JPH0220936B2 - - Google Patents

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JPH0220936B2
JPH0220936B2 JP20692383A JP20692383A JPH0220936B2 JP H0220936 B2 JPH0220936 B2 JP H0220936B2 JP 20692383 A JP20692383 A JP 20692383A JP 20692383 A JP20692383 A JP 20692383A JP H0220936 B2 JPH0220936 B2 JP H0220936B2
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light
wavelength
measurement
wavelength band
characteristic absorption
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Akio Shinohara
Yoshiaki Arakawa
Fumio Inaba
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Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
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Showa Denko KK
Shingijutsu Kaihatsu Jigyodan
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/25Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
    • G01N21/31Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
    • G01N21/35Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
    • G01N21/3504Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis

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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、測定地点が遠く離れている箇所での
エチレンガス濃度測定に好適なガス濃度測定法お
よびその装置に関するものである。
エチレンガスは石油化学コンビナートのエチレ
ンクラツカーで知られるように高分子材料の主要
原料であつて、国内においても年産数百万tも生
産されている有用なガスであるが、他方エチレン
は可燃性ガスであつて、その爆発範囲は空気中濃
度2.7vol.%〜36vol.%とその範囲が広い。すなわ
ち、ガス漏洩に充分注意を払わないと重大な災
害、人身事故を引き起しかねない。扱うガスの規
模が大であることから、この防爆、防災のための
有効な漏洩検知、警報機器、システムの開発が望
まれるところである。そして、コンビナートの場
を対象として考えれば、集中監視室からの遠隔測
定が望まれること、そして着火源を持たず、本質
的に安全な防爆検知方式であることが必須とな
る。
従来より用いられている半導体式ガスセンサや
燃焼式ガスセンサ、光干渉式検知方法ではガスの
選択検知や動作の安定性、湿度の影響、稀薄ガス
の検知等々で問題があり、さらに保守の面を考慮
しなければならない点など不利、不便であつた。
また、遠隔監視、遠隔測定の場合、電気信号が送
受されるので電磁誘導による誤報やケーブルの損
傷による事故誘発などの危険性も無視することが
できなかつた。
本発明は、前述の事情に鑑みてなされたもので
あつて、エチレンガスの漏出を確実に、迅速に検
知して警報を発するようにしたものであつて、厳
しい使用条件下でも信頼性が高く、実時間測定が
でき、かつ極めて遠隔の箇所における測定が可能
であると共に事故誘発などの危険性の全くないエ
チレンガス濃度の測定方法およびその装置を提供
することにある。
以下図面を参照しながら本発明のエチレンガス
濃度の測定方法およびその装置の詳しい内容を説
明する。
本発明は、近年光通信として開発された例えば
石英系光フアイバーのような光フアイバーを利用
するものである。
このような光フアイバーは1.0〜1.8μmの波長
領域では光の伝送損失が低く、特に1.1〜1.7μm
の波長領域では伝導損失が1dB/Km以下の極めて
低損失である。又、エチレンガスは1.610〜
1.705μmのブロードな波長帯域にわたつて連続し
た特性吸収帯がある。そして、上記のエチレンガ
スの特性吸収帯内には水蒸気(H2O)および炭
酸ガス(CO2)による光の吸収がほとんどない狭
い波長域が選択できる。本発明は以上のような新
たな知見にもとづいてなされたものである。即
ち、エチレンガスの特性吸収帯内の波長帯であつ
て、伝送路として用いる光フアイバーによる損失
が少なく、H2OやCO2の影響をほとんど受けるこ
とのない波長域を選ぶことによつて本発明の目的
である遠隔の地点においてエチレンガスの濃度を
正確に、しかも迅速に測定できるようにしたもの
である。
第1図は石英系光フアイバーの0.6〜1.8μmの
波長域における伝送損失を示すグラフである。こ
の図より明らかなように波長1.1〜1.7μmでの伝
送損失は1Km当り1dB以下である。そして、実用
的には可視域から1.8μmまでの波長域の光の伝送
に有効であることがわかる。この様な低損失の光
フアイバーを光伝送路として用いれば、遠隔地に
存在するエチレンガス濃度を吸光光度法によつて
測定することが可能である。
第2〜第4図は本発明の対象となるエチレンガ
スの特性吸収を示す一連の吸収波長帯を示す。こ
れらの一連の波長帯から特性吸収波長はブロード
な1つの波長域であることを示し、その領域は
1.610〜1.705μmであることがわかる。但し、こ
の1.610〜1.705μmの波長域は測定上の関係でこ
の領域にとどめたが、第2図、第4図から推定す
ると第5図に示すように1.605〜1.720μmにわた
つて存在すると思われる。本発明では明らかとな
つた波長帯1.610〜1.705μmを対象として取扱う
ことにする。第2〜第4図を通覧すると、ブロー
ドな波長帯ではあるが、特徴的な吸収波長として
1.6425μm,1.646μm,1.680μm,1.657μm,
1.6595μm,1.661μm,1.664μm,1.675μm,
1.679μm,1.6855μm,1.688μm等々が挙げられ
る。
第2〜第4図の特性吸収帯はエチレンガスの圧
力が650Torrで、測定セルの光路長が50cm、分光
器の分解能が0.1nmのときに得られたものであ
る。この特性吸収をみると、例えば1.6245μmで
は光の吸収率は90%に達しており、極めて光吸収
の大なることがわかる。すなわち、この波長を測
定波長として選べばエチレンガスの濃度測定上有
利となる。
エチレンガスの濃度を吸光光度法によつて測定
する場合はまず、エチレンの特性吸収波長帯であ
る1.610〜1.705μmにおいて、少なくとも1つの
波長を中心波長とする光を選ぶ。実際にはこの光
は1つの狭い波長帯である。例えば帯域透過フイ
ルターによつて1.622〜1.627μmあるいは1.615〜
1.620μmなどの狭い波長帯が選ばれる。そして、
これらの狭い波長帯の光を含む光が発光源から発
せられ、エチレンガスの存在する測定セル(吸収
セル)中を光が通過した際に前述の狭い波長帯の
光がどの程度吸収されるかによつて、エチレンガ
スの濃度がその吸収率から検知される。
上述した狭い波長帯(測定波長)を1つ又は複
数個使つて、エチレンガスの濃度を吸光光度法に
よつて測定する場合には通常エチレンガスの特性
吸収帯以外の、すなわち、エチレンガスによつて
光の吸収が行なわれない波長域から、測定波長と
同様に少なくとも1つの波長を中心波長とする狭
い波長帯の光を選ぶ。この波長を参照波長と呼
ぶ。参照波長はエチレンガスの特性吸収帯の近傍
である1.58μmや1.75μm付近の波長域を選択す
る。参照波長、測定波長はH2O(水蒸気)やCO2
の影響をほとんど受けない波長を選ぶことが肝要
である。
エチレンガスによつて吸収された少なくとも1
つの測定波長とエチレンガスによつて光の吸収さ
れない少なくとも1つの参照波長との光強度比を
1つ又は複数個とることによつてエチレンガスの
濃度を精度よく検知、測定することができる。
第6図および第13図はH2Oの吸収波長特性
曲線を示すものである。これらの図より明らかな
ようにH2Oの強い吸収帯は1.2〜1.7μm帯におい
ては1.350〜1.393μmの波長帯に集中している。
従つて、この波長帯を除けば水分の影響の少ない
測定が可能である。同様にして、CO2の特性吸収
の強い波長帯4.0〜4.6μmを除いた波長帯を利用
することによつて炭酸ガスの影響の少ない測定が
可能となる。
以上述べた内容から明らかなように、例えば石
英ガラス系の光フアイバーを光伝送路として用
い、第2〜第4図に示すようなエチレンガスの特
性吸収波長帯を利用すれば遠隔地にあるエチレン
ガスの濃度を共存するH2O(水蒸気、水分)や
CO2さらには他の炭化水素系ガスの影響をほとん
ど受けることなく、又光伝送路における光損失な
どの影響もほとんど受けることなく高精度、高信
頼性にて測定ができる。
次に、本発明のエチレンガス濃度測定装置に用
いられる光源、すなわちエチレンガスの特性吸収
波長帯に対応する近赤外域の光を発光する光源に
ついて説明する。この波長域の光源としては、一
般に半導体レーザーダイオード(LD)、発光ダイ
オード(LED)、放電管(キセノンランプなど)、
加熱線などが挙げられる。いずれにしても測定波
長域をカバーする光を連続的に、あるいはパルス
的に発し、しかも発光エネルギー強度の大きいも
のほど低濃度ガスの検知ができるので望ましい。
LDは高出力が得られやすく、単色性が強いの
でエチレンガスの特性波長帯のようなブロードな
波長帯である場合は発振波長が選びやすく望まし
い。ただし、電源電圧の変動や温度変化などによ
る発振波長の変動がないように留意する必要があ
る。又LDを光源として用いる場合は、参照波長
用と測定波長用の少なくとも2つの異なるLDを
用いることが必要であるが、帯域透過フイルター
等の分光器を用いる必要はない。尚、参照波長用
のLD、あるいは測定波長用のLDの一方又は両方
において発光波長の異なるものを複数用いること
によつて感度や精度のより高い測定が可能とな
る。
LEDや放電管などは、出力は低いが出力の安
定性や長寿命性などは良い。又、発光スペクトル
はブロードであるのでこれらの光源を用いる場合
には、分光器を用いて検出波長帯を狭め、所望の
特性吸収波長帯や参照波長帯での選択した波長に
おける変化量をキヤツチして、エチレンガス濃度
を測定するようにすればよい。この場合の分光器
としては安価な帯域透過フイルター等が考えられ
る。本発明の実施例では帯域透過フイルターを用
いた。
ここで、帯域透過フイルターの透過幅は一般に
広く1〜数nm程度であり、被測定ガスの特性吸
収波長域が、この透過幅よりも狭い場合は効率的
に不利となる。しかし、本エチレンガスの特性吸
収波長帯は前述したように帯状として存在してい
るので、このような帯域透過フイルターを用いて
も測定は充分に行なえる。
第7図は中心波長が1.618μm、半値幅が5nmで
ある透過特性がガウス分布型の帯域透過フイルタ
ーを用い、このフイルターを透過した後の光の強
度分布を模式的に示した図である。この図におい
て、破線はエチレンガスが光路長50cmの測定セル
内に650Torrの圧力で含まれている場合を表わ
し、実線はエチレンガスが存在しない場合を示し
ている。この図における各曲線内の面積の差を実
線にて囲まれた面積で割ることによつてエチレン
ガスによる吸光比Aが求められる。このフイルタ
ーは、半値幅が例えば3nmや7nmのものを用い
ても良い。
第8図は上述したような方法にもとづいて構成
されたエチレンガス濃度測定装置の一実施例を示
すものである。本実施例は測定波長2ケと参照波
長1ケを使用してエチレンガス濃度を測定する装
置である。
この図において1はLEDよりなる光源であつ
て、連続発光またはパルス発光される。同図は連
続発光する場合のブロツクダイヤグラムを示した
が、パルス発光させる場合には、例えばマイクロ
コンピユーターからなる演算処理装置22がパル
ス信号処理にすぐれた装置であることおよびパル
ス発光のタイミングが演算処理装置22でわか
り、従つて信号処理のタイミングのとれる必要の
あることが異なるが、他は連続発光の場合と同様
である。ここでは、1のLED光源が連続発光す
る場合について説明する。1の光源より発光され
る例えば1.60μm帯(半値幅約0.1μm)の光は光
結合器2を経て光伝送路である低伝送損失の光フ
アイバーすなわち第1の光フアイバー、例えば石
英系光フアイバー3に送られる。この石英系光フ
アイバーは前述の第1図に示すような伝送特性を
有し、1.1〜1.7μmで極めて低伝送損失のもので
ある。したがつて、その長さが数Km〜10Kmのもの
であつても差しつかえない。この石英系光フアイ
バー3により伝送された光は結合器4bを経て測
定セル4に送り込まれる。この測定セル4は円筒
状体4aの両端に光結合器4b,4b′を設けた構
造であつて、同筒状体4aは測定ガスの自然流出
入を可能にするために多孔性焼結金属や連続気孔
構造のプラスチツクスフオームなどにて構成され
ている。なお、この測定セル4は円筒状に限定さ
れるものでなく、直方体状などの種々の形状の変
更が考えられる。この測定セル4の光路長(光結
合器4b,4b′の間の距離)は一例として50〜
100cmのものが用いられる。しかしエチレンガス
が低い濃度の場合には測定セルの光路長を長くし
たほうがよい。その場合、周知の多重光路型吸収
セル等を用いても良い。この測定セル4からの光
は光結合器4b′を経て低伝送損失の光フアイバー
すなわち第2の光フアイバー、例えば石英系光フ
アイバー5に伝送される。この石英系光フアイバ
ーも同様に低伝送損失のものが使用される。光フ
アイバー5によつて更に伝送された光は、光結合
器6を通つてハーフミラーにて構成されるビーム
スプリツター7に送られ、ここでまず2つの光束
に分けられる。第1の光束8は第1の帯域透過フ
イルタ9に送られ、第2の光束10は第2のビー
ムスプリツター11に送られ、ここでさらに2つ
の光束:第3の光束12および第4の光束13に
分けられる。第3の光束12は第2の帯域透過フ
イルタ14に送られ、第4の光束13は、第3の
帯域透過フイルタ15にそれぞれ送られる。
これらフイルタ9,14,15はいずれも薄膜
による光の干渉作用を利用した干渉フイルタであ
り、多層膜干渉フイルタなどが好適に用いられ、
中心波長での透過率ができるだけ高く、半値幅が
2〜5nmと狭いものが望ましい。そして、例え
ば、第1のフイルタ9の中心波長は1.618μmとさ
れ、第2のフイルタ14の中心波長は1.625μmと
されるか、あるいはこの逆の組み合わせとされ
る。また、第3のフイルタ15の中心波長はエチ
レンガスの特性吸収波長以外の波長、例えば
1.580μmが選ばれる。これらのフイルターの波長
は当然ながら水分、炭酸ガスの特性吸収をほとん
ど示さない波長として選ばれる。これによつて、
第1のフイルタ9及び第2のフイルタ14を透過
した光はエチレンガスの吸収によつて強度の低下
した1.618μmまたは1.625μmを中心とする光とな
り、また、第3のフイルタ15を透過した光は、
エチレンガスでの吸収には無関係な1.580μmを中
心とする波長分布がガウス分布形の光となる。こ
れらの光は、それぞれアバランシエフオトダイオ
ード(APD)やフオトダイオード(PD)(例え
ばGe半導体、PbS検出器)などで構成された第
1、第2、第3の光検出器16,17,18に送
られ、電気信号に変換され増幅器19,20,2
1にて増幅されたのち、マイクロコンピユーター
などから構成された演算処理装置22に送られ
る。演算処理装置22においては、第1の光検出
器16で検出された電気信号と、第3の光検出器
18で検出された電気信号とが比較され、波長
1.618μmでのエチレンガスの吸光比Aが求めら
れ、予め標準エチレンガスで求めた吸光比とエチ
レンガス濃度との関係を用いて演算処理が行なわ
れ、測定セル内に存在する気体中のエチレンガス
の1.618μmでの測定濃度が求められる。これと同
時に、第2の光検出器17で検出された電気信号
と第3の光検出器18で検出された電気信号とが
比較され、波長1.625μmでのエチレンガスの吸光
比A′が求められ同様にして1.625μmでの測定濃度
が求められる。そして、これら2つの測定濃度
は、さらに相互に比較され両者が誤差範囲内で同
一の場合はその結果が測定セル4内の気体のエチ
レンガス濃度として表示器23に表示される。ま
た、両者の間に所定値以上の偏差のある場合に
は、測定セル4内の気体にはエチレンガス以外の
不測のガス、例えば炭化水素系ガスが含まれてい
て、そのガスの特性吸収波長とエチレンのそれと
が重なるために生じた結果であるか、あるいは測
定装置の光結合器6以降の部分:ビームスプリツ
タ7,11、帯域透過フイルタ9,14,15、
光検出器16,17,18、増幅器19,20,
21に異常を生じたことを意味するので、その旨
の表示が表示器23に示される。なお、光結合器
6と第1のビームスプリツタ7との間にテスト用
発光源を設け、上記異常時に光結合器6からの光
を遮断し、上記テスト用光源を発光させて測定装
置自体の異常を判断できるようにすれば、装置の
信頼性があがる。
第9図は、この発明の測定装置の他の例を示す
ものである。この例では、測定セル4を出た光は
たとえば石英系光フアイバーのような低損失の光
フアイバー5を通り、光分岐路24によつて3つ
の光束に分けられ、それぞれ光結合器25,2
6,27からチヨツパ28を経て、第1のフイル
タ9、第2のフイルタ14、第3のフイルタ15
に送り込まれる点と、第1の光検出器16と第3
の光検出器18とからの電気信号が増幅器29に
送られ、第2の光検出器17と第3の光検出器1
8とからの電気信号が増幅器30に送られる点が
前例と異なるところである。この例ではチヨツパ
28によつて光検出器16,17,18からの電
気信号が交流となり、増幅等が容易である利点が
ある。
なお、上記例に限られず、光源1からの光を光
分岐路で複数の光に分割し、これら光を別々の石
英系光フアイバー3で複数の測定セル4……に送
り込み、複数の地点でのエチレンガスを同時に測
定するよう構成することもできる。
第10図は本発明の測定装置の第3の実施例を
示す図である。LEDよりなる光源1をパルス発
光させるために、マイクロコンピユーターからな
る演算処理装置22から信号が送られる。もつと
もこの信号を送らないで光源1を連続発光として
使用してもよい。測定セル4を通過した光は光フ
アイバー5によつて伝送されて光結合器6へ送ら
れる。ここで、(帯域透過)フイルター9,14,
15を有する回転セクター31によつて、順次参
照波長、測定波長の光が光検出器16へパルス信
号として送られる。このパルス信号がどの波長の
光であるかは回転セクターに別途設けられたフオ
トダイオード等の受光器とランプからなる同期信
号発生器32,33,34の信号が演算処理装置
22へ送られることによつて知られる。信号処理
については前述した内容と同じである。
本実施例では光検出器、増幅器が各々1ケで済
ませられるなどメリツトが大きい。また、最近の
マイクロコンピユーターの普及のめざましいこ
と、廉価化が進んでいることを考えれば、実用上
非常に有効な装置である。
第11図は、本発明の測定装置の第4の例を示
す図である。この例では、発光源としてLDを用
いたもので、例えばエチレンガスの特性吸収波長
帯内の波長である1.6245μmを発光の中心波長
(測定波長)とする第1の発光源1aと前記の特
性吸収波長以外の波長である1.580μmを発光の中
心波長(参照波長)とする第2の発光源1bと2
つの発光源を用いている点と多層膜干渉フイルタ
等の帯域透過フイルタ(分光器)を使用していな
い点で他の例と異なつている。これらLDは参照
波長用、測定波長用各々において、1つ以上用い
てもよいことはLEDを発光源とした説明と同様
である。
なお、LEDを発光源とした場合でも干渉フイ
ルタを使わないで済む点について述べる。LDに
比してLEDの発光波長はブロードであるが、そ
の幅(半値幅)は約0.1μmである。したがつて、
本発明のエチレンガスの場合1.65μmを中心波長
とする発光ダイオードと中心波長が1.55μmを中
心とする発光ダイオードを各々測定用、参照用と
して用いれば、LDの場合と同様の測定が可能と
なる。この場合、測定のための光量は大となるが
波長が選択的でないため、他の混在ガスの影響が
やや大きくなり測定精度、信頼性にやや欠けるこ
とが推測される。
この第11図の例では第1の発光源と第2の発
光源とからの光はチヨツパ28によつて交互に送
られ、光フアイバー3a,3b、光合波器35、
他の光フアイバー3cにて伝送されて測定セル4
に送られる。更に、測定セル4を通つた光は、光
フアイバー5により伝送されて光検出器16にて
検出される。光検出器16よりの出力電気信号は
増幅器19にて増幅され演算処理装置22に於て
演算等が行なわれ、表示器23にて濃度が表示さ
れる。尚、32はランプとフオトダイオード等の
受光器からなり、第1の発光源か第2の発光源か
を判別する同期信号発生器で、この発生器32か
らの信号にもとづいて検出器16からの電気信号
を判別する。
光フアイバーを用いて遠隔ガス検知する場合、
光フアイバーを往復用に別々、光伝送路として使
用するよりもなるべく1本の光フアイバー(例え
ば1Km)を用いて往復光路とした方が価格上有利
である点を考慮した装置について述べる。
第12図a,bは光分波器36と光合波器37
を用いて、光フアイバー3を光の往復用の長距離
フアイバーとして用いたものである。aは光が測
定セル4の一方から入射し、測定セル4の他方へ
伝送する形式を示し、bは測定セル4内で反射ミ
ラー38によつて光が入射側に戻される形式を示
してある。いずれにおいても、遠隔地まで光を伝
送するフアイバーは往路用、復路用を兼ねる1本
の光フアイバー3であつて、第二の光フアイバー
5はほんの一部しか使われないため光フアイバー
のコストが半分になる。なお、光分波器36は1
本の光フアイバーから複数本の光フアイバーへ伝
送光を分波し、また光合波器37は複数本の光フ
アイバーから1本の光フアイバーへ伝送光を合波
するために用いられている。
回路のその他の詳細は前述した例と同様であ
る。
以上説明した様に本発明のエチレンガス濃度の
測定方法によれば、エチレンガスの特性吸収波長
帯で、光フアイバーの最も低損失な波長領域でし
かもCO2,H2Oの吸収帯がほとんど存在しない狭
い波長帯を選択してエチレンガス濃度を測定する
ものであるから、極めて遠隔な地点よりCO2
H2O等の影響をほとんど受けることなく高精度
の測定が可能である。又、本発明の装置によれ
ば、発光源としてLDや安定性のよいLEDを、ま
た光伝送路として低伝送損失の石英系光フアイバ
ーを、波長選択に安価な帯域透過フイルターを用
いたものであるから、遠隔地点における測定を電
磁誘導を受けたり、ケーブル断線時の短絡事故を
生ずることなしに行なえ、しかも広い地域にわた
つて配置された複数の測定セルでの測定を集中監
視する場合などに好適である。また、吸光光度法
を利用しての測定であるので、実時間測定が可能
であり、エチレンガス濃度の変動に対して迅速な
対応が可能であつて、実用性の高い、高信頼性、
高精度の装置が提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は石英系光フアイバーの0.6〜1.8μmの
波長域における伝送損失を示すグラフである。第
2〜5図はエチレンガスの特性吸収を示す図であ
り第6図は1.3μm帯におけるH2Oの特性吸収を示
す図である。第7図は帯域透過フイルター透過後
の光の強度分布を模式的に示した図である。第8
図は本発明にかかるエチレンガス濃度測定装置の
一実施例を示すものであり、1…光源、2…光結
合器、3…光フアイバー、4…測定セル、4a…
円筒状体、4b,4b′…光結合器、5…光フアイ
バー、6…光結合器、7,11…ビームスプリツ
ター、8,10,12,13…光束、9,14,
15…帯域透過フイルター、16,17,18…
光検出器、19,20,21…増幅器、22…演
算処理装置、23…表示器である。 第9図は本発明の他の実施例であつて1〜23
は第8図と同じ、24…光分岐器、25,26,
27…光結合器、28…チヨツパ、29,30…
増幅器である。 第10図は本発明の第3の実施例であつて1〜
30は第9図と同じ、31…回転セクター、3
2,33,34…同期信号発生器である。 第11図は本発明の第4の実施例で1a,1b
…発光源、3a,3b,3c…光フアイバー、1
〜34は第10図と同じ、35…光合波器、36
…光分波器、37…光合波器である。 第12図は本発明の実施例中、光の往復用の長
距離フアイバー3を用いたもので1〜35は第1
1図と同じ、36,37…光位相差器、38…反
射ミラーである。 第13図は1.1〜1.7μm帯におけるH2Oの特性
吸収を示す図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 連続光またはパルス光を発する発光源からの
    光を伝送損失の小さい光フアイバーを通して、雰
    囲気ガスの流出入する測定セルへ伝送し、該測定
    セルを通して光検出器に伝送し、該光検出器にて
    検出して吸光光度法にてガス濃度を検出する方法
    で、エチレンガスの特性吸収波長帯である1.610
    〜1.705μmの波長帯内の少なくとも1つの波長を
    中心波長とした光を測定光とし、前記特性吸収波
    長帯外の波長帯において、少なくとも1つの波長
    を中心波長とした光を参照光とし、前記測定光と
    前記参照光を検出器にて検出して、その強度比を
    求めることによつて濃度を測定することを特徴と
    するエチレンガス濃度の測定方法。 2 エチレンガスの特性吸収波長帯である1.610
    〜1.705μmの波長領域内の波長を少なくとも含ん
    でいる波長領域の光を連続的あるいはパルス的に
    発する発光源と、雰囲気ガスの流出入する測定セ
    ルと、前記発光源の光を前記測定セルへ伝送する
    ために用いられる前記波長領域での伝送損失の少
    ない第1の光フアイバーと、前記測定セルからの
    光を光検出器へ伝送するために用いられる前記波
    長領域での伝送損失の少ない第2の光フアイバー
    と、前記測定セルからの光を前記特性吸収波長帯
    内の少なくとも1つの波長を中心波長とした測定
    光と、特性吸収波長帯外の波長帯において、少な
    くとも1つの波長を中心波長とした参照光とに分
    光する分光器と、該分光器にて分光された測定光
    と参照光の光を検出する前記光検出器と、該光検
    出器で検出された測定光の電気信号と参照光の電
    気信号との比を演算してエチレンガス濃度を求め
    るための演算処理装置とを備えたエチレンガス濃
    度測定装置。 3 連続光またはパルス光を発する発光源からの
    光を光分波器に入射し、該入射した光の全量を伝
    送損失の小さい第1の光フアイバーおよび光合波
    器を順次通して雰囲気ガスの流出入する測定セル
    へ伝送し、該測定セルを通つた後、第2の光フア
    イバーから前記の光合波器、第1の光フアイバー
    および光分波器を逆送して光検出器にて検出し、
    吸光光度法にてガス濃度を検出する方法で、エチ
    レンガスの特性吸収波長帯である1.610〜1.705μ
    mの波長帯内の少なくとも1つの波長を中心波長
    とした光を測定光とし、前記特性吸収波長帯外の
    波長帯において、少なくとも1つの波長を中心波
    長とした光を参照光とし、前記測定光と前記参照
    光を前記光検出器にて検出して、その強度比を求
    めることによつて濃度を測定することを特徴とす
    るエチレンガス濃度の測定方法。 4 エチレンガスの特性吸収波長帯である1.610
    〜1.705μmの波長領域内の波長を少なくとも含ん
    でいる波長領域の光を連続的あるいはパルス的に
    発する発光源と、該発光源からの光が入射し、全
    量伝送損失の小さい第1の光フアイバーの一端に
    出射する光分波器と、前記第1の光フアイバーの
    他端が接続された光合波器と、該光合波器からの
    光が入射し、雰囲気ガスの流出入する測定セル
    と、該測定セルからの光を伝送する他端が前記光
    合波器に接続された伝送損失の小さい第2の光フ
    アイバーと、前記測定セルより前記の第2の光フ
    アイバー、光合波器、第1の光フアイバーおよび
    光分波器と逆送された光を前記特性吸収波長帯内
    の少なくとも1つの波長を中心波長とした測定光
    と、特性吸収波長帯外の波長帯において、少なく
    とも1つの波長を中心波長とした参照光とに分光
    する分光器と、該分光器にて分光された測定光と
    参照光の光を検出する光検出器と、該光検出器で
    検出された測定光の電気信号と参照光の電気信号
    との比を演算してエチレンガス濃度を求めるため
    の演算処理装置とを備えたエチレンガス濃度測定
    装置。 5 エチレンガスの特性吸収波長帯である1.610
    〜1.705μmの波長帯内の少なくとも1つの波長を
    中心波長とする光を発するレーザーダイオードと
    前記特性吸収帯外の波長帯において、少なくとも
    1つの波長を中心波長とする光を発するレーザー
    ダイオードとを含む少なくとも2ケ以上のレーザ
    ーダイオードから成る発光源と、雰囲気ガスの流
    出入する測定セルと、前記発光源からの光を前記
    測定セルへ伝送するための伝送損失の少ない第1
    の光フアイバーと、前記測定セルを通つた後の光
    を光検出器へ伝送する伝送損失の少ない第2の光
    フアイバーと、該光フアイバーにより伝送された
    前記特性吸収波長帯内の波長の測定光と、前記特
    性吸収波長帯外の波長の参照光との強度を検出す
    る前記光検出器と、該光検出器で検出された測定
    光の電気信号と参照光の電気信号との比を演算し
    てエチレンガス濃度を求めるための演算処理装置
    とを備えたエチレンガス濃度測定装置。 6 エチレンガスの特性吸収波長帯である1.610
    〜1.705μmの波長帯内の少なくとも1つの波長を
    中心波長とする光を発するレーザーダイオードと
    前記特性吸収帯外の波長帯において、少なくとも
    1つの波長を中心波長とする光を発するレーザー
    ダイオードとを含む少なくとも2ケ以上のレーザ
    ーダイオードから成る発光源と、該発光源からの
    光が入射し、全量伝送損失の小さい第1の光フア
    イバーの一端に出射する光分波器と、前記第1の
    光フアイバーの他端が接続された光合波器と、該
    光合波器からの光が入射し、雰囲気ガスの流出入
    する測定セルと、該測定セルからの光を伝送する
    他端が前記光合波器に接続された伝送損失の小さ
    い第2の光フアイバーと、前記測定セルより前記
    の第2の光フアイバー、光合波器、第1の光フア
    イバーおよび光分波器と逆送された前記特性吸収
    波長帯内の波長の測定光と、前記特性吸収波長帯
    外の波長の参照光との強度を検出する光検出器
    と、該光検出器で検出された測定光の電気信号と
    参照光の電気信号との比を演算してエチレンガス
    濃度を求めるための演算処理装置とを備えたエチ
    レンガス濃度測定装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5134302A (en) * 1990-09-26 1992-07-28 Futrex, Inc. Method and means for generating synthetic spectra allowing quantitative measurement in near infrared measuring instruments
JP4746923B2 (ja) * 2005-01-07 2011-08-10 柴田科学株式会社 透過光量測定装置及び相対吸光度測定装置、並びにこれらの測定方法
JP2007212145A (ja) * 2006-02-07 2007-08-23 Toyota Central Res & Dev Lab Inc 過渡吸収測定装置
US8899097B2 (en) * 2011-10-18 2014-12-02 The Boeing Company Airborne impurities detection

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001235421A (ja) * 2000-12-27 2001-08-31 Idec Izumi Corp 光電スイッチ

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