここで、ビニルポリマーをつくるために用いるとニルモ
ノマーとしては、スチレン、ビニルトルエン等の如きア
ルケニル芳香族類、メチルメタアクリレート、ドデシル
メタアクリレート、ブトキシエチルメタアクリレート、
グリシジルメタアクリレート、メチルアクリレート、ブ
チルアクリレート、2−エチルへキシルアクリレート、
ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート等の如きアクリルエステル類、アク
リルニトリル、アクリル酸、ブトキシメチルアクリルア
ミド、メタアクリルアミド等の如きエステル基を持たな
いアクリル化合物、ビニルアセテート、ビニルラウレー
ト、ビニルパーサテート、ビニルクロライド、ビニリデ
ンクロライド、エチレン、アリルアセテート等の如き非
共役性ビニル化合物、ブタジェン、イソプレン、クロロ
ブレンの如き共役ジエン化合物が代表的で、その他、ビ
ニルシリコーン、ジブチルフマレート、モノメチルマレ
ート、ジエチルイタコネート、メタクリル酸トリフロロ
エチル、メタクリル酸テトラフロロプロピル等のメタク
リル酸、アクリル酸の弗素化合物等の如き重合性ビニル
化合物を用いることもできる。前記したとニルモノマー
を重合してビニルポリマーとするには、通常ラジカル開
始剤、例えばラウロイルパーオキサイド、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ターシャリブチルパーベンゾエート、ジ
メチルジベンゾイルパーオキシヘキサン、ターシャリブ
チルパーオキシビバレート、ジターシャリブチルパーオ
キサイド、1.1−ビスターシャリブチルパーオキシ3
,3.5− トリメチルシクロヘキサン、ジメチルジタ
ーシャリブチルバーオキシヘキサン、ターシャリブチル
クミルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサ
イド、シクロヘキサノンパーオキサイド、キュメンハイ
ドロパーオキサイド、ターシャリブチルパーオキシアリ
ルカーボネート、ジオクチルパーオキシジカーボネート
、ターシャリブチルパーオキシマレイン酸、琥珀酸パー
オキサイド、ターシャリブチルバーオキシイソブロビル
カーボ不−ト、過酸化水素の如きパーオキサイド、アブ
ビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニト
リルの如きアゾ化合物を用いてラジカル重合するのが代
表的である。 又、必要に応じて還元剤を併用していわ
ゆるレドックス重合をさせてもよく、ハイドロキノンの
如き重合禁止剤、ドデシルメルカプタンの如き連鎖移動
剤を使用してもよい。
又、グラフト化促進の為に、エポキシ樹脂に重合性二重
結合等のグラフト可能な化学結合を導入しておく方法が
有効である0重合性二重結合の導入方法には、例えばア
クリル酸、アクリルアミド、メチロールアクリルアミド
、ブトキシメチルアクリルアミド、ヒドロキシエチルメ
タアクリレート、グリシジルメタアクリレート、無水マ
レイン酸、モノエチルイタコネート、モノブチルフマレ
ート、クロルメチルスチレン、ホスホキシエチルメタア
クリレート、クロルヒドロキシプロピルメタアクリレー
ト、バラヒドロキシスチレン、ジメチルアミノエチルメ
タアクリレートの如き官能基と重合性二重結合とを有す
る化合物を、エポキシ樹脂とあらかじめ反応させておく
方法が代表的である。
なお、本発明に於いて前記グラフト重合体中には前記エ
ポキシ樹脂や前記とニルポリマーがグラフトしないでフ
リーのまま残っていてもかまわない。
■)の変性エポキシ樹脂は前記したエポキシ樹脂とビニ
ルポリマーとのグラフト重合体の存在下に付加反応型の
シリコーンポリマーを常法により付加反応させるか、軟
質ビニル重合体を成形するモノマーを常法により重合す
ることにより得られる。
即ち、付加反応型シリコーンゴムは分子内にビニル基を
有するビニル変性シリコーンポリマーと分子内に活性水
素を有するハイドロジエン変性シリコーンポリマーがシ
リル化反応による付加反応により生成するゴムであり、
ビニル変性シリコーンポリマーとは分子の末端あるいは
内部に5t−CB=CHt結合を少な(とも1個以上も
ったポリシロキサンをいい、ハイドロジエン変性シリコ
ーンポリマーとは分子の末端あるいは内部に5t−)1
結合を少なくとも2個以上もったポリシロキサンをいう
両者は通常は組み合わせで市販されており、これらの例
としては例えば東レシリコーン株式会社の5ol−18
21、信越化学株式会社のKE−1204等があげられ
る。
また軟質ビニル重合体は軟質ビニル重合体を形成するモ
ノマーを常法により重合することにより得られる。
本発明に使用される軟質ビニル重合体はビニル変性シリ
コーンを主体とする重合体でなければならない、ビニル
変性シリコーンを主体とする重合体とはビニル変性シリ
コーンの単独重合体もしくは共重合体またはビニル変性
シリコーンと他のビニルモノマーとの共重合体をいう、
ビニル変性シリコーンとしては、例えばメタアクリロキ
シプロビルシロキサン、メタアクリロキシプロピルアル
コキシシラン、ビニルアルコキシシラン等があげられる
。また他のビニルモノマーとしては前記のグラフト重合
体をつくる際に用いるモノマーは総て用いることができ
る。他のとニルモノマーの使用割合は、得られる共重合
体が軟質、即ち液状ないしゴム状でありかつその平均粒
子径が1.0μ以下である範囲であり、モノマーの種類
にもよるが通常金子ツマ−の8帽1%以下である。
本発明の目的である低応力化を果たし、耐熱衝撃性を改
良するためには付加反応型シリコーン、及び軟質ビニル
重合体の平均粒子径は 1.0μ以下、好ましくは0.
01μ以上0.5μ以下である。
付加反応型シリコーン、及び軟質ビニル重合体の平均粒
子径が1.0μを超えると低応力化を果たせず、耐熱衝
撃性も改良されない、付加反応型シリコーン、及び軟質
ビニル重合体の粒径のコントロールは、エポキシ樹脂と
グラフト重合体を形成するビニルポリマーの種類、量、
付加反応型シリコーン、及び軟質ビニル重合体を形成す
るポリマーもしくはモノマー組成の選択によって可能で
あるが、エポキシ樹脂に導入する二重結合の量によって
もコントロールする事ができる。
エポキシ樹脂とビニルポリマーのグラフト重合体を含ま
ないエポキシ樹脂中にシリコーンポリマーを均一な粒子
として分散させることは、例えばシランカップリング剤
、変性シリコーンオイル等を使用したとしても困難であ
る。
付加反応型シリコーンゴム及び軟質ビニル重合体を形成
するポリマーもしくは七ツマ−の使用量は、エポキシ樹
脂100重量部に対して1〜100重量部である。
変性エポキシ樹脂の使用量は付加反応型シリコーンゴム
及び/又は軟質ビニル重合体の所望量と、変性エポキシ
樹脂中に含まれる付加反応型シリコーンゴム及び/又は
軟質ビニル重合体の量により決めることができる。
また、付加反応によって得るシリコーンゴム及び/又は
軟質ビニル重合体の量はプレポリマー及び変性エポキシ
樹脂を含むエポキシ樹脂、またはプレポリマー、変性エ
ポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂および硬化剤の総量に対
して0.5重量%以上必要であり、特に1〜30重量%
が好ましい、0.5重量%未満では低応力化が達成され
ない。
上記付加反応型シリコーンゴム及び/または軟質ビニル
重合体を所望の量に調整するためには未変性多官能エポ
キシを使用するのが好ましい、未変性多官能エポキシと
しては、前記の(I))において使用するエポキシ樹脂
が総て使用でき、両者は同じでもよく、異なっていても
差し支えない。
本発明に用いられる(C)の無機充填剤としては例えば
結晶性シリカ、溶融シリカ、アルミナ、タルク、ケイ酸
カルシウム、 炭酸カルシウム、マイカ、クレー、チタ
ンホワイト等の粉体、あるいはガラス繊維、炭素繊維等
の単独または混合物が挙げられるが、熱膨張率、熱伝導
率等の点から通常は結晶性、溶融性等の粉砕状および/
または球状シリカ粉末が用いられる。その配合量は、プ
レポリマーおよび変性エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂
、またはプレポリマー、変性エポキシ樹脂を含むエポキ
シ樹脂、および硬化剤の総量100重量部に対して15
0〜900重油部が好ましく、150重量部未満では熱
膨張率が大きく、良好な耐熱衝撃性は得られない、また
900重量部を超えると樹脂の流動性が低下し成形性が
悪く実用に供し難い。
本発明に用いられる[有])の硬化剤としては、エポキ
シ樹脂の硬化剤として一般的に使用される物は総て使用
可能であるが、好ましくは1分子中に少なくとも2個の
フェノール性水酸基を有する化合物である。
このような化合物としては、フェノール、アルキルフェ
ノール等のフェノール類とホルムアルデヒドあるいはバ
ラホルムアルデヒドを反応して得られるノボラック型フ
ェノール樹脂が一般的であるが、その他に変性ノボラッ
ク型のフェノール樹脂、フェノールアラルキル樹脂、レ
ゾルシンアラルキル樹脂、トリフエノールメタン、テト
ラフェノールエタンのごとき多価フェノールを単独また
は混合して使用することができる。
硬化剤の配合量については特に制限はないが、使用する
エポキシ樹脂に対して当量比で0.1〜10の範囲であ
り、好ましくは0.5〜2.0である。
本発明の半導体封止用樹脂組成物は前記 (a)、[有
])、(C)あるいは(a)、(ロ)、(C)、(d)
を必須成分として含有するが、実用に際してはジアリル
フタレート、トリアリルイソシアヌレート、0,0゛−
ジアリルビスフェノールA等のマレイミド樹脂に対して
一般的に使用される反応性希釈剤、イミダゾール類、三
級アミン類、第4アンモニウム塩類、fl金属化合物類
、有機ホスフィン類、有機過酸化物、アゾ化合物等の硬
化促進剤、脂肪酸アミド、脂肪酸塩、ワックス等の離型
剤、ブロム化合物、アンチモン、リン等の難燃剤、カー
ボンブラック等の着色剤、シランカップリング剤等を適
宜配合することも可能である。 本発明の半導体封止用
樹脂組成物は、ミキサー等によって十分プレミックスし
た後、熱ロール、あるいはニーグーの如き溶融混合機で
混練し、次いで冷却粉砕を行うことにより、成形材料と
して容易に得ることが出来る。
〔実施例〕
本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明は
実施例に限定されるものではない。以下において部は特
記せぬ限り重量部を意味する。
〔ビスマレイミドとエポキシ樹脂の反応物の製造〕製造
例−1 N、N’−4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビ
フェニルビスマレイミド(三井東圧化学製)  100
重量部、オルソクレゾールノボラックエポキシ(日本化
薬製[!0CN1027)30重量部、N−メチル−2
−ピロリドン200重量部、トリエチルアンモニウムテ
トラフェニルボレート1重量部を還流器つきフラスコに
とり、120°Cに保ち1時間反応させた0反応液を1
000重量部のイオン交換水に滴下し、生成する懸濁物
を濾過し、50℃で24時間真空乾燥し、プレポリマー
(a−1)を得た。得られた反応物のエポキシ当量をセ
チルトリメチルアンモニウムブロマイド−過塩素酸法に
より測定したところ全体の30%にあたるエポキシ基が
反応していた。製造例−2 製造例−1においてビスマレイミドをN、N’−ビス(
4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィドビ
スマレイミド(三井東圧化学製)に変えた以外は同様に
してプレポリマー(a−2)を得た。エポキシ基の反応
率は28%であった。
製造例−3 製造例−1においてビスマレイミドをN、N’ −4゜
4°−ジフェニルメタンビスマレイミド(三井東圧化学
製)に変えた以外は同様にしてプレポリマー(a−3)
を得た。エポキシ基の反応率は44%であった。
〔変性エポキシ樹脂の製造〕
製造例−4 オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当
量200) 100部、トル1210部、メタクリル酸
1.2部を3級アミンの存在下で120−125°Cで
2時間反応させた後、メタアクリロキシプロピルシリコ
ーンオリゴマー(信越化学株式会社製)10部、アゾビ
スイソバレロニトリル0.4部、)ルエン50部を80
°Cで4時間反応させた。更に付加反応型シリコーンポ
リマーとして、ビニル変性ポリシロキサン27.5部と
ハイドロジエン変性ポリシロキサン27.5部、(いず
れも信越化学株式会社製WE−1204)を加えて激し
く攪拌し2時間反応させた。
その後更に130℃において減圧にて脱溶剤し、粒径 
0.2〜0.5μのシリコーンゴムが分散した変性エポ
キシ樹脂(b−1)(エポキシ当量337)を得た。
製造例−5 オルソクレゾールノボラックエポキシ樹脂(エポキシ当
ff1200) 100部、トルエン10部、メタクリ
ル酸1.2部を3級アミンの存在下で120〜125°
Cで2時間反応させた後、ブチルアクリレート4部、グ
リシジルメタクリレート0.2部、t−ブチルパーオキ
シ2−エチルヘキサノニー)0.05部を100°Cで
1時間反応させた。さらにメタクリロキシプロピルシロ
キサン50部、ネオペンチルグリコールジアクリレート
1部、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ) 3.3
.5−1−リシクロヘキサン0.15部を連続滴下しな
がら4時間、その後更に4時間反応させた後、減圧にて
脱溶剤し、粒径0.2〜0.5μの軟質ビニル重合体が
分散した変性エポキシ樹脂(b−2)(エポキシ当(3
313)を得た。
実施例1〜5および比較例1〜3 第1表に示す配合物を90〜120’C熱ロールにて3
分間溶融混合した後、冷却粉砕し打錠した成形用樹脂組
成物を得た。
この組成物を用い、トランスファー成形(185℃、8
0kg/d、5分間)により、試験用(7) 100ビ
ンフラツトパツケージ(20℃mx301×2.5 r
pmSlomXlomの試験用素子搭載)、および物性
測定用の試験片を成形し、200’Cで6時間の後硬化
を行った後、各試験を行った。試験結果を第2表に示す
〔発明の効果〕
実施例及び比較例にて説明して来た如く、本発明による
半導体対土用樹脂組成物は高耐熱性で低吸水率、しかも
応力が小さく、優れた耐熱衝撃性と半田耐熱性を示すこ
とから、この樹脂組成物を集積度の高い半導体あるいは
フラットパッケージの如き小型・薄型の半導体の封止に
用いた場合、優れた信頼性を得ることが出来、工業的に
きわめて有益な発明でありまず。
特許出願人  三井東圧化学株式会社

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)(a)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは▲数式、化学式、表等があります▼または
    ▲数式、化学式、表等があります▼ よりなる2価の基を表し、Xは直結、炭素数1〜10の
    2価の炭化水素基、6フッ素化されたイソプロピリデン
    基、カルボニル基、チオ基、スルフィニル基、スルホニ
    ル基又はオキシドから成る群より選ばれた基を表す。) にて表されるビスマレイミド化合物とエポキシ樹脂の反
    応物 (b)エポキシ樹脂とビニルポリマーとのグラフト重合
    体中にシリコーンポリマーが1.0μ以下の粒子径で均
    一に分散された変性エポキシ樹脂、 (c)無機充填剤、 を含有することを特徴とする半導体封止用樹脂組成物。
  2. (2)エポキシ樹脂とビニルポリマーとのグラフト重合
    体中に分散されたシリコーンポリマーが、付加反応型の
    シリコーンポリマーが反応してなるシリコーンゴムおよ
    び/またはビニル変性シリコーン重合体を主体とする軟
    質ビニル重合体である請求項(1)記載の半導体封止用
    樹脂組成物。
  3. (3)(a)一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、Rは▲数式、化学式、表等があります▼または
    ▲数式、化学式、表等があります▼ よりなる2価の基を表し、Xは直結、炭素数1〜10の
    2価の炭化水素基、6フッ素化されたイソプロピリデン
    基、カルボニル基、チオ基、スルフィニル基、スルホニ
    ル基又はオキシドから成る群より選ばれた基を表す、) にて表されるビスマレイミド化合物と、エポキシ樹脂の
    反応物 (b)エポキシ樹脂とビニルポリマーとのグラフト重合
    体中にシリコーンポリマーが1.0μ以下の粒子径で均
    一に分散された変性エポキシ樹脂、 (c)無機充填剤、 (d)硬化剤 を含有することを特徴とする半導体封止用樹脂組成物。
  4. (4)エポキシ樹脂ビニルポリマーとのグラフト重合体
    中に分散されたシリコーンポリマーが、付加反応型のシ
    リコーンポリマーが反応してなるシリコーンゴムおよび
    /またはビニル変性シリコーン重合体を主体とする軟質
    ビニル重合体である請求項(3)記載の半導体封止用樹
    脂組成物。
  5. (5)硬化剤が1分子中に少なくとも2個のフェノール
    性水酸基を有する化合物である請求項(3)記載の半導
    体封止用樹脂組成物。
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