JPH02212459A - 酸アミド誘導体 - Google Patents
酸アミド誘導体Info
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、医薬、特に老年性痴呆、アルツハイマー病等
における脳機能改善剤として有用な新規酸アミド誘導体
又はその塩に関する。
における脳機能改善剤として有用な新規酸アミド誘導体
又はその塩に関する。
従来の技術
社会の高齢化が進む中で、種々の脳機能改善作用を有す
る化合物が提案されている。その中にあって、コリンエ
ステラーゼ阻害剤であるフィゾスチグミンに脳機能改善
作用が見い出されている。
る化合物が提案されている。その中にあって、コリンエ
ステラーゼ阻害剤であるフィゾスチグミンに脳機能改善
作用が見い出されている。
発明が解決しようとする課題
フィゾスチグミンはしかしながら、作用持続時間が短い
、毒性が強い等の欠点を有している。
、毒性が強い等の欠点を有している。
本発明の目的は脳機能改善作用を有することが知られて
いる公知の化合物に比べてより強い作用を有し、作用持
続時間が長く、しかも毒性が弱い化合物を提供すること
である。
いる公知の化合物に比べてより強い作用を有し、作用持
続時間が長く、しかも毒性が弱い化合物を提供すること
である。
課題を解決するための−
本発明者らは、コl)、、ンエステラーゼ阻害作用を有
する脳機能改善薬として有用な化合物の探索に鋭意努力
を重ねた結果、−数式(1) [式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、R1は
置換基を有していてもよい芳香族基を、R3は水素原子
又は低級アルキル基もしくは置換基を有していてもよい
芳香族基を、nは3〜7の整数を、R4は水素原子、低
級アルキル基又はアシル基を、Act式−(CH*)7
B (式中、eは0.1又は2を示す)又は式−CR
’=CR’−(式中、R’R6はそれぞれ、水素原子、
低級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル
基を示す。)で表わされる基をBは置換基を有していて
もよい環状基を示す。但し、B−A−は式 (式中、Xは置換基を示しCは前記と同意義)を除く。
する脳機能改善薬として有用な化合物の探索に鋭意努力
を重ねた結果、−数式(1) [式中、R1は水素原子又は低級アルキル基を、R1は
置換基を有していてもよい芳香族基を、R3は水素原子
又は低級アルキル基もしくは置換基を有していてもよい
芳香族基を、nは3〜7の整数を、R4は水素原子、低
級アルキル基又はアシル基を、Act式−(CH*)7
B (式中、eは0.1又は2を示す)又は式−CR
’=CR’−(式中、R’R6はそれぞれ、水素原子、
低級アルキル基又は置換基を有していてもよいフェニル
基を示す。)で表わされる基をBは置換基を有していて
もよい環状基を示す。但し、B−A−は式 (式中、Xは置換基を示しCは前記と同意義)を除く。
]で表わされる酸アミド誘導体またはその塩の創製に成
功するとともに、これらの化合物が優れた脳機能改善作
用を示すことを知見し、本発明を完成するに至った。
功するとともに、これらの化合物が優れた脳機能改善作
用を示すことを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、式(1)で示される化合物[以下
単に化合物(1)と称することがある。]またはその塩
、それらの製造法及びそれらを含有するコリンエステラ
ーゼ阻害剤及び脳機能改善剤に関する。
単に化合物(1)と称することがある。]またはその塩
、それらの製造法及びそれらを含有するコリンエステラ
ーゼ阻害剤及び脳機能改善剤に関する。
前記式(1)において、R’、 R3およびR4で示さ
れる低級アルキル基としては、CI−6のアルキル基(
例、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n
−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n
−ヘキシルなど)があげられる。
れる低級アルキル基としては、CI−6のアルキル基(
例、メチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n
−ブチル、i−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、n
−ヘキシルなど)があげられる。
前記式(1)において、R1およびR3で示される「置
換基を有していてもよい芳香族基」の「芳香族基」とし
ては、フェニル基、ナフチル基などがあげられる。
換基を有していてもよい芳香族基」の「芳香族基」とし
ては、フェニル基、ナフチル基などがあげられる。
これらの芳香族基の置換基としては、ノ10ゲン原子(
例、クロル、ブロム、ヨード)、ニトロ、シアノ、ヒド
ロキシ、cI−4アルコキシ(例、メトキシ、エトキシ
2プロピルオキシ、ブチルオキシ、イソプロピルオキシ
)、C,□アルキルチオ(例、メチルチオ、エチルチオ
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ)、ア
ミノ、モノまたはジCl−4アルキル置換アミノ(例、
メチルアミノ、エチルアミ/、プロピルアミノ、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ)、 C、−。アルコキシカ
ルボニル(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、インブトキシカルボニル)
、ヒドロキシカルボニル、C51アルキルカルボニル(
Lメチルカルボニル、エチルカルボニル、ブチルカルボ
ニル。
例、クロル、ブロム、ヨード)、ニトロ、シアノ、ヒド
ロキシ、cI−4アルコキシ(例、メトキシ、エトキシ
2プロピルオキシ、ブチルオキシ、イソプロピルオキシ
)、C,□アルキルチオ(例、メチルチオ、エチルチオ
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ)、ア
ミノ、モノまたはジCl−4アルキル置換アミノ(例、
メチルアミノ、エチルアミ/、プロピルアミノ、ジメチ
ルアミノ、ジエチルアミノ)、 C、−。アルコキシカ
ルボニル(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、プロポキシカルボニル、インブトキシカルボニル)
、ヒドロキシカルボニル、C51アルキルカルボニル(
Lメチルカルボニル、エチルカルボニル、ブチルカルボ
ニル。
シクロへキシルカルボニル)、カルバモイル、モノまた
はジC3□アルキル置換カルバモイル(例、メチルカル
バモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル
、ブチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジブチ
ルカルバモイル)、1−4個の置換基を有していてもよ
いフェニル、ナフチル、フェノ牛シ、ベンゾイル、フェ
ノキシカルボニル、フェニルC11アルキルカルバモイ
ル及びフェニルカルバモイル[それぞれのフェニル基又
はナフチル基における置換基としては、たとえばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルなどのCI
−4アルキル基、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオ
キシ、i−プロピルオキシ、n−ブチルオキシなどのC
I−4アルコキシ基、クロル、ブロム、ヨードなどのハ
ロゲン原子、水酸基、アミノ、モノまたはジCI−4ア
ルキル置換アミノ、ニトロ+C1,4アルコキシカルボ
ニルなどがあげられる。]などがあげられる。
はジC3□アルキル置換カルバモイル(例、メチルカル
バモイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル
、ブチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジブチ
ルカルバモイル)、1−4個の置換基を有していてもよ
いフェニル、ナフチル、フェノ牛シ、ベンゾイル、フェ
ノキシカルボニル、フェニルC11アルキルカルバモイ
ル及びフェニルカルバモイル[それぞれのフェニル基又
はナフチル基における置換基としては、たとえばメチル
、エチル、プロピル、ブチル、イソプロピルなどのCI
−4アルキル基、メトキシ、エトキシ、n−プロピルオ
キシ、i−プロピルオキシ、n−ブチルオキシなどのC
I−4アルコキシ基、クロル、ブロム、ヨードなどのハ
ロゲン原子、水酸基、アミノ、モノまたはジCI−4ア
ルキル置換アミノ、ニトロ+C1,4アルコキシカルボ
ニルなどがあげられる。]などがあげられる。
これら芳香族基の置換基の数は1〜3個程度が適当であ
る。
る。
また、R′で示されるアシル基としては、たとえば、カ
ルボン酸アシル、カルバミン酸アシル、スルホン酸アシ
ル、置換オキシカルボン酸アシルなどがあげられる。
ルボン酸アシル、カルバミン酸アシル、スルホン酸アシ
ル、置換オキシカルボン酸アシルなどがあげられる。
カルボン酸アシルとしては、たとえばアセチル。
プロピオニル、ブチリル、バレリル、ヘキサノイル。
インブチリル、イソバレリルなどの01.□、アルキル
カルボニル、ベンゾイル、ナフトイルなどの07−。
カルボニル、ベンゾイル、ナフトイルなどの07−。
アリールカルボニルなどがあげられる。
カルバミン酸アシルとしては、たとえばカルバモイル、
モノまたはジ置換カルバモイルがあげられ、そのモノま
たはジ置換カルバモイルとしてはメチルカルバモイル、
エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、ブチルカ
ルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモ
イル、ジプロピルカルバモイルなどのモノまたはジC+
−aアルキルカルバモイル、フェニルカルバモイル、ナ
フチルカルバモイルなどの芳香族基カルバモイルなどが
あげられる。
モノまたはジ置換カルバモイルがあげられ、そのモノま
たはジ置換カルバモイルとしてはメチルカルバモイル、
エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、ブチルカ
ルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモ
イル、ジプロピルカルバモイルなどのモノまたはジC+
−aアルキルカルバモイル、フェニルカルバモイル、ナ
フチルカルバモイルなどの芳香族基カルバモイルなどが
あげられる。
スルホン酸アシルとしては、メチルスルホニル、エチル
スルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニルな
どのC1,□6アルキルスルホニル、フェニルスルホニ
ル、ナフタレンスルホニルナトの芳香族スルホニルなど
があげられる。
スルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニルな
どのC1,□6アルキルスルホニル、フェニルスルホニ
ル、ナフタレンスルホニルナトの芳香族スルホニルなど
があげられる。
置換オキシカルボン酸アシルとしては、たとえば、エチ
ルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、第三ブ
チルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど
C11アルキルオキシカルボニル、フェニルオキシカル
ボニル、ベンジルオ・キシカルボニルなど芳香族または
芳香脂肪族オキシカルボニルなどがあげられる。 ゛。
ルオキシカルボニル、エチルオキシカルボニル、第三ブ
チルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど
C11アルキルオキシカルボニル、フェニルオキシカル
ボニル、ベンジルオ・キシカルボニルなど芳香族または
芳香脂肪族オキシカルボニルなどがあげられる。 ゛。
R5,R4は同一であっても異なっていてもよい。
R5,R@で示される低級アルキル基としては、rR’
、R3およびR4で示される低級アルキル基」として前
にあげた基があげられる。
、R3およびR4で示される低級アルキル基」として前
にあげた基があげられる。
Rs、Reで示される置換基を有していてもよいフェニ
ル基の置換基及びBで表わされる置換されていてもよい
環状基の置換基としては、CI−4アルキル(例えば、
メチル、エチル、プロピル、ブチル等)、ハロゲン原子
(例えば、クロル、ブロム、ヨード等)、ニトロ、ンア
ノ、ヒドロキシ+Cl−4アルコキシ(例えば、メトキ
シ、エトキシ1プロピル4イ牛シ、ブチルオキシ、イソ
プロピルオ牛シ等)、C1−4アルキルチオ(例えば、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ等)、アミノ、モノまたはジCl−4
アルキル置換アミン(例えば、メチルアミノ、エチルア
ミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
7等)、Cl−4アルキルカルボニルアミノ(例えば、
アセチルアミ/、プロピオニルアミノ、ブチリルアミ7
等)、C1−4アルキルスルホニルアミノ(例えば、メ
チルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロ
ピルスルホニルアミノ等)、C,、アルコキシカルボニ
ル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、プロポキシカルボニル、インブトキシカルボニル等)
、ヒドロキ7カルボニル。
ル基の置換基及びBで表わされる置換されていてもよい
環状基の置換基としては、CI−4アルキル(例えば、
メチル、エチル、プロピル、ブチル等)、ハロゲン原子
(例えば、クロル、ブロム、ヨード等)、ニトロ、ンア
ノ、ヒドロキシ+Cl−4アルコキシ(例えば、メトキ
シ、エトキシ1プロピル4イ牛シ、ブチルオキシ、イソ
プロピルオ牛シ等)、C1−4アルキルチオ(例えば、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ等)、アミノ、モノまたはジCl−4
アルキル置換アミン(例えば、メチルアミノ、エチルア
ミノ、プロピルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
7等)、Cl−4アルキルカルボニルアミノ(例えば、
アセチルアミ/、プロピオニルアミノ、ブチリルアミ7
等)、C1−4アルキルスルホニルアミノ(例えば、メ
チルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、プロ
ピルスルホニルアミノ等)、C,、アルコキシカルボニ
ル(例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、プロポキシカルボニル、インブトキシカルボニル等)
、ヒドロキ7カルボニル。
Ci−eアルキルカルボニル(例えば、メチルカルボニ
ル、エチルカルボニル、ブチルカルボニル、シクロへキ
シルカルボニル等)、カルバモイル、モノまたはジC1
−4アルキル置換カルバモイル(例えば、メチルカルバ
モイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、
ブチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジブチル
カルバモイル等)、C,−、アルキルスルホニル(例え
ば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルス
ルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロへキシル
スルホニル等)、1−4個の置換基を有していてもよい
フェニル。
ル、エチルカルボニル、ブチルカルボニル、シクロへキ
シルカルボニル等)、カルバモイル、モノまたはジC1
−4アルキル置換カルバモイル(例えば、メチルカルバ
モイル、エチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、
ブチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジブチル
カルバモイル等)、C,−、アルキルスルホニル(例え
ば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルス
ルホニル、シクロペンチルスルホニル、シクロへキシル
スルホニル等)、1−4個の置換基を有していてもよい
フェニル。
フェノキシ、ベンゾイル、フェノキシカルボニル。
フェニルC1−、アルキルカルバモイル、フェニルカル
バモイル、フェニルC,−4フルキルカルボニルアミノ
、ベンゾイルアミノ、フェニルCI−4フルキルスルホ
ニル、フェニルスルホニル、フェニルCI−4フルキル
スルフイニル、フェニルC8−4アルキルスルホニルア
ミノ及びフェニルスルホニルアミノ、(それぞれのフェ
ニル基における置換基としては、たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソプロピルなどの01−4ア
ルキル基、クロル、ブロム、ヨードなどのハロゲン原子
、水酸基、ベンジルオキシ、アミン、例えばメチルアミ
ノ、ジメチルアミン等のモノまたはジC1−、アルキル
置換アミノ、ニトロ+Cl−4アルコキシカルボニルな
どがあげられる。)などがあげられる。
バモイル、フェニルC,−4フルキルカルボニルアミノ
、ベンゾイルアミノ、フェニルCI−4フルキルスルホ
ニル、フェニルスルホニル、フェニルCI−4フルキル
スルフイニル、フェニルC8−4アルキルスルホニルア
ミノ及びフェニルスルホニルアミノ、(それぞれのフェ
ニル基における置換基としては、たとえばメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソプロピルなどの01−4ア
ルキル基、クロル、ブロム、ヨードなどのハロゲン原子
、水酸基、ベンジルオキシ、アミン、例えばメチルアミ
ノ、ジメチルアミン等のモノまたはジC1−、アルキル
置換アミノ、ニトロ+Cl−4アルコキシカルボニルな
どがあげられる。)などがあげられる。
Bで表わされる環状基としては、炭素環のみならず、O
,S、N等のへテロ原子を含む複素環も含まれ、又単環
であってもよく又これら炭素環、炭素環、又は両者の縮
合環であってもよい。又これらの環状基の環は飽和であ
っても又不飽和の環状基に結合する炭素原子が共役にな
っている基が好ましい。したがってAが−CR5=CR
@−を表し、Bとして示される飽和又は不飽和の環状基
に結合しているかあるいは、Aが−(CHt)(7−を
表し、QがOの場合、つまり八が結合手を示す場合、B
に二重結合が存在していている基が好ましい。
,S、N等のへテロ原子を含む複素環も含まれ、又単環
であってもよく又これら炭素環、炭素環、又は両者の縮
合環であってもよい。又これらの環状基の環は飽和であ
っても又不飽和の環状基に結合する炭素原子が共役にな
っている基が好ましい。したがってAが−CR5=CR
@−を表し、Bとして示される飽和又は不飽和の環状基
に結合しているかあるいは、Aが−(CHt)(7−を
表し、QがOの場合、つまり八が結合手を示す場合、B
に二重結合が存在していている基が好ましい。
B−A−で示される基の代表例としては、例えばナフチ
ル基、ピリジル基、キノリニル基、インキノリニル基、
インドリニル基、インドールメチル基。
ル基、ピリジル基、キノリニル基、インキノリニル基、
インドリニル基、インドールメチル基。
2.2−ジフェニルビニル基、1.2−ジフェニルビニ
ル基、1−メチル−2−フェニルビニルL2−ピリジル
ビニル基、2−フリルビニル基、2−チエニルビニル基
、インデニルLl、2−1ヒドロナフチル基、6,7−
シヒドロー5H−ベンゾシクロへブテニル基、5,6−
シヒドロキノリニル基または5,6−シヒドロイツキノ
リニル基等があげられる。
ル基、1−メチル−2−フェニルビニルL2−ピリジル
ビニル基、2−フリルビニル基、2−チエニルビニル基
、インデニルLl、2−1ヒドロナフチル基、6,7−
シヒドロー5H−ベンゾシクロへブテニル基、5,6−
シヒドロキノリニル基または5,6−シヒドロイツキノ
リニル基等があげられる。
前記式(1)で示される化合物の好ましい実施態様を述
べると、R1としてはメチル、エチル、イソプロピルな
どが好ましく、特にエチルが好ましい。
べると、R1としてはメチル、エチル、イソプロピルな
どが好ましく、特にエチルが好ましい。
R1とじては、無置換あるいは1つ又は2つのメトキシ
、エトキシなどのアルコキシ基で置換されたフェニル基
またはナフチル基が好ましく、特に、フェニル基、2−
メトキシフェニル基、3メトキシフエニル基、2.3−
ジメトキシフェニル基またはナフチル基が好ましい。
、エトキシなどのアルコキシ基で置換されたフェニル基
またはナフチル基が好ましく、特に、フェニル基、2−
メトキシフェニル基、3メトキシフエニル基、2.3−
ジメトキシフェニル基またはナフチル基が好ましい。
R3としては水素原子が好ましい。
nは3,4.5が好ましい。
B−A−としては、2−ピリジルビニル基、インデニル
基、112−ジヒドロナフチル基が好ましく、Bの有す
る置換基としては、メチル、エチル。
基、112−ジヒドロナフチル基が好ましく、Bの有す
る置換基としては、メチル、エチル。
プロピルなどのC1−、アルキル基、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシなどのCI−4アルコキシ、ニトロ。
シ、プロポキシなどのCI−4アルコキシ、ニトロ。
シアノ、ヒドロ牛シ、クロル、ブロムなどのハロゲン原
子、アセチルアミノ、プロピオニルアミノなどのCl−
4フルキルカルボニルアミノ、メチルスルホニルアミノ
、エチルスルホニルアミノなどのC1−4アルキルスル
ホニルアミノ、置換基を有していてもよいベンゾイルア
ミノ、置換基を有していてもよいフェニルスルホニルア
ミノ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニルなどの
01−4アルキルスルフイニル、メチルスルホニル、エ
チルスルボニルなどのC1,□4アルキルスルホニルな
どが好ましく、特にC+−aアルコキシ、ニトロ、シア
ノ、ハロゲン原子、C,、□Jルキルカルポニルアミノ
+Cl−4アルキルスルホニルなどが好ましい。
子、アセチルアミノ、プロピオニルアミノなどのCl−
4フルキルカルボニルアミノ、メチルスルホニルアミノ
、エチルスルホニルアミノなどのC1−4アルキルスル
ホニルアミノ、置換基を有していてもよいベンゾイルア
ミノ、置換基を有していてもよいフェニルスルホニルア
ミノ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニルなどの
01−4アルキルスルフイニル、メチルスルホニル、エ
チルスルボニルなどのC1,□4アルキルスルホニルな
どが好ましく、特にC+−aアルコキシ、ニトロ、シア
ノ、ハロゲン原子、C,、□Jルキルカルポニルアミノ
+Cl−4アルキルスルホニルなどが好ましい。
置換基の数は1乃至3個が好ましい。
R4としては、水素原子またはアセチル基が好ましい。
Rs、 R”としては水素原子、フェニル基、あるいは
C+−aアルコ牛シ、ニトロ、シアン、ハロゲン原子。
C+−aアルコ牛シ、ニトロ、シアン、ハロゲン原子。
CI−、アルキルカルボニルアミノ+Cl−4フルキル
スルホニルなどの置換基を1−3個有するフェニル基が
好ましい。
スルホニルなどの置換基を1−3個有するフェニル基が
好ましい。
本発明化合物(1)は酸付加塩、とりわけ生理学的に許
容される酸付加塩を形成していてもよく、それらの塩と
しては、たとえば無機酸(例、塩酸。
容される酸付加塩を形成していてもよく、それらの塩と
しては、たとえば無機酸(例、塩酸。
硝酸、リン酸、臭化水素酸、硫酸)、あるいは有機酸(
酢酸、ギ酸、プロピオン酸、フマル酸、マレイン酸。
酢酸、ギ酸、プロピオン酸、フマル酸、マレイン酸。
コハク酸、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸、蓚酸、安息香
酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸)トの塩が
挙げられる。
酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸)トの塩が
挙げられる。
又、目的化合物(1)中に、−COORなどの酸性基を
有している場合、目的化合物(1)は、例えば、ナトリ
ウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム。
有している場合、目的化合物(1)は、例えば、ナトリ
ウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム。
アンモニア等の無機塩基又は例えばl・リエチルアミン
等の有機塩基と塩を形成していてもよい。
等の有機塩基と塩を形成していてもよい。
次に本発明化合物(1)の製造法について述べる。
以下の製法説明は、目的化合物(1)自体のみならず、
上述したその塩にも適用されるが、以下の説明では単に
化合物(I)と略称する。
上述したその塩にも適用されるが、以下の説明では単に
化合物(I)と略称する。
式(ff)
[式中、2は水酸基またはカルボン酸の反応性基を示し
、他の記号は前記と同意義である。]で表わされる化合
物と、例えば、式(III)[式中、各記号は前記と同
意義である。]で表わされる化合物またはその塩を反応
させることにより製造することができる。
、他の記号は前記と同意義である。]で表わされる化合
物と、例えば、式(III)[式中、各記号は前記と同
意義である。]で表わされる化合物またはその塩を反応
させることにより製造することができる。
上記化合物(Ill)は、公知の方法、例えばロクッニ
キ・ケミ−(Rocz、 Chem、 )43. 10
83 (1969)、ファルマコ(バビア)エディジオ
ーネ・サイエンティフィ力 (Farmaco(Pav
ia)Ed、 Sci、) 12゜551(1957)
f二記載された方法、またはそれに準じた方法によって
製造することができる。
キ・ケミ−(Rocz、 Chem、 )43. 10
83 (1969)、ファルマコ(バビア)エディジオ
ーネ・サイエンティフィ力 (Farmaco(Pav
ia)Ed、 Sci、) 12゜551(1957)
f二記載された方法、またはそれに準じた方法によって
製造することができる。
上記2で表わされるカルボン酸の反応性基としては、ハ
ロゲン原子(例、クロロ、ブロモ、ヨード)、低級(C
、、)アルコキシ(例、メトキシ、エトキシ。
ロゲン原子(例、クロロ、ブロモ、ヨード)、低級(C
、、)アルコキシ(例、メトキシ、エトキシ。
プロポキシ、ブトキシ)および隣接するカルボニル基と
ともにN−ヒドロ亭シジアシルイミドエステル(例、N
−ヒドロキシコハク酸イミドエステル。
ともにN−ヒドロ亭シジアシルイミドエステル(例、N
−ヒドロキシコハク酸イミドエステル。
N−ヒドロキシフタル酸イミドエステル、N−ヒドロキ
シ−5・−フルボネン−2,3−ジカルボキシイミドエ
ステル)残基を形成し得る基などが挙げられる。
シ−5・−フルボネン−2,3−ジカルボキシイミドエ
ステル)残基を形成し得る基などが挙げられる。
これらの反応は通常、炭化水素系溶媒(例、ペンタン、
ヘキサン、ベンセ石トルエン)、?\ロゲン化炭化水素
系溶媒(例、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロル
エタン、四塩化炭素)、エーテル系溶媒(例、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン)1エステル系溶媒(例、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、プロピオン酸メチル)、アミド系溶媒1例、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホノトリアミド)。
ヘキサン、ベンセ石トルエン)、?\ロゲン化炭化水素
系溶媒(例、ジクロルメタン、クロロホルム、ジクロル
エタン、四塩化炭素)、エーテル系溶媒(例、エチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシ
エタン)1エステル系溶媒(例、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、プロピオン酸メチル)、アミド系溶媒1例、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホノトリアミド)。
ジメチルスルホキシドなどの有機溶媒中、冷却下(−1
0’C−10’C)、室温下(11’c〜40°C)、
または加熱下(4ピC〜120℃)で行うことができ、
反応時間は、通常、10分〜12時間である。
0’C−10’C)、室温下(11’c〜40°C)、
または加熱下(4ピC〜120℃)で行うことができ、
反応時間は、通常、10分〜12時間である。
また前記化合物(II[)は化合物(II)に対して1
.0〜3.0当量使用するのが好ましい。さらに本反応
は所望により、例えばZがヒドロキンの場合はカルボニ
ルジイミダゾール、ジシクロへキシルカルボジイミド、
シアノリン酸ジエチル、ジフェニルホスホリルアジドな
どの酸活性化剤存在下に、またZがハロゲンまたは低級
アルコキシの場合は、例えば、ピリジン14〜ジメチル
アミノピリジン。
.0〜3.0当量使用するのが好ましい。さらに本反応
は所望により、例えばZがヒドロキンの場合はカルボニ
ルジイミダゾール、ジシクロへキシルカルボジイミド、
シアノリン酸ジエチル、ジフェニルホスホリルアジドな
どの酸活性化剤存在下に、またZがハロゲンまたは低級
アルコキシの場合は、例えば、ピリジン14〜ジメチル
アミノピリジン。
トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチレ
ンジアミンテトラメチルエチレンジアミンなどの有機塩
基や、例えば、炭酸水素すトリウム炭酸水素カリウム、
炭酸水素−リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸リチウム、水酸化リチウム1水酸化力1ノウム、水
酸化ナトリウム、水素化ナトリウムなどの無機塩基の存
在下に行うことかできる。
ンジアミンテトラメチルエチレンジアミンなどの有機塩
基や、例えば、炭酸水素すトリウム炭酸水素カリウム、
炭酸水素−リチウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸リチウム、水酸化リチウム1水酸化力1ノウム、水
酸化ナトリウム、水素化ナトリウムなどの無機塩基の存
在下に行うことかできる。
さらにZが隣接するカルボニル基とともにNヒドロキシ
ジアシルイミドエステル残基を[する基の場合、好まし
くは、例えば、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、ア
セトニトリル、水などの溶媒中で行われる。また本反応
は、必要に応じて前記した有機、無機塩基の存在下に行
われる。
ジアシルイミドエステル残基を[する基の場合、好まし
くは、例えば、ジクロルメタン、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、クロロホルム、ジメチルホルムアミド、ア
セトニトリル、水などの溶媒中で行われる。また本反応
は、必要に応じて前記した有機、無機塩基の存在下に行
われる。
反応温度は、通常、−10°C−110°C1好ましく
はO′C〜30°Cであり、反応時間は、通常、5分〜
12時間、好ま]2(は30分〜2時間である。
はO′C〜30°Cであり、反応時間は、通常、5分〜
12時間、好ま]2(は30分〜2時間である。
前記原料化合物である式(It)で表わされる化合物の
うち、Zがヒドロキ7基である化合物[以下化1(n:
Z=ヒドロキシ)というように表示する。」、すなわち
、カルボン酸は化合物(II :Z −低級アルコキ/
)、すなわち、エステル体し公知化合物又は、公知方法
(例えば、コンブト・レングス・ヘブドマダイレ・デス
・シアンセ・デ・アカデミ−・デス−サイエンス:セル
C・サブルメント(C,R,l1ebd、 5ean
ces Acad、 Sci、、 Set、
C)2o、87(1978)Cケミカル・アブストラク
ツ(Chew、 Abstr、)88 : 13634
2にコに記載の方法等)に準じて製造できる化合物]を
、自体公知の方法、例えば、アルカリ金属水酸化物(例
、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム
)、アルカリ金属炭酸化合物(例、炭酸カリウム。
うち、Zがヒドロキ7基である化合物[以下化1(n:
Z=ヒドロキシ)というように表示する。」、すなわち
、カルボン酸は化合物(II :Z −低級アルコキ/
)、すなわち、エステル体し公知化合物又は、公知方法
(例えば、コンブト・レングス・ヘブドマダイレ・デス
・シアンセ・デ・アカデミ−・デス−サイエンス:セル
C・サブルメント(C,R,l1ebd、 5ean
ces Acad、 Sci、、 Set、
C)2o、87(1978)Cケミカル・アブストラク
ツ(Chew、 Abstr、)88 : 13634
2にコに記載の方法等)に準じて製造できる化合物]を
、自体公知の方法、例えば、アルカリ金属水酸化物(例
、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム
)、アルカリ金属炭酸化合物(例、炭酸カリウム。
炭酸ナトリウム、炭酸リチウム)、鉱酸く例、塩酸。
硫酸、硝酸、リン酸、過塩素酸、ヨウ化水素酸)、有機
酸(例、酢酸、プロピオン酸、ト・リフルオロ酢酸、モ
ノクロル酢酸、トリクロル酢酸、メタ・ンスルホン酸。
酸(例、酢酸、プロピオン酸、ト・リフルオロ酢酸、モ
ノクロル酢酸、トリクロル酢酸、メタ・ンスルホン酸。
エタンスルポンM、p−トルエンスルホン酸)で加水分
解することにより容易に製造することができる。加水分
解に使用する溶媒は、一般的に使用される溶媒ならなん
でもよく、例えば、水、低級(C,−、)アルカノール
類(例、メタノール、エタノール、プロパノ−・ル、ブ
タノール)、ジオキサン、テトラヒドロフラン ジメチ
ルホルムアミドなどが好ましい。反応温度は、通常、=
i0″C〜120°C程度、好ましくは、。0℃〜80
℃である。反応温度は、通常、10分〜24時間、好ま
しくは30分〜6時間である。
解することにより容易に製造することができる。加水分
解に使用する溶媒は、一般的に使用される溶媒ならなん
でもよく、例えば、水、低級(C,−、)アルカノール
類(例、メタノール、エタノール、プロパノ−・ル、ブ
タノール)、ジオキサン、テトラヒドロフラン ジメチ
ルホルムアミドなどが好ましい。反応温度は、通常、=
i0″C〜120°C程度、好ましくは、。0℃〜80
℃である。反応温度は、通常、10分〜24時間、好ま
しくは30分〜6時間である。
化合物(11:Z−ハロゲン)は、化合物(II :Z
=ヒドロキシ)、すなわち、カルボン酸を自体公知の
方法、例えば、ハロゲン化剤(例、オキシ塩化リン、オ
キシ臭化リン、五塩化リン、五臭化リン、チオニルクロ
リド、チオニルプロミド、スルフリルクロリド、オキザ
リルクロリド、7アヌル酸クロリド王臭化ホウ素、ヨウ
化水素)でハロゲン化することにより製造することがで
きる。ハロゲン化により得られる酸ハライドとしては、
例えば、酸クロリド、酸プロミド、酸フロリド、酸ヨー
ダイトがあげられ、とりわ1ブ、酸クロリド、酸プロミ
ドが好ましい。
=ヒドロキシ)、すなわち、カルボン酸を自体公知の
方法、例えば、ハロゲン化剤(例、オキシ塩化リン、オ
キシ臭化リン、五塩化リン、五臭化リン、チオニルクロ
リド、チオニルプロミド、スルフリルクロリド、オキザ
リルクロリド、7アヌル酸クロリド王臭化ホウ素、ヨウ
化水素)でハロゲン化することにより製造することがで
きる。ハロゲン化により得られる酸ハライドとしては、
例えば、酸クロリド、酸プロミド、酸フロリド、酸ヨー
ダイトがあげられ、とりわ1ブ、酸クロリド、酸プロミ
ドが好ましい。
前記ハロゲン化は、無溶媒、あるいは、一般的に使用さ
れる溶媒中で行われ、例えば、クロロホルム、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、ベンゼン。
れる溶媒中で行われ、例えば、クロロホルム、ジクロル
メタン、ジクロルエタン、ベンゼン。
トルエンなどの不活性溶媒が好ましい。
化合m(n :8− z = N−ヒドロキシジアシル
イミドエステル残基)は化合物(n :Z−ヒドロキシ
)にN−ヒドロキシジカルボン酸イミド(例、N−ヒド
ロキシコハク酸イミド、N−ヒドロキシフタル酸イミド
、N−ヒドロキシ−5−ノルボネン2,3−ジカルボキ
シイミド)を、ジシクロへキシルカルボジイミド存在下
に自体公知の方法によって反応させて製造することがで
きる。この反応は通常使用される溶媒(例、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル。
イミドエステル残基)は化合物(n :Z−ヒドロキシ
)にN−ヒドロキシジカルボン酸イミド(例、N−ヒド
ロキシコハク酸イミド、N−ヒドロキシフタル酸イミド
、N−ヒドロキシ−5−ノルボネン2,3−ジカルボキ
シイミド)を、ジシクロへキシルカルボジイミド存在下
に自体公知の方法によって反応させて製造することがで
きる。この反応は通常使用される溶媒(例、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリル。
水)中で行い、化合物(■・と−Z−N−ヒト・キシジ
アシルイミドエステル残基)は単離することなく次の反
応に供し得る。その細化合物(n)は、いずれも公知方
法又はそれに準じた方法により製造することができる。
アシルイミドエステル残基)は単離することなく次の反
応に供し得る。その細化合物(n)は、いずれも公知方
法又はそれに準じた方法により製造することができる。
また化合物(1)のうち化合物(+ :R’= R”)
[式中、R4/は水素を除いて前記R゛と同意義、すな
わちR4/は低級アルキル基又はアシル基を示す。]は
例えば、化合物(r:R’=H)に低級アルキル基を導
入するか又はアシル化して製造することができる。
[式中、R4/は水素を除いて前記R゛と同意義、すな
わちR4/は低級アルキル基又はアシル基を示す。]は
例えば、化合物(r:R’=H)に低級アルキル基を導
入するか又はアシル化して製造することができる。
例えば化合物(1:R’=H)と式(■)R4/−Y
(IV) [式中、R4/は水素を除いて前記R4と同意義で、す
なわちR′′’は低級アルキル基又はアシル基を意味し
、YはR”が低級アルキル基の場合Yはハロゲンを、R
4′がアシル基の場合Yはヒドロキシ。
(IV) [式中、R4/は水素を除いて前記R4と同意義で、す
なわちR′′’は低級アルキル基又はアシル基を意味し
、YはR”が低級アルキル基の場合Yはハロゲンを、R
4′がアシル基の場合Yはヒドロキシ。
OR”またはカルボン酸の反応性基を示す。]で表わさ
れる化合物を、自体公知の方法によって反応させること
によっても製造できる。
れる化合物を、自体公知の方法によって反応させること
によっても製造できる。
化合物(1:R’−H)と化合物(IV)の反応におい
ては、溶媒は必ずしも必要としないが、用いる場合は、
通常炭化水素系溶媒(例、ペンタン、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン)、ハロゲン化炭化水素系溶媒(例、ジク
ロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭
素)、エーテル系溶媒(例、エチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン)、アミド
系溶媒(例、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホス
ホノトリアミド)、ジメチルスルホキシドなどの有機溶
媒を用いるのがよい。反応は、−10°Cから200°
Cで行なうことができ、好ましくは0−120°Cであ
る。反応時間は、通常5分〜12時間であり、好ましく
は10分〜6時間である。また通常、前記化合物(■)
は化合物(1:R’=H)に対して当モルないし過剰量
、好ましくは1.1〜10.0倍モル使用される。また
R 4/が低級アルキル基でYがハロゲンの場合、本反
応は所望により例えばビリジ石4−ジメチルアミノピリ
ジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリ
エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミンなど
の有機塩基や、例えば、水素化ナトリウム、金属ナトリ
ウム、カリウムアミド、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム。
ては、溶媒は必ずしも必要としないが、用いる場合は、
通常炭化水素系溶媒(例、ペンタン、ヘキサン、ベンゼ
ン、トルエン)、ハロゲン化炭化水素系溶媒(例、ジク
ロルメタン、クロロホルム、ジクロルエタン、四塩化炭
素)、エーテル系溶媒(例、エチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン)、アミド
系溶媒(例、ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルホス
ホノトリアミド)、ジメチルスルホキシドなどの有機溶
媒を用いるのがよい。反応は、−10°Cから200°
Cで行なうことができ、好ましくは0−120°Cであ
る。反応時間は、通常5分〜12時間であり、好ましく
は10分〜6時間である。また通常、前記化合物(■)
は化合物(1:R’=H)に対して当モルないし過剰量
、好ましくは1.1〜10.0倍モル使用される。また
R 4/が低級アルキル基でYがハロゲンの場合、本反
応は所望により例えばビリジ石4−ジメチルアミノピリ
ジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリ
エチレンジアミン、テトラメチルエチレンジアミンなど
の有機塩基や、例えば、水素化ナトリウム、金属ナトリ
ウム、カリウムアミド、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム。
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化リチウム。
水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機塩基の存
在下に行なうことができる。これら塩基は一般に化合物
(1:R’=H)に対して、当モル乃至過剰量好ましく
は1.1〜5倍モル量用いられる。
在下に行なうことができる。これら塩基は一般に化合物
(1:R’=H)に対して、当モル乃至過剰量好ましく
は1.1〜5倍モル量用いられる。
また、R4/がアシル基の場合のYで表わされるカルボ
ン酸の反応性基としてはハロゲン(例、塩素臭素、ヨウ
素)、低級(C、−、)アルコキシ(例、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ)および隣接するカルボ
ニル基と共にN−ヒドロキシンアフルイミドエステル(
例、N−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、N−ヒド
ロキシフタル酸イミドエステルN−ヒドロキシ−5−ノ
ルボネン−2,3−ジカルボキシイミドエステル)を形
成しうる基などが挙げられる。
ン酸の反応性基としてはハロゲン(例、塩素臭素、ヨウ
素)、低級(C、−、)アルコキシ(例、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ)および隣接するカルボ
ニル基と共にN−ヒドロキシンアフルイミドエステル(
例、N−ヒドロキシコハク酸イミドエステル、N−ヒド
ロキシフタル酸イミドエステルN−ヒドロキシ−5−ノ
ルボネン−2,3−ジカルボキシイミドエステル)を形
成しうる基などが挙げられる。
また、R4′がアシル基の場合の化合物(1:R’=I
])と化合物(IV)との反応も、所望によりYがヒド
ロキシの場合はカルボニルジイミダゾールジシクロへへ
キシルカルボジイミド、/アノリン酸ジエチル1ジフェ
ニルホスホリルアジドなどの酸活性化側存在下、YがO
R”の場合は、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、
リン酸などの鉱酸や、例えば酢酸、ギ酸、プロピオン酸
、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸などの有
1/afltJ ルイはアシル基がR4′と同一である
アシルハロゲン化物の存在下に、またYがハロゲンまた
は低級アルコキシの場合は、例えば、ピリジン、4−ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリエチレンジアミン、テトラメチルエチ
レンジアミンなどの有機塩基や、例えば、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機塩基
の存在下に行うことができる。
])と化合物(IV)との反応も、所望によりYがヒド
ロキシの場合はカルボニルジイミダゾールジシクロへへ
キシルカルボジイミド、/アノリン酸ジエチル1ジフェ
ニルホスホリルアジドなどの酸活性化側存在下、YがO
R”の場合は、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、
リン酸などの鉱酸や、例えば酢酸、ギ酸、プロピオン酸
、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸などの有
1/afltJ ルイはアシル基がR4′と同一である
アシルハロゲン化物の存在下に、またYがハロゲンまた
は低級アルコキシの場合は、例えば、ピリジン、4−ジ
メチルアミノピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリエチレンジアミン、テトラメチルエチ
レンジアミンなどの有機塩基や、例えば、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸カ
リウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、水酸化リチウ
ム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機塩基
の存在下に行うことができる。
さらにR”−Y(rV)がN−ヒドロキシジアシルイミ
ドエステルの場合、好ましくは、例えば、ジクロルメタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサンクロロホルム、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、水などの溶媒中
で行われる。また本反応は、所望によりYがハロゲン又
は低級アルコキシの場合について前記した有機、無機塩
基の存在下に行われる。
ドエステルの場合、好ましくは、例えば、ジクロルメタ
ン、テトラヒドロフラン、ジオキサンクロロホルム、ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル、水などの溶媒中
で行われる。また本反応は、所望によりYがハロゲン又
は低級アルコキシの場合について前記した有機、無機塩
基の存在下に行われる。
」二記の酸活性化剤、酸、ハロゲン化物、塩基の存在下
で反応を行なう場合、いずれも、化合物(1:R’=H
)に対して一般には、当モル量から過剰量、好ましくは
161〜5倍モル量用いられる。
で反応を行なう場合、いずれも、化合物(1:R’=H
)に対して一般には、当モル量から過剰量、好ましくは
161〜5倍モル量用いられる。
本発明の化合物(I)は、哺乳動物の中枢神経系に作用
し、強いコリンエステラーゼ阻害活性を有し、人または
動物(例えば、マウス)における各種健忘誘発作用に対
し優れた抗健忘作用を示す。
し、強いコリンエステラーゼ阻害活性を有し、人または
動物(例えば、マウス)における各種健忘誘発作用に対
し優れた抗健忘作用を示す。
本発明の化合物(1)は、フィゾスチグミンと比較して
、中枢神経に対する作用と末梢神経に対する作用との分
離が極めてよく、抗健忘作用を示す用量は、痙彎作用、
流誕作用、下痢などの末梢神経作用は無いか、もしくは
極めて軽微で、作用持続時間が長く、毒性が低い特長を
有する、また経口投与により著効を奏する。
、中枢神経に対する作用と末梢神経に対する作用との分
離が極めてよく、抗健忘作用を示す用量は、痙彎作用、
流誕作用、下痢などの末梢神経作用は無いか、もしくは
極めて軽微で、作用持続時間が長く、毒性が低い特長を
有する、また経口投与により著効を奏する。
従って本発明化合物(1)は人を含む哺乳動物の脳機能
改善薬として有用である。
改善薬として有用である。
本発明の化合物(r)の有用な対象病病名としては、た
とえば老年性痴呆、アルツハイマー病、ハンチントン舞
踏病、運動過多病、′8病などが挙げられ、これらの疾
病の予防または治療に用いることができる。
とえば老年性痴呆、アルツハイマー病、ハンチントン舞
踏病、運動過多病、′8病などが挙げられ、これらの疾
病の予防または治療に用いることができる。
本発明の化合物(1)はたとえば、錠剤、顆粒剤カプセ
ル剤、注射剤、坐剤など種々の剤型でヒトを含む哺乳動
物に経口的、もしくは非経口的に投与しうる。投与量は
対象疾患の種類、症状などにより差異はあるが、一般的
に成人においては、経口投与の場合、−日ニつき約0.
001mg〜100IC好ましくは0.01〜30mg
より好ましくは0.3〜l0mgである。
ル剤、注射剤、坐剤など種々の剤型でヒトを含む哺乳動
物に経口的、もしくは非経口的に投与しうる。投与量は
対象疾患の種類、症状などにより差異はあるが、一般的
に成人においては、経口投与の場合、−日ニつき約0.
001mg〜100IC好ましくは0.01〜30mg
より好ましくは0.3〜l0mgである。
聚呵p僧】
本発明に係る化合物は哺乳動物の中枢神経系に作用し、
強いコリンエステラーゼ阻害活性を有する。従って、た
とえば老年痴呆、アルツハイマー病、ハンチントン舞踏
病などの予防、治療に用いることができ、医薬として有
用なものである。
強いコリンエステラーゼ阻害活性を有する。従って、た
とえば老年痴呆、アルツハイマー病、ハンチントン舞踏
病などの予防、治療に用いることができ、医薬として有
用なものである。
実−1例
以下において、実施例、参考例、製剤例および実験例に
より本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
より本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら
に限定されるものではない。
実施例、参考例のカラムクロマトグラフィにおける溶出
は、特記しない場合はT L C(ThinLayer
ChrotaatographY+ 薄層クロマ
トグラフィ)による観察下に行なわれた。TLC観察に
おいては、T L Cプレートとしてメルク(Merc
k)社製の60F□4を、展開溶媒としてカラムクロマ
トグラフィで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法
としてUV検出器を採用した。また、T L Cプレー
ト上のスポットに48%HBrを噴霧し、加熱して加水
分解した後にニンヒドリン(ninhydrin)試薬
を噴霧し、再び加熱して赤〜赤紫色に変わる現象も検出
法として併用して目的物を含む溶出分画を確認し、集め
た。特記しない限りカラム用シリカゲルはメルク社製の
キーゼルゲル60(70〜230メツシユ)を用いた。
は、特記しない場合はT L C(ThinLayer
ChrotaatographY+ 薄層クロマ
トグラフィ)による観察下に行なわれた。TLC観察に
おいては、T L Cプレートとしてメルク(Merc
k)社製の60F□4を、展開溶媒としてカラムクロマ
トグラフィで溶出溶媒として用いられた溶媒を、検出法
としてUV検出器を採用した。また、T L Cプレー
ト上のスポットに48%HBrを噴霧し、加熱して加水
分解した後にニンヒドリン(ninhydrin)試薬
を噴霧し、再び加熱して赤〜赤紫色に変わる現象も検出
法として併用して目的物を含む溶出分画を確認し、集め
た。特記しない限りカラム用シリカゲルはメルク社製の
キーゼルゲル60(70〜230メツシユ)を用いた。
尚“常温”あるいは“室温°゛とあるのは通常約5℃か
ら40℃を意味し、常圧とあるのは、−・気圧近辺を意
味する。
ら40℃を意味し、常圧とあるのは、−・気圧近辺を意
味する。
また、特記しない限り%は重量百分率を示す。
参考例1
N−ベンジル−N−メチル−1,4−ブタンジアミン・
2塩酸塩 2−[4−N−ベンジル−N−メチル)アミ/ブチル]
−1,8−イソインドール−1,3(2H)−ジオン・
塩酸塩11gとヒドラジン・1水和物5−のエタノール
150m溶液を30分間加熱還流した。放冷後、沈殿を
除き、減圧で溶媒を留去して得た油状物を室温で一昼夜
放置した。生成した沈殿を除いて得た油状物に3規定塩
酸のエタノール溶i&20.5J112を加え、減圧で
溶媒を除いた。残った固体をエタノール−エーテル(1
:10(V/V))から再結晶して融点100−103
℃の無色結晶7.9gを得た。
2塩酸塩 2−[4−N−ベンジル−N−メチル)アミ/ブチル]
−1,8−イソインドール−1,3(2H)−ジオン・
塩酸塩11gとヒドラジン・1水和物5−のエタノール
150m溶液を30分間加熱還流した。放冷後、沈殿を
除き、減圧で溶媒を留去して得た油状物を室温で一昼夜
放置した。生成した沈殿を除いて得た油状物に3規定塩
酸のエタノール溶i&20.5J112を加え、減圧で
溶媒を除いた。残った固体をエタノール−エーテル(1
:10(V/V))から再結晶して融点100−103
℃の無色結晶7.9gを得た。
元素分析値 CI、HzoN t ’ 28 CIとし
て計算値: C54,34H8,36N 10.56
実験値:C54゜1lH8゜21 N 1.0.38
参考例2 参考例1と同様にして第1表に示す化合物が得られた。
て計算値: C54,34H8,36N 10.56
実験値:C54゜1lH8゜21 N 1.0.38
参考例2 参考例1と同様にして第1表に示す化合物が得られた。
化合
物n
番号
参考例3
第1表
融点
分子式
%式%
N−[(2−メトキシフェニル)メチル]−N−工チル
ー1.5−ペンタンジアミン 参考例1と同様にして無色油状物を得た。
ー1.5−ペンタンジアミン 参考例1と同様にして無色油状物を得た。
元素分析値 C、、H、、N 、Oとして計算値:
C71,96H1,0,47N 11.19実験値:
C71,,79H10,31,N 1.1.00実施
例1 3.4−ジヒドロ−6,7−シメトキシーN−[5−[
N−エチル−N−(フェニルメチル)アミノ]ペンチル
]ナフタレン−2−カルボン酸アミド・塩酸塩 3.4−ジヒドロ−6,7−シメトキシナフタレ号3の
N−ベンジル−N−エチル−1,5−ペンタンジアミン
0.8gおよびトリエチルアミン0゜7dを含有するジ
メチルホルムアミド4d溶液に、水冷下、シアノリン酸
ジエチル0.77gを加えた。
C71,96H1,0,47N 11.19実験値:
C71,,79H10,31,N 1.1.00実施
例1 3.4−ジヒドロ−6,7−シメトキシーN−[5−[
N−エチル−N−(フェニルメチル)アミノ]ペンチル
]ナフタレン−2−カルボン酸アミド・塩酸塩 3.4−ジヒドロ−6,7−シメトキシナフタレ号3の
N−ベンジル−N−エチル−1,5−ペンタンジアミン
0.8gおよびトリエチルアミン0゜7dを含有するジ
メチルホルムアミド4d溶液に、水冷下、シアノリン酸
ジエチル0.77gを加えた。
水冷下で1時間撹拌した後、水50m1を加えた。
生成物をジクロロメタンで抽出し、ジクロロメタン溶液
を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧で溶媒を留去した
。残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒;酢酸エチル−メタノール−20: ] (
V/V))にかけ、゛目的物の入った溶液の溶媒を留去
し、3規定塩化水素のエタノール溶液1.2〆を加え、
溶媒を留去して吸湿性の非結晶性粉末1.5gを得た。
を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧で溶媒を留去した
。残った油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(展開溶媒;酢酸エチル−メタノール−20: ] (
V/V))にかけ、゛目的物の入った溶液の溶媒を留去
し、3規定塩化水素のエタノール溶液1.2〆を加え、
溶媒を留去して吸湿性の非結晶性粉末1.5gを得た。
元素分析値 Ct7HssN to a・HCQとして
計算値: C68,55H7,88N 5.92実験値
: C68,5187,73N 5.81実施例2 実施例1と同様にして、第2表に示す化合物が得られた
。
計算値: C68,55H7,88N 5.92実験値
: C68,5187,73N 5.81実施例2 実施例1と同様にして、第2表に示す化合物が得られた
。
ンー2−カルボン酸0.85g、参考例2化合物番実施
例3 N−アセチル−3,4−ジヒドロ−6,7−シメトキシ
ーN −[5−[N−エチル−N−(フェニルメチル)
アミノ]ペンチル]ナフタレン−2−カルボン酸アミド
・塩酸塩 実施例1の3,4−ジヒドロ−6,7−シメトキシーN
−[5−[N−エチル−N−(フェニルメチル)アミノ
]ペンチル]ナフタレン−2−カルボン酸アミド・塩酸
塩0.24gを無水酢酸3mlに溶かし、p−1ルエン
スルホン酸・1水和物を触媒量加え、80°Cで8時間
加熱かくはんした。成金後、水50dを加えた。生成物
をジクロロメタンで抽出し、ジクロロメタン溶液を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧で溶媒を留去した。残っ
た油状物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸
エチル−メタノール= 20 + 1 (V/V))に
かけ、目的物の入った溶液の溶媒を留去し、3規定塩化
水素のエタノール溶液0.2dを加え、溶媒を留去して
非結晶性粉末0.2gを得た。
例3 N−アセチル−3,4−ジヒドロ−6,7−シメトキシ
ーN −[5−[N−エチル−N−(フェニルメチル)
アミノ]ペンチル]ナフタレン−2−カルボン酸アミド
・塩酸塩 実施例1の3,4−ジヒドロ−6,7−シメトキシーN
−[5−[N−エチル−N−(フェニルメチル)アミノ
]ペンチル]ナフタレン−2−カルボン酸アミド・塩酸
塩0.24gを無水酢酸3mlに溶かし、p−1ルエン
スルホン酸・1水和物を触媒量加え、80°Cで8時間
加熱かくはんした。成金後、水50dを加えた。生成物
をジクロロメタンで抽出し、ジクロロメタン溶液を無水
硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧で溶媒を留去した。残っ
た油状物をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒;酢酸
エチル−メタノール= 20 + 1 (V/V))に
かけ、目的物の入った溶液の溶媒を留去し、3規定塩化
水素のエタノール溶液0.2dを加え、溶媒を留去して
非結晶性粉末0.2gを得た。
元素分析値 CrsHsaN to −・HC(lとし
て計算値:C67,82H7,63N 5.44実験値
: C67,44H7,58N 5.40実施例4 (E)−N−アセチル−N−[5−[N−エチル−N−
(フェニルメチル)アミノコペンチル]−3−(3ピリ
ジル)−2−プロペンアミド・塩酸塩実施例3と同様に
して、吸湿性の非結晶性粉末を得た。
て計算値:C67,82H7,63N 5.44実験値
: C67,44H7,58N 5.40実施例4 (E)−N−アセチル−N−[5−[N−エチル−N−
(フェニルメチル)アミノコペンチル]−3−(3ピリ
ジル)−2−プロペンアミド・塩酸塩実施例3と同様に
して、吸湿性の非結晶性粉末を得た。
元素分析値 C,、H3,N、O,・HCQとして計算
値: C67,04H7,50N 9.77実験値:
C66,93H7,41N 9.52製剤例I (1) 3.4−ジヒドロ−6,7−シメトキシーN
−[5−[N−エチル−N−[(2−メトキシフェニル
)メチルコアミノ]ベンチルコナフタレン−2−カルボ
ン酸アミド・塩酸塩(実施例2−2に従って得た化合物
) Ig(2〉 乳糖
197g(3) トウモロ
コシ澱粉 50g(4) ステアリ
ン酸マグネシウム 2g(1)、(2)および
20gのトウモロコシ澱粉を混和L、1.5gのトウモ
ロコシ澱粉と25〆の水とから作ったペーストとともに
顆粒化し、これに15gのトウモロコシ澱粉と(4)を
加え、混合物を圧縮錠剤機で圧縮して、錠剤1錠当たり
(1)0.5mgを含有する直径3InI11で錠剤2
000個を製造した。
値: C67,04H7,50N 9.77実験値:
C66,93H7,41N 9.52製剤例I (1) 3.4−ジヒドロ−6,7−シメトキシーN
−[5−[N−エチル−N−[(2−メトキシフェニル
)メチルコアミノ]ベンチルコナフタレン−2−カルボ
ン酸アミド・塩酸塩(実施例2−2に従って得た化合物
) Ig(2〉 乳糖
197g(3) トウモロ
コシ澱粉 50g(4) ステアリ
ン酸マグネシウム 2g(1)、(2)および
20gのトウモロコシ澱粉を混和L、1.5gのトウモ
ロコシ澱粉と25〆の水とから作ったペーストとともに
顆粒化し、これに15gのトウモロコシ澱粉と(4)を
加え、混合物を圧縮錠剤機で圧縮して、錠剤1錠当たり
(1)0.5mgを含有する直径3InI11で錠剤2
000個を製造した。
製剤例2
(1) 3.4−ジヒドロ−6,7−シメトキシーN
−[5−[N−エチル−N−[(2−メトキシフェニル
)メチル]アミノ]ペンチル]ナフタレン−2−カルボ
ン酸アミド・塩酸塩(実施例2−2に従って得た化合物
) 2g(2)乳糖
196g(3) トウモロコ
シ澱粉 50g(4) ステアリン
酸マグネシウム 2g(1)、(2)および2
0gのトウモロコシ澱粉を混和し、15gのトウモロコ
シ澱粉と25.wfの水から作ったペーストとともに顆
粒化し、これに15gのトウモロコシ澱粉と(4)を加
え、混合物を圧縮錠剤機で圧縮して、錠剤1錠当たり(
lNmgを含有する直径51の錠剤2000個を製造し
た。
−[5−[N−エチル−N−[(2−メトキシフェニル
)メチル]アミノ]ペンチル]ナフタレン−2−カルボ
ン酸アミド・塩酸塩(実施例2−2に従って得た化合物
) 2g(2)乳糖
196g(3) トウモロコ
シ澱粉 50g(4) ステアリン
酸マグネシウム 2g(1)、(2)および2
0gのトウモロコシ澱粉を混和し、15gのトウモロコ
シ澱粉と25.wfの水から作ったペーストとともに顆
粒化し、これに15gのトウモロコシ澱粉と(4)を加
え、混合物を圧縮錠剤機で圧縮して、錠剤1錠当たり(
lNmgを含有する直径51の錠剤2000個を製造し
た。
[実験例]
本発明化合物のコリンエステラーゼ阻害作用を(ace
tyl −[’H])−アセチルコリンを使用して検討
した。すなわち、コリンエステラーゼ源として、fis
tar 雄性ラット大脳皮質ホモジネートのS1画分
を用い、基質として(acetyl −[”Hコ)−ア
セチルコリンを、また被検体として本発明化合物を添加
し、30分間インキコベートの後に反応を止め、トルエ
ン系シンナレーターを加えて振とうし、反応により生成
した[3H]−酢酸をトルエン層に移行させて液体シン
チレーションカウンターで計数することにより、コリン
エステラーゼ活性を求めた。
tyl −[’H])−アセチルコリンを使用して検討
した。すなわち、コリンエステラーゼ源として、fis
tar 雄性ラット大脳皮質ホモジネートのS1画分
を用い、基質として(acetyl −[”Hコ)−ア
セチルコリンを、また被検体として本発明化合物を添加
し、30分間インキコベートの後に反応を止め、トルエ
ン系シンナレーターを加えて振とうし、反応により生成
した[3H]−酢酸をトルエン層に移行させて液体シン
チレーションカウンターで計数することにより、コリン
エステラーゼ活性を求めた。
被検化合物のコリンエステラーゼ阻害活性は50%阻害
濃度(IC5o)で表わした。同じ方法によりフィゾス
チグミンのコリンエステラーゼ作用も測定した。結果を
第3表に示す。
濃度(IC5o)で表わした。同じ方法によりフィゾス
チグミンのコリンエステラーゼ作用も測定した。結果を
第3表に示す。
(以下余白)
例えば、化合物2−1は実施例2の化合物番号1を表わ
す。
す。
上記結果から本発明の化合物が優れたアセチルコリンエ
ステラーゼ阻害活性を示すことがわかる。
ステラーゼ阻害活性を示すことがわかる。
代理人 弁理士 岩 1) 弘
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は水素原子又は低級アルキル基を、R^
2は置換基を有していてもよい芳香族基を、R^3は水
素原子又は低級アルキル基もしくは置換基を有していて
もよい芳香族基を、nは3〜7の整数を、R^4は水素
原子、低級アルキル基又はアシル基を、Aは式−(CH
_2)_l−(式中、lは0、1又は2を示す)又は式
−CR^5=CR^6−(式中、R^5、R^6はそれ
ぞれ、水素原子、低級アルキル基又は置換基を有してい
てもよいフェニル基を示す。)で表わされる基をBは置
換基を有していてもよい環状基を示す。但し、B−A−
は式 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼ (式中、Xは置換基を示しlは前記と同意義)を除く。 ]で表わされる酸アミド誘導体又はその塩。 2、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Zは水酸基またはカルボン酸の反応性基を示し
、B、Aは請求項1記載の通りの意義である。]で表わ
される化合物と、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1、R^2、R^3、R^4及びnの各記
号は請求項1に記載した通りの意義を有する。]で表わ
される化合物またはその塩を反応させて、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中の各記号は前義の通りである。]で表わされる酸
アミド誘導体又はその塩を製造するか、又は(B)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中の各記号は前義の通りである。]で表わされる化
合物又はその塩に、低級アルキル基を導入するか、又は
アシル化をほどこして式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^4′は低級アルキル基もしくはアシル基を
示し、他の各記号は前義の通りである。]で表わされる
酸アミド誘導体又はその塩を製造することを特徴とする
請求項1記載の化合物の製造法。 3、請求項1記載の酸アミド誘導体またはその塩を含有
することを特徴とするコリンエステラーゼ阻害剤。 4、脳機能改善剤である請求項3記載の剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3465489A JP2730135B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 酸アミド誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3465489A JP2730135B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 酸アミド誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02212459A true JPH02212459A (ja) | 1990-08-23 |
JP2730135B2 JP2730135B2 (ja) | 1998-03-25 |
Family
ID=12420427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3465489A Expired - Fee Related JP2730135B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | 酸アミド誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2730135B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5750542A (en) * | 1993-09-28 | 1998-05-12 | Pfizer | Benzisoxazole and benzisothizole derivatives as cholinesterase inhibitors |
JP2002508357A (ja) * | 1997-12-17 | 2002-03-19 | クリンゲ・ファルマ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | 細胞増殖抑制剤及び免疫抑制剤として有用なアリール−置換ピリジルアルカン、アルケン及びアルキンカルボキサミド類 |
JP2008509184A (ja) * | 2004-08-10 | 2008-03-27 | ノバルティス アクチエンゲゼルシャフト | 有機化合物 |
JP2012529467A (ja) * | 2009-06-09 | 2012-11-22 | トポターゲット・アクティーゼルスカブ | 酵素ニコチンアミドホスホリボシルトランスフェラーゼの阻害剤としてのピリジニル誘導体 |
-
1989
- 1989-02-13 JP JP3465489A patent/JP2730135B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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